JP4590919B2 - 微小突起群を備えた構造基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
Hf,Sc,Ti,Ta,Li,Nb,Ta,Zn,Nb,F,Zn,S,Ni,Au,Ag,Cuなどの元素が含まる。また、前記微小突起群を形成する有機ポリマーとは熱膨張係数が異なる樹脂,酸化膜,金属は、蒸着,スパッタ,メッキなどの薄膜形成技術で微小突起群の表面の一部に形成される。後に説明する微小突起群の温度制御による傾斜角の変化は、用いる微小突起群を形成する有機ポリマー,前記微小突起群の表面の一部に形成する材料,厚さによって変わるので、予め種々の実験によって、確認しておくのが良い。
図1は本実施例で作製した微小突起群104を備えた構造基板100の概略斜視図である。微小突起群104の材質はPMMAで、分子量は2万から60万である。微小突起群104と同じ有機ポリマーからなる基体102は、突起群と連続していて突起群を、しっかりと固定している。図1においては、微小突起群104は同じ形状で、縦,横方向に整列されているが、ランダムに形成されていても良い。また、突起群の高さ寸法,アスペクト比が、突起物が形成されている位置によって変化していても良い。このような変化は、本発明の製造法によってなし得る特徴である。
図2は他の実施例による突起群を備えた構造基板200の構造を示す斜視図であり、図3は微小突起物204の側面構造を示す図である。図4は図2,図3に示す微小突起群を備えた構造基板の製造工程を示すフローチャートである。
330nm、中間高さ位置で300nmである。柱状微小突起物204は上部約1μmの部分は平滑な表面状態であり、根元から約2μmの部分の表面は、図3に示すように、横方向の縞模様209を有する。
150ミリメートルのガラス製ウエハを用いた。基板401の表面にスピンコート法で分子量120,00のPMMAの樹脂膜404を塗布した。樹脂膜404の厚さは1.5μmである。次に、表面にピットを形成したモールド405を樹脂膜404にプレスした。モールド405は結晶方位(100)を有し、直径150ミリメートルのシリコンウエハである。モールド405を垂直に引き上げ柱状微小突起物406を形成した。図8に示すように、柱状微小突起物406のアスペクト比は、モールド405のピットのアスペクト比(約1)の約4倍である。アスペクト比の大きいnmレベルのピットをモールド405に形成することは一般に困難であるが、本実施例の手法を用いればアスペクト比の大きい柱状微小突起物406を容易に形成することができる。
μmの部分は、図3に示すように平滑な表面状態であり、根元から約2μmの部分の表面は縞模様209又は膨大部を有する場合がある。
図5は本発明の微小突起群を備えた構造基板200をアクチュエータ素子に適用した構造を示す斜視図である。
320μmなので、アスペクト比は8で、4以上の十分に大きいアスペクト比である。
(PMMA),厚さ550μmで幅100ミリメートルのガラス製第1基板203,PMMAを主成分とする相当幅40nmの壁状微小突起物204、及び該壁状微小突起物204の表面の1部に形成された平均厚さ40ナノメートルのアルミ膜からなる。
204の傾斜角を制御し、該微小突起群上に載せられた移動体208を移動することができる。
本実施例では、突起群を備えた構造基板200を温度変化により、入射光の透過率/反射率が変わる調光機能を有する光透過率/反射率制御素子に適用した一例を述べる。図7は本発明により作製した光透過率/反射率制御素子の概略構成図である。光透過率/反射率制御素子200は、厚さ0.5μm の薄膜202(PMMA),厚さ550μmで幅
100ミリメートルのガラス製基板203,PMMAを主成分とする相当幅40nm,相当長さ200nm,高さ320nmの壁状微小突起物204、及び該壁状微小突起物204の表面の1部に形成された平均厚さ40ナノメートルのアルミ層から構成されている。
図9は図10の製造法で作製した微小突起群を備えた流路チップ500の構造を示す斜視図である。流路チップ500は高さ3μmの窒化シリコン製のスペーサー501,厚さ0.5μm の樹脂膜502(酸化防止剤,難燃剤を添加したPMMA),厚さ550μmで幅1ミリメートルのシリコン製第1基板503,ポリカーボネート製の第2基板507及びPMMAを主成分とする相当直径300nmの柱状微小突起物506からなる。
(e)に示すモールド(精密金型)505を第1の樹脂膜502にプレスして樹脂膜の一部をピット内に圧入した後、モールド505を剥離した。これにより、図10(f)に示すように、柱状微小突起物506を形成した。なお、モールド505の背面に支持体509を設けて、樹脂膜への押圧力が一定になるようにし、かつ樹脂膜とモールド面が平行に維持されるようにする。
512を図10(h)に示すように重ね合わせた。次に第1の基板503と第2の基板
512を圧力10MPaを掛けながら150℃で2分間加熱し、図9に示す流路チップ
500を得た。なお、図10(g)の工程において、樹脂膜502と樹脂膜508とは接合され一体となっている。
Claims (10)
