JP2008045917A - 水素ガス濃度センサ及び水素ガス濃度測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明にかかる水素ガス濃度センサは、基板と、該基板上に隣接して形成された複数の水素検知膜とを有し、これら複数の水素検知膜は、薄膜層と該薄膜層の表面に形成された触媒層とを有している。各触媒層は、水素ガスに触れると光触媒作用で各薄膜層を可逆的に水素化して電気的抵抗値を可逆的に変化させ、各薄膜層は、水素ガス濃度変化対抵抗値変化の感度と水素ガス濃度測定範囲が相違する。したがって、本発明にかかる水素ガス濃度センサ及び水素ガス濃度測定装置は、水素ガス濃度が低い場合には、感度が高い薄膜層で、水素ガス濃度が高い場合には、測定範囲が広い薄膜層で、高精度かつ広範囲に水素ガス濃度を測定できる。
【選択図】図1
Description
本発明にかかる水素ガス濃度測定装置(請求項3)は、光触媒作用によって水素ガス濃度を測定する水素ガス濃度センサと、この水素ガス濃度センサに光を照射する光源と、水素ガス濃度センサを用いて水素ガス濃度を測定するデータ処理装置とを有している。データ処理装置は、水素ガス濃度センサが有する複数の水素検知膜の薄膜層の抵抗値を測定する抵抗測定部と、抵抗測定部が測定した各薄膜層の抵抗値から水素ガス濃度を測定する測定制御部とを有している。測定制御部は、水素化した各薄膜層における抵抗値が何れも所定の制限抵抗値(制限抵抗値については、実施例において詳細に説明する)に達していないとき(水素ガス濃度が低いとき)には、水素ガス濃度に対する抵抗値の変化の最も大きい薄膜層の抵抗値に基づいて、水素ガス濃度を測定し、各薄膜層のうち、抵抗値が制限抵抗値に達している薄膜層があるときには、抵抗値が制限抵抗値に達していない薄膜層の抵抗値に基づいて、水素ガス濃度を測定する。したがって該水素ガス濃度測定装置は、水素ガス濃度が低いときには、最も感度の高い薄膜層の抵抗値から水素ガス濃度を高精度に測定することができるから、また各薄膜層のうち、抵抗値が制限抵抗値に達している薄膜層があるときには、抵抗値が制限抵抗値に達していない薄膜層の抵抗値から水素ガス濃度を測定して、測定範囲を拡大することができるから、高精度かつ広範囲に水素ガス濃度を測定できる。
本発明にかかる水素ガス濃度センサでは、複数の水素検知膜が殆ど同一濃度の水素ガスに接するから、該水素ガス濃度測定装置が水素ガスを検知した場合において、抵抗測定部が各薄膜層の抵抗値の単位時間あたりの変化値を測定し、測定制御部が少なくとも2つの薄膜層の抵抗値の単位時間あたりの変化値を比較して、この比較値が所定の範囲を超える値であるときは、水素ガス濃度センサ、又は水素ガス濃度測定装置の測定結果に異常があると判断することができるから、水素ガス濃度センサ又は水素ガス濃度測定装置の故障を迅速に検知できる(請求項5)。
(水素ガス濃度センサの構成)
まず、本実施例における水素ガス濃度センサ10を図1ないし図3に基づき説明する。図1に示すように水素ガス濃度センサ10は、金属、ガラス、若しくはアクリル樹脂等の基板11と、基板11上に形成された第1の水素検知膜12a、第2の水素検知膜12b及び第3の水素検知膜12cを有している。図2に示すように第1の水素検知膜12aは、基板11の表面に形成された薄膜層13aと、薄膜層13aの表面に形成された触媒層14aとを有し、薄膜層13aの一端には第1電極15aが接続され、薄膜層13aの他端には第2電極16aが接続されている。同様に、第2の水素検知膜12bは薄膜層13bと触媒層14bを有し、薄膜層13bの一端には第1電極15bが接続され薄膜層13bの他端には第2電極16bが接続され(図1)、また第3の水素検知膜12cは薄膜層13cと触媒層14cを有し、薄膜層13cの一端には第1電極15cが接続され薄膜層13cの他端には第2電極16cが接続されている(図1)。
