JP2008034810A - アクチュエータ素子、及びアクチュエータ素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アクチュエータ素子における積層体10の製造を考慮した積層構造は、3種類の層パターンで形成されており、電極と変位層と電極層とをこの順序で繰り返し積層した構造になっており、電極層は電極層電極部領域15a、15bと電極層電極部領域16a、16bで、変位層は、変位部領域11cと、互いに導通しない変位層電極部領域15cと変位層電極部領域16cとから形成され、その積層形成手順は、その積層構造に従い、形成する各層を転写部に配置し、基板上に転写し重ねていくことにより、簡便に製造できる。
【選択図】図4
Description
図1を用いて、本実施形態に係るアクチュエータ素子1の構成を説明する。図1はアクチュエータ素子1の概略構成を示す断面図である。図には単独のアクチュエータ素子として示してあるが、後述するように多数のアクチュエータ素子を二次元的にアレイ配置し、二次元的な操作のために用いることも可能である。
図3は、アクチュエータ素子の二次元的な配置とそれに応じたアクチュエータ素子の駆動回路を示す図である。図3を用いて、アクチュエータ素子配列の駆動について説明する。
本実施形態のアクチュエータ素子1においては、積層体10が変位するアクチュエータ部であり、さらには積層体10を構成する各々の変位層11が電界により変位、すなわち膜厚の変化を生ずる。
図1で示したようなアクチュエータ素子を構成する部材について説明する。積層体10を構成する変位部、絶縁部、電極部の各領域、及び基板について代表的な材料を述べる。
アクチュエータ素子は、上述した電極材料、絶縁材料、そして高分子アクチュエータである有機変位材料を、これも既述したように適切な層パターンに配置して、順次積層することによって形成することができる。
まず各層形成を代表して、変位層形成工程の実施例を図5を参照して説明する。図5は製造工程を説明するための装置断面図である。
さらに、複数領域を有する変位層形成工程の実施例を図6を参照して説明する。図6(a)はスクイズローラによる薄層パターン形成の平面図であり、図6(b)はそれに対応する転写部の拡大断面図である。
さらに、積層する変位層と電極層を同じ製造法で形成した変位層形成工程及び電極層形成工程の実施例を図7を参照して説明する。図7(a)はスクイズローラによる変位層パターン形成の平面図であり、図7(b)は同じくスクイズローラによる電極層パターン形成の平面図である。
1a アクチュエータ素子
5 アクチュエータ素子アレイ
10 積層体
11 変位機能層(変位層)
11c 変位部領域
12 (第1の)電極機能層(電極層)
13 (第2の)電極機能層(電極層)
15 (第1の)電極部
15a、b、c 電極部領域
16 (第2の)電極部
16a、b、c 電極部領域
17 絶縁部
17a、b 絶縁部領域
20 基板
30 TFT素子
31 ゲート絶縁膜
32 パッシベーション層
33 ゲート電極
34 ソース電極
35 ドレイン電極
36 半導体部
37 コンタクトホール
38 コモン電極
51 コモン電極
52 ゲートバスライン
53 信号バスライン
54 ゲート用ドライバIC
55 信号用ドライバIC
61 吐出ノズル
62 アプリケータ
63 スクイズローラ
64 セパレータ
65 転写部
66 搬送体
71 有機変位材料
72 導電性材料
73 絶縁性材料
Claims (9)
- 電界の印加により厚さ方向に変位する複数の変位機能層と、
前記変位機能層の厚さ方向に電界を印加するために、前記変位機能層を挟持する複数の電極機能層と、
を含む積層体を備えたアクチュエータ素子であって、
前記変位機能層は、電界の印加により厚さ方向に変位する変位部領域と、該変位部領域によって隔てられた二つの変位層電極部領域とからなり、
前記電極機能層は、隣接する前記変位機能層の変位部領域と変位層電極部領域の界面付近に配置した絶縁部領域と、該絶縁部領域によって隔てられた二つの電極層電極部領域とからなり、
前記積層体は、前記変位機能層の二つの変位層電極部領域のそれぞれと、前記電極機能層の二つの電極層電極部領域のそれぞれが互いに導通し、前記変位部領域のそれぞれに電界を印加するための電極部をなしている、
ことを特徴とするアクチュエータ素子。 - 前記積層体は、前記電極機能層と前記電極機能層より厚みの大きい前記変位機能層とが交互に繰り返し積層されている、
ことを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータ素子。 - 前記変位機能層は、電界の印加により厚さ方向に変位する有機変位材料を含み、形成されている、
ことを特徴とする請求項1または2に記載のアクチュエータ素子。 - 請求項1または2に記載のアクチュエータ素子の製造方法であって、
転写装置の転写部に、有機変位材料を薄膜状に配置し、変位機能層を形成する変位層形成工程と、
前記変位層形成工程により形成された変位機能層を、転写装置の転写部から基板上に転写する変位層転写工程と、を含む、
ことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法。 - 前記変位層転写工程では、
転写される変位機能層を形成する有機変位材料は液体状である、
ことを特徴とする請求項4に記載のアクチュエータ素子の製造方法。 - 前記変位層形成工程では、
前記有機変位材料とともに電極材料が薄膜状に配置形成される、
ことを特徴とする請求項4または5に記載のアクチュエータ素子の製造方法。 - 転写装置の転写部に、電極材料及び絶縁材料を薄膜状に配置し、電極機能層を形成する電極層形成工程と、
前記電極層形成工程により形成された電極機能層を、転写装置の転写部から基板上に転写する電極層転写工程と、を含む、
ことを特徴とする請求項4乃至6の何れか1項に記載のアクチュエータ素子の製造方法。 - 前記変位層転写工程と前記電極層転写工程とを交互に繰り返し、基板状に変位機能層と電極機能層との積層を形成する、
ことを特徴とする請求項7に記載のアクチュエータ素子の製造方法。 - 請求項4乃至8の何れか1項に記載のアクチュエータ素子の製造方法であって、
前記変位層形成工程及び前記変位層転写工程では、
同時に複数個のアクチュエータ素子が転写、形成される、
ことを特徴とするアクチュエータ素子の製造方法。
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