JP2008041648A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 基体と、
   前記基体上に形成された多孔質膜と、
   前記多孔質膜上に形成された無機材料膜と、
   から構成されてなる質量分析用基板であって、
   前記無機材料膜は、前記基体に対して略垂直に形成された複数の凹部または凸部を有し、
   前記凹部または凸部の径は、１ｎｍ以上１μｍ未満であることを特徴とする質量分析用基板。
2. 前記多孔質膜は、平坦な表面を持ち、
   前記多孔質膜の複数の孔は、複数の界面活性剤分子の集合体が鋳型となって前記多孔質膜に形成された孔であり、実質的に均一な径を持つ、請求項１に記載の質量分析用基板。
3. 前記凹部または凸部の上部に、前記無機材料膜を構成する材料と異なる導電性の材料を有する、請求項１又は２に記載の質量分析用基板。
4. 前記無機材料膜は、シリコンまたは金属である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の質量分析用基板。
5. 前記無機材料膜の表面に、前記無機材料膜を形成する物質とは異なる物質である有機物を有する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の質量分析用基板。
6. 前記多孔質膜は、ケイ素を成分として含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の質量分析用基板。
7. 前記多孔質膜は、二酸化ケイ素を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の質量分析用基板。
8. 前記多孔質膜は、前記多孔質膜のＸ線回折分析において、１ｎｍ以上の構造周期に対応する角度領域に１つ以上の回折ピークを有する、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の質量分析用基板。
9. 基体上に多孔質膜を形成する工程と、
   前記多孔質膜上に無機材料膜を形成する工程と、
   前記無機材料膜の表面に、前記基体に対して略垂直に、１ｎｍ以上１μｍ未満の径の複数の凹部または凸部を形成する工程と、
   を有することを特徴とする質量分析用基板の製造方法。
10. 前記無機材料膜の表面に、前記無機材料膜を形成する物質とは異なる物質を形成する工程をさらに有する、請求項９に記載の質量分析用基板の製造方法。
11. 前記の凹部または凸部を形成する工程は、
    前記無機材料膜の表面にブロックポリマーの薄膜を形成する工程と、
    前記ブロックポリマーにミクロ相分離構造を発現させる工程と、
    前記ミクロ相分離構造を発現したブロックポリマーのうち、特定成分を選択的に除去する工程と、
    前記除去する工程で無機材料膜上に残存したブロックポリマーをマスクとして、前記無機材料膜をエッチングする工程と、
    を有する、請求項９又は１０に記載の質量分析用基板の製造方法。