光源から光が照射された状態で、水素ガス濃度センサ10が有する第1の水素検知膜12a、第2の水素検知膜12b、第3の水素検知膜12cに水素ガスが触れると、触媒層14aないし14cの光触媒作用によって、薄膜層13aないし13cが水素化して、薄膜層13aないし13cの抵抗値が時間とともに増加して定常状態に達する。ここで、水素ガス濃度がd(ppm)の雰囲気(空気)が水素ガス濃度センサ10に接したときの、薄膜層13aの定常状態における抵抗値をRadとし、薄膜層13bの定常状態における抵抗値をRbdとし、薄膜層13cの定常状態における抵抗値をRcdとすると、Rad=2Rbd=4Rcdとなるように、薄膜層13aないし13cが形成されている。すなわち、第1の水素検知膜12aは、第2の水素検知膜12bより水素ガス濃度の測定感度が2倍高く、第2の水素検知膜12bは、第3の水素検知膜12cより水素ガス濃度の測定感度が2倍高い。もちろん、抵抗値Rad>抵抗値Rbd>抵抗値Rcdなる関係があれば、上記比例関係に限定されるものではない。ここで薄膜層13aないし13cの水素化による抵抗値の限界値を、それぞれ抵抗値Ram、Rbm及びRcmとすると、抵抗値Ramは抵抗値Rbmより若干抵抗値が高く、抵抗値Rbmは抵抗値Rcmより若干抵抗値が高くなるように各水素検知膜12aないし12cが形成されている。また、水素ガスの濃度が0(ppm)のときにおける薄膜層13aの抵抗値をRa0とし、薄膜層13bの抵抗値をRb0とし、薄膜層13cの抵抗値をRc0とすると、抵抗値Ra0、Rb0及びRc0の抵抗値は、それぞれ抵抗値Ram、Rbm、Rcmに比して極めて小さい値となる。したがって、薄膜層13aないし13cの抵抗値の変化範囲は略等しい。
次に、本発明にかかる水素ガス濃度測定装置の一実施例を図4に基づき説明する。水素ガス濃度測定装置20は、水素ガス濃度センサ10と、水素ガス濃度センサ10に光を照射する光源17と、データ処理装置30を有している。なお必要に応じ、水素ガス濃度センサ10及び光源17を筐体等で遮光して、外光による影響を排除するとともに、この筐体内に周囲の雰囲気を流通させて、雰囲気中の水素ガス濃度を測定してもよい。データ処理装置30は、水素ガス濃度センサ10が有する各水素検知膜12aないし12cの薄膜層13aないし13cの抵抗値を測定する抵抗測定部31、抵抗測定部31の動作を制御するとともに抵抗測定部31の測定データを処理する測定制御部32、及び測定制御部32によって処理された水素ガス濃度のデータ等を表示する表示部33を有している。抵抗測定部31は、薄膜層13aに所定の電流を供給し、第1電極15aと第2電極16aとの間の電圧降下を測定し、この電圧降下と上記電流値とに基づき、薄膜層13aの抵抗値を算出する。算出はアナログ・ディジタル変換された電圧降下と電流値とに基づき行われ、抵抗値はデジタルデータとして測定制御部32に伝送される。薄膜層13b及び13cの抵抗値も同様に算出され伝送される。測定制御部32は、例えばマイクロプロセッサとそのプログラムを収納したメモリを有し、単位時間(例えばdt(秒))ごとに薄膜層13aないし13cの抵抗値を測定するように抵抗測定部31を制御し、また抵抗測定部31から得た測定データ等を記録するとともに、水素ガス濃度等を所定の形式で表示部33に表示することができる。
次に、水素ガス濃度測定装置20における水素ガス濃度測定について、図5及び図7に基づき説明する。水素ガス濃度測定装置20は、薄膜層13aないし13cにおける抵抗値の限界値である抵抗値Ram、Rbm及びRcmのばらつきを考慮して、薄膜層13aないし13cにおける水素ガス濃度測定範囲の上限(抵抗値の上限値)をそれぞれ規定している。具体的には、抵抗値Ram、Rbm及びRcmのうち最も低い抵抗値、又はこの最も低い抵抗値より若干低い抵抗値を制限抵抗値Rmとして、薄膜層13aを抵抗値Ra0ないしRmの変化範囲で使用し、薄膜層13bを抵抗値Rb0ないしRmの変化範囲で使用し、薄膜層13cを抵抗値Rc0ないしRmの変化範囲で使用する(もちろん、薄膜層13aを抵抗値Ra0ないしRabmの変化範囲で使用し、薄膜層13bを抵抗値Rb0ないしRbmの変化範囲で使用し、薄膜層13cを抵抗値Rc0ないしRcmの変化範囲で使用してもよい)。