- 有機ポリマー製の基体に、該基体から伸びた有機ポリマー製の複数の突起物で構成される柱状微小突起群を有し、該柱状微小突起群の表面の一部が基体とは異なる材料で形成されており、前記微小突起群を構成する突起物の相当直径が10nmから500μm、高さが50nmから5000μmであって、該突起物の相当直径(D)に対する高さ(H)の比(H/D)が1以上であり、前記微小突起群の傾斜角度を熱制御によって変え、構造基板に入射する光の透過率又は反射率を制御することを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項1において、該突起物の相当直径(D)に対する高さ(H)の比(H/D)が4〜30であることを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項1において、該突起物の先端部の相当直径が該突起物の底面部の相当直径より小さいことを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項1において、該突起物の先端部に半径方向に膨らんだ部分を有することを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項1において、該突起物は、前記基体と接した根元から先端部に向けて細くなる部分を有していることを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 有機ポリマー製の基体に、該基体から伸びた有機ポリマー製の複数の突起物で構成される壁状微小突起群を有し、該壁状微小突起群の表面の一部が基体とは異なる材料で形成されており、前記壁状突起群を構成する突起物の相当幅が10nmから500μm、相当長さが相当幅の2倍以上、高さが50nmから5000μmであって、該突起物の相当幅(W)に対する高さ(H)の比(H/W)が1以上であり、前記壁状微小突起群の傾斜角度を熱制御によって変え、構造基板に入射する光の透過率又は反射率を制御することを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項6において、該突起物の相当幅(W)に対する高さ(H)の比(H/W)が4〜30であることを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項6において、該突起物の先端部の相当幅が柱状突起群の底面部の相当幅より小さいことを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項6において、該突起物の先端部に幅方向に膨らんだ部分を有することを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
- 請求項6において、該突起物は、該基体と接した根元から先端部に向けて細くなる部分を有していることを特徴とする微小突起群を備えた構造基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004133027A JP4590919B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 微小突起群を備えた構造基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2004133027A JP4590919B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 微小突起群を備えた構造基板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005318712A JP2005318712A (ja) | 2005-11-10 |
JP4590919B2 true JP4590919B2 (ja) | 2010-12-01 |
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ID=35445541
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4590919B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5211553B2 (ja) | 2006-06-27 | 2013-06-12 | コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 | アクチュエータ素子、及びアクチュエータ素子の製造方法 |
KR101336886B1 (ko) * | 2007-07-24 | 2013-12-06 | 삼성전자주식회사 | 엑츄에이팅 장치 및 그 제작 방법과, 이를 이용한 모듈변위 조정 장치 |
WO2011058889A1 (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-19 | コニカミノルタオプト株式会社 | 姿勢制御装置 |
JP6074939B2 (ja) * | 2012-07-27 | 2017-02-08 | ソニー株式会社 | 発電機 |
JP7306046B2 (ja) * | 2019-04-26 | 2023-07-11 | 三菱ケミカル株式会社 | ゲルアクチュエータ |
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JP2003111456A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Rikogaku Shinkokai | 圧電アクチュエータ及び能動点字装置並びにワーク支持装置 |
-
2004
- 2004-04-28 JP JP2004133027A patent/JP4590919B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04369009A (ja) * | 1991-06-11 | 1992-12-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 微小位置決め装置 |
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JP2005318712A (ja) | 2005-11-10 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060424 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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