JP4563162B2 - ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法 - Google Patents
ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4563162B2 JP4563162B2 JP2004357808A JP2004357808A JP4563162B2 JP 4563162 B2 JP4563162 B2 JP 4563162B2 JP 2004357808 A JP2004357808 A JP 2004357808A JP 2004357808 A JP2004357808 A JP 2004357808A JP 4563162 B2 JP4563162 B2 JP 4563162B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block copolymer
- substrate
- thermoplastic resin
- microphase
- resin substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Description
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
本発明の構造体は、熱可塑性樹脂基板と、前記熱可塑性樹脂基板上に形成された互いに非相溶であるポリマー鎖を持つブロックコポリマーで構成された膜からなるミクロ相分離体とを含み、前記熱可塑性樹脂基板及び前記ブロックコポリマーで構成された膜を共に延伸し、その後熱処理を施すことにより形成された構造体であって、前記ミクロ相分離体が互いに非相溶であるポリマー鎖を持つブロックコポリマーのラメラ構造であり、前記ラメラ構造が前記熱可塑性樹脂基板の主面に対して90°±20°の角度の範囲に配向し、かつ前記熱可塑性樹脂基板の面内方向の1方向にも配向していることを特徴とする。
本発明の構造体においては、前記熱可塑性樹脂基板は、表面に凹凸によるパターンが形成されていないことが好ましい。
本発明の構造体においては、前記ブロックコポリマーのポリマー鎖が、ポリスチレン及びポリブタジエンにより構成されていることが好ましい。
本発明の構造体においては、前記ブロックコポリマーが、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンからなるトリブロックコポリマーであることが好ましい。
本発明の構造体においては、前記ブロックコポリマーのポリマー鎖が、ポリスチレンとポリブタジエンとで構成され、前記ポリブタジエンの少なくとも一部が水添されていることが好ましい。
本発明のミクロ相分離体は、上記構造体に含まれることを特徴とする。
本発明のミクロ相分離体の製造方法は、延伸可能な熱可塑性樹脂基板上に、互いに非相溶であるポリマー鎖を持つブロックコポリマーで構成された膜を形成する工程と、前記熱可塑性樹脂基板と共に前記ブロックコポリマーで構成された膜を延伸した後に、前記延伸後の形状を保持させた状態で熱処理を施すことにより、前記熱可塑性樹脂基板の主面に対して90°±20°の角度の範囲に配向し、かつ前記熱可塑性樹脂基板の面内方向の1方向にも配向しているラメラ構造で構成されたミクロ相分離体を前記熱可塑性樹脂基板上に形成する工程と、を具備することを特徴とする。
本発明のミクロ分離体の製造方法においては、前記熱可塑性樹脂基板は、表面に凹凸によるパターンが形成されていないことが好ましい。
本発明のミクロ分離体の製造方法においては、前記延伸によって、少なくとも前記熱可塑性樹脂基板の面内方向の1方向に配向したミクロ相分離構造を形成させることが好ましい。
本発明のミクロ分離体の製造方法においては、前記熱処理の温度が、ブロックコポリマーを構成するブロックのうち、最も高いガラス転移温度(Tg)を有するブロックのTg以上で、前記ブロックコポリマーの分解温度より低い温度であることが好ましい。
本発明のミクロ分離体の製造方法においては、前記熱可塑性樹脂基板が、非晶質ポリエチレンテレフタレートで構成されることが好ましい。
図1は、基板13上にポリマーA11及びポリマーB12からなるブロックコポリマー10のミクロ相分離構造が形成されている図である。
(実施例1)
旭化成ケミカルズ株式会社製タフテックH1041(スチレンとブタジエンとのブロックコポリマーの二重結合を水添したトリブロックコポリマー。スチレンとブタジエンの重量比はスチレン30に対してブタジエン70)をブロックコポリマーとして、帝人化成製A−PET(0.5mm厚)を基板として用いた。タフテックH1041のTgは、温度に対する動的粘弾性の変化の変曲点を求める方法で測定した。動的粘弾性の測定は、粘弾性測定装置DVE−V4(レオロジ株式会社製、商品名)を用い、振動周波数35Hz、昇温速度1℃/分、測定温度−100℃〜150℃の範囲で、熱プレス圧縮成型で得た厚さ0.5mmのシートをサンプルとして測定した。熱プレス圧縮成型は、温度200℃、圧力150kg/cm2、圧縮時間5分で行った。実際に測定したタフテックH1041の動的粘弾性の変曲点は−57℃及び82℃の2箇所に存在し、それぞれブタジエン、スチレンのTgに相当する。タフテックH1041をシクロヘキサンに溶かし、固形分濃度2.5wt.%の塗布溶液を作製した。この塗布溶液を幅2cm、長さ5cmに切り出した基板上にスポイトで適量滴下し、およそ均一な膜厚になるよう広げ、室温にて放置し溶媒を揮発させた。