水素ガス濃度測定装置20は、各水素検知膜12aないし12cが有する薄膜層13aないし13cの抵抗値を測定し、図5に示す条件判断を行ったうえで、水素ガス濃度等を表示する。
水素ガス濃度が低濃度(濃度をd1(ppm)とする)の場合、すなわち薄膜層13aないし13cの抵抗値Ra1、Rb1、Rc1が、何れも制限抵抗値Rmに達しない(図6(a))場合には、データ処理装置30は、第1の水素検知膜12aが有する薄膜層13aの抵抗値Ra1に基づき、水素ガス濃度を表示する。具体的には、図5のフローチャートに示すように、データ処理装置30が、薄膜層13aの抵抗値Ra1と制限抵抗値Rmとを比較し、抵抗値Ra1が制限抵抗値Rmより小さいときには、薄膜層13aないし13cの抵抗値が、何れも制限抵抗値Rmに達していないと判断して(図5中のY1)、抵抗値Ra1に基づき水素ガス濃度を算出・表示する。すなわち水素ガス濃度測定装置20は、図7に示すように、第1の水素検知膜12aが有する薄膜層13aの抵抗値の変化範囲内(Ra0ないしRmの範囲内)において水素ガス濃度を高精度に測定できる。なお抵抗値Ra1<制限抵抗値Rm、抵抗値Rb1<制限抵抗値Rm、及び抵抗値Rc1<抵抗値Rmの関係を全て判断したうえで、抵抗値Ra1に基づき水素ガス濃度を算出・表示してもよい。仮に、水素ガス濃度が水素ガス濃度測定装置20の検知限界以下(薄膜層13aないし13cの抵抗値が下限値Ra0、Rb0、Rc0)の場合には、データ処理装置30は検知限界以下である旨表示してもよい。ここで、抵抗値Ra1<制限抵抗値Rmの条件が満たされないときには(図5中のN1)、データ処理装置30は、次に示す手順で水素ガス濃度を算出・表示する。
水素ガス濃度が低濃度ではない場合(このときの濃度をd2(ppm)とする)、すなわち抵抗値Ra1<制限抵抗値Rmの条件が満たされない場合には、第1の水素検知膜12aの薄膜層13aが制限抵抗値Rmに達したと判断して、データ処理装置30は、図5のフローチャートに示すように、薄膜層13bの抵抗値Rb2と制限抵抗値Rmとを比較し、抵抗値Rb2<制限抵抗値Rmのとき(図6(b))には、薄膜層13b及び13cの抵抗値抵抗値Rb2及びRc2が何れも制限抵抗値Rmに達していないと判断して(図5中のY2)、抵抗値Rb2に基づき水素ガス濃度を算出・表示する。すなわち、水素ガス濃度が中濃度の場合には、水素ガス濃度測定装置20は、第2の水素検知膜12bが有する薄膜層13bの抵抗値の変化範囲で水素ガス濃度を高精度に測定できる。なお、薄膜層13bは、抵抗値Rb0ないしRmの範囲で使用され、抵抗値Ram=2(抵抗値Rbm)なる関係があるから、抵抗値Rb0ないし概ね0.5Rmの範囲(図7中の破線)における水素ガス濃度測定は、第1の水素検知膜12aの薄膜層13aにおける抵抗値の測定結果に基づくことになる。ここで、抵抗値Rb2<制限抵抗値Rmの条件が満たされないときには(図5中のN2)、データ処理装置30は次に示す手順で水素ガス濃度を算出・表示する。
水素ガス濃度が低濃度でも中濃度でもなく高濃度の場合(このときの濃度をd3(ppm)とする)、すなわち抵抗値Rb2<制限抵抗値Rmの条件が満たされない場合には、データ処理装置30は、第2の水素検知膜12bの薄膜層13bが制限抵抗値Rm(限界値)に達したと判断して、図5のフローチャートに示すように、薄膜層13cの抵抗値Rc3と制限抵抗値Rmとを比較して、抵抗値Rc3<制限抵抗値Rm(図6(c))のときには、薄膜層13cの抵抗値だけが限界値に達していないと判断して(図5中のY3)、抵抗値Rc3に基づき水素ガス濃度を算出・表示する。もし、抵抗値Rc3<制限抵抗値Rmの条件が満たされないときには(図5中のN3)、データ処理装置30は測定限界を超えた水素ガス濃度である旨の表示を行い、抵抗値Ra1<制限抵抗値Rmの判断に戻る(図5)。なお、薄膜層13cは、抵抗値Rc0ないしRmの範囲で使用され、抵抗値Ram=2(抵抗値Rbm)=4(抵抗値Rcm)なる関係があるから、図7に示すように、抵抗値Rc0ないし概ね0.5Rmの範囲(図7中の破線)における水素ガス濃度測定は、第1の水素検知膜12a又は第2の水素検知膜12bの、薄膜層13a又は13bにおける抵抗値の測定結果に基づくことになる。
次に、図8に基づき、水素ガス濃度測定装置20による水素ガス濃度センサ又は水素ガス濃度測定装置の異常判断について説明する。水素ガス濃度測定装置20は、各水素検知膜12aないし12cが有する薄膜層13aないし13cの抵抗値を、単位時間(dt(秒))ごとに測定している。ここで、水素ガス濃度がd(ppm)のときに、薄膜層13aの定常状態における抵抗値Rad、薄膜層13bの定常状態における抵抗値Rbd、薄膜層13cの定常状態における抵抗値Rcdの間に、Rad=2Rbd=4Rcdなる関係が存すれば、dt(秒)の期間における薄膜層13aの抵抗値変化dRa、薄膜層13bの抵抗値変化dRb、薄膜層13cの抵抗値変化dRcの間には、dRa=2dRb=4dRcなる関係が存することになる。
11 基板
12a、12b、12c 水素検知膜
13a、13b、13c 薄膜層
14a、14b、14c 触媒層
17 光源
20 水素ガス濃度測定装置
30 データ処理装置
31 抵抗測定部
32 測定制御部
Rm 制限抵抗値
Claims (5)
- 基板と、この基板上に相互に隣接して形成された複数の水素検知膜とを有し、
前記複数の水素検知膜は、前記基板上に形成された薄膜層と、この薄膜層の表面に形成された触媒層とをそれぞれ有し、雰囲気中に含まれる水素ガスに触れると前記触媒層の光触媒作用によって、前記薄膜層を可逆的に水素化し、
前記各薄膜層は、水素化すると、水素ガス濃度に対しそれぞれ異なる感度を有して電気抵抗値が可逆的に変化することを特徴とする水素ガス濃度センサ。 - 前記各薄膜層がマグネシウム・ニッケル合金薄膜層又はマグネシウム薄膜層で形成され、前記各触媒層がパラジウム又は白金で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の水素ガス濃度センサ。
- 光触媒作用によって水素ガス濃度を測定する水素ガス濃度センサと、この水素ガス濃度センサに光を照射する光源と、前記水素ガス濃度センサを用いて水素ガス濃度を測定するデータ処理装置とを有する水素ガス濃度測定装置において、
前記水素ガス濃度センサが請求項1又は2に記載の水素ガス濃度センサであり、
前記データ処理装置は、前記水素ガス濃度センサが有する複数の水素検知膜の薄膜層の電気抵抗値を測定する抵抗測定部と、前記抵抗測定部が測定した前記各薄膜層の電気抵抗値から水素ガス濃度を測定する測定制御部とを有し、
前記測定制御部は、
水素化した前記各薄膜層の電気抵抗値が何れも所定の制限抵抗値に達していないときには、水素ガス濃度に対し最も高い感度で電気抵抗値が変化する薄膜層の電気抵抗値に基づいて、水素ガス濃度を測定し、
水素化した前記各薄膜層のうち、電気抵抗値が前記制限抵抗値に達している薄膜層があるときには、電気抵抗値が前記制限抵抗値に達していない薄膜層の電気抵抗値に基づいて、水素ガス濃度を測定すること
を特徴とする水素ガス濃度測定装置。 - 請求項3に記載の水素ガス濃度測定装置において、水素化した前記各薄膜層のうち、電気抵抗値が前記制限抵抗値に達している薄膜層があるときには、電気抵抗値が前記制限抵抗値に達していない薄膜層のうち、水素ガス濃度に対し最も高い感度で電気抵抗値が変化する薄膜層の電気抵抗値に基づいて、水素ガス濃度を測定することを特徴とする水素ガス濃度測定装置。
- 請求項3に記載の水素ガス濃度測定装置において、
該水素ガス濃度測定装置が水素ガスを検知した場合には、
前記抵抗測定部が前記各薄膜層の電気抵抗値の単位時間あたりの変化値を測定し、前記測定制御部が少なくとも2つの薄膜層における前記変化値を比較して、比較値が所定の範囲を超えるときは、水素ガス濃度センサ、及び水素ガス濃度測定装置の何れか一方又は双方に異常があると判断することを特徴とする水素ガス濃度測定装置。
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