旭化成ケミカルズ株式会社製タフテックH1041(スチレンとブタジエンとのブロックコポリマーの二重結合を水添したトリブロックコポリマー。スチレンとブタジエンの重量比はスチレン30に対してブタジエン70)をブロックコポリマーとして、帝人化成製A−PET(0.5mm厚)を基板として用いた。タフテックH1041をシクロヘキサンに溶かし、固形分濃度2.5wt.%の塗布溶液を作製した。この塗布溶液を幅2cm、長さ8cmに切り出した基板上にスポイトで適量滴下し、およそ均一な膜厚になるよう広げ、室温にて放置し溶媒を揮発させた。上記サンプルに対して延伸を行わずに、金枠で挟んで固定し、130℃の熱プレス機で4時間熱処理を行った。
旭化成ケミカルズ株式会社製タフテックH1041(スチレンとブタジエンとのブロックコポリマーの二重結合を水添したトリブロックコポリマー。スチレンとブタジエンの重量比はスチレン30に対してブタジエン70)をブロックコポリマーとして、帝人化成製A−PET(0.5mm厚)を基板として用いた。タフテックH1041をシクロヘキサンに溶かし、固形分濃度2.5wt.%の塗布溶液を作製した。この塗布溶液を幅2cm、長さ8cmに切り出した基板上にスポイトで適量滴下し、およそ均一な膜厚になるよう広げ、室温にて放置し溶媒を揮発させた。
旭化成ケミカルズ株式会社製タフテックH1041(スチレンとブタジエンとのブロックコポリマーの二重結合を水添したトリブロックコポリマー。スチレンとブタジエンの重量比はスチレン30に対してブタジエン70)をブロックコポリマーとして、帝人化成製A−PET(0.5mm厚)を基板として用いた。タフテックH1041をシクロヘキサンに溶かし、固形分濃度2.5wt.%の塗布溶液を作製した。この塗布溶液を幅2cm、長さ8cmに切り出した基板上にスポイトで適量滴下し、およそ均一な膜厚になるよう広げ、室温にて放置し溶媒を揮発させた。上記サンプルに対して延伸を行わずに、金枠で挟んで固定し、130℃の熱プレス機で4時間熱処理を行った。
11 ブロックポリマーA
12 ブロックポリマーB
13 基板
31 延伸されたサンプル
32 穴のあいた金枠
51 ブロックコポリマー膜
52 基板
71 ブロックコポリマー膜
72 基板
Claims (11)
- 熱可塑性樹脂基板と、前記熱可塑性樹脂基板上に形成された互いに非相溶であるポリマー鎖を持つブロックコポリマーで構成された膜からなるミクロ相分離体とを含み、前記熱可塑性樹脂基板及び前記ブロックコポリマーで構成された膜を共に延伸し、その後熱処理を施すことにより形成された構造体であって、前記ミクロ相分離体が互いに非相溶であるポリマー鎖を持つブロックコポリマーのラメラ構造であり、前記ラメラ構造が前記熱可塑性樹脂基板の主面に対して90°±20°の角度の範囲に配向し、かつ前記熱可塑性樹脂基板の面内方向の1方向にも配向していることを特徴とする構造体。
- 前記熱可塑性樹脂基板は、表面に凹凸によるパターンが形成されていないことを特徴とする請求項1記載の構造体。
- 前記ブロックコポリマーのポリマー鎖が、ポリスチレン及びポリブタジエンにより構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の構造体。
- 前記ブロックコポリマーが、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンからなるトリブロックコポリマーであることを特徴とする請求項3記載の構造体。
- 前記ブロックコポリマーのポリマー鎖が、ポリスチレンとポリブタジエンとで構成され、前記ポリブタジエンの少なくとも一部が水添されていることを特徴とする請求項3又は請求項4記載の構造体。
- 請求項1から請求項5のいずれかに記載の構造体に含まれることを特徴とするミクロ相分離体。
- 延伸可能な熱可塑性樹脂基板上に、互いに非相溶であるポリマー鎖を持つブロックコポリマーで構成された膜を形成する工程と、前記熱可塑性樹脂基板と共に前記ブロックコポリマーで構成された膜を延伸した後に、前記延伸後の形状を保持させた状態で熱処理を施すことにより、前記熱可塑性樹脂基板の主面に対して90°±20°の角度の範囲に配向し、かつ前記熱可塑性樹脂基板の面内方向の1方向にも配向しているラメラ構造で構成されたミクロ相分離体を前記熱可塑性樹脂基板上に形成する工程と、を具備することを特徴とするミクロ相分離体の製造方法。
- 前記熱可塑性樹脂基板は、表面に凹凸によるパターンが形成されていないことを特徴とする請求項7記載のミクロ相分離体の製造方法。
- 前記延伸によって、少なくとも前記熱可塑性樹脂基板の面内方向の1方向に配向したミクロ相分離構造を形成させることを特徴とする請求項7又は請求項8記載のミクロ相分離体の製造方法。
- 前記熱処理の温度が、ブロックコポリマーを構成するブロックのうち、最も高いガラス転移温度(Tg)を有するブロックのTg以上で、前記ブロックコポリマーの分解温度より低い温度であることを特徴とする請求項7から請求項9のいずれかに記載のミクロ相分離体の製造方法。
- 前記熱可塑性樹脂基板が、非晶質ポリエチレンテレフタレートで構成されることを特徴とする請求項7から請求項10のいずれかに記載のミクロ相分離体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004357808A JP4563162B2 (ja) | 2004-12-10 | 2004-12-10 | ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004357808A JP4563162B2 (ja) | 2004-12-10 | 2004-12-10 | ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006159815A JP2006159815A (ja) | 2006-06-22 |
JP4563162B2 true JP4563162B2 (ja) | 2010-10-13 |
Family
ID=36662321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004357808A Expired - Fee Related JP4563162B2 (ja) | 2004-12-10 | 2004-12-10 | ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4563162B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5147307B2 (ja) * | 2006-07-11 | 2013-02-20 | キヤノン株式会社 | 質量分析用基板及び質量分析用基板の製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0454486B2 (ja) * | 1984-12-19 | 1992-08-31 | Daicel Chem | |
JPH04249570A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-09-04 | Kureha Chem Ind Co Ltd | ポリエステル樹脂組成物からなる延伸成形物 |
JPH07314611A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-12-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | 成形用積層樹脂シート |
JP2000072952A (ja) * | 1998-09-01 | 2000-03-07 | Japan Science & Technology Corp | 列状に配置された金属超微粒子を含有する金属・有機ポリマー複合構造体とその製造方法 |
JP2001253923A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Asahi Kasei Corp | ミクロ相分離構造を示す重合体 |
JP2004099667A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-02 | Kansai Tlo Kk | 垂直配向ラメラ構造を有するブロック共重合体膜作製方法 |
WO2004033541A1 (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | 熱収縮性フィルム |
JP2004143297A (ja) * | 2002-10-24 | 2004-05-20 | Kansai Tlo Kk | 導電性ミクロドメインを有するブロック共重合体膜 |
-
2004
- 2004-12-10 JP JP2004357808A patent/JP4563162B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0454486B2 (ja) * | 1984-12-19 | 1992-08-31 | Daicel Chem | |
JPH04249570A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-09-04 | Kureha Chem Ind Co Ltd | ポリエステル樹脂組成物からなる延伸成形物 |
JPH07314611A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-12-05 | Dainippon Ink & Chem Inc | 成形用積層樹脂シート |
JP2000072952A (ja) * | 1998-09-01 | 2000-03-07 | Japan Science & Technology Corp | 列状に配置された金属超微粒子を含有する金属・有機ポリマー複合構造体とその製造方法 |
JP2001253923A (ja) * | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Asahi Kasei Corp | ミクロ相分離構造を示す重合体 |
JP2004099667A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-02 | Kansai Tlo Kk | 垂直配向ラメラ構造を有するブロック共重合体膜作製方法 |
WO2004033541A1 (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-22 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | 熱収縮性フィルム |
JP2004143297A (ja) * | 2002-10-24 | 2004-05-20 | Kansai Tlo Kk | 導電性ミクロドメインを有するブロック共重合体膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006159815A (ja) | 2006-06-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Darling | Directing the self-assembly of block copolymers | |
Kim et al. | Morphological development in solvent-cast polystyrene− polybutadiene− polystyrene (SBS) triblock copolymer thin films | |
US20080233435A1 (en) | Polymer Thin Film, Patterned Substrate, Patterned Medium for Magnetic Recording, and Method of Manufacturing these Articles | |
Fukunaga et al. | Large-scale alignment of ABC block copolymer microdomains via solvent vapor treatment | |
JP5241106B2 (ja) | ブロック・コポリマーの改良型自己組織化パターン形成方法 | |
TW200819801A (en) | Wire grid polarizer | |
US8455082B2 (en) | Polymer materials for formation of registered arrays of cylindrical pores | |
Mansky et al. | Nanolithographic templates from diblock copolymer thin films | |
US9718250B2 (en) | Directed assembly of block copolymer films between a chemically patterned surface and a second surface | |
Fukunaga et al. | Self-assembly of a lamellar ABC triblock copolymer thin film | |
JP2009255497A (ja) | 可撓性基板上ミクロ相分離構造体、及びその製造方法 | |
US20080038467A1 (en) | Nanostructured pattern method of manufacture | |
KR20150120416A (ko) | 블록 공중합체의 자가조립에 의해 기판 상에 이격된 리소그래피 피처들을 제공하는 방법들 | |
JP2011243655A (ja) | 高分子薄膜、パターン媒体、及びこれらの製造方法、並びに表面改質材料 | |
CN105531360A (zh) | Dna输送控制设备及其制造方法、以及dna测序装置 | |
KR20140074427A (ko) | 나노 구조체의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 | |
TW201037051A (en) | A high aspect ratio adhesive structure and a method of forming the same | |
Xu et al. | Sequential, orthogonal fields: A path to long-range, 3-D order in block copolymer thin films | |
US20100055390A1 (en) | Microphase-separated structure on flexible substrate, and method of manufacture thereof | |
KR20120138349A (ko) | 반사형 편광자의 제조방법 | |
Yang et al. | Effects of the density of chemical cross-links and physical entanglements of ultraviolet-irradiated polystyrene chains on domain orientation and spatial order of polystyrene-block-poly (methyl methacrylate) nano-domains | |
JP5394807B2 (ja) | その表面にナノスケールの特徴を有し、特定の系に応じて厚みの全体または一部にわたってミクロ構造化されたポリマーフィルムを調製する方法 | |
JP4563162B2 (ja) | ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法 | |
CN105776126A (zh) | 用于制造排列成大面积单域的有机分子的柱状或层状结构的方法 | |
Bilchak et al. | Kinetic monitoring of block copolymer self-assembly using in situ spectroscopic ellipsometry |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071204 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100427 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100625 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100727 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100728 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130806 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |