JP2008028352A - 電子機器および電子機器の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】グラファイトの熱拡散特性を十分に活かすことが可能な電子機器を提供する。
【解決手段】電子機器1は、LEDチップ2を搭載するサブマウント3、およびLEDチップ2とサブマウント3とを接合する第1のソルダ層4aを有する発熱構造体10と、第1の金属層6、および第1の金属層6に積層されたグラファイト層5を有する放熱構造体20とを備え、放熱構造体10のグラファイト層5側に発熱構造体10が搭載されている。電子機器1は、グラファイト層5の、第1の金属層4aが積層された面とは反対側の面に第2の金属層7を有し、第2の金属層7とサブマウント3とが第2のソルダ層4bで接合されることで発熱構造体10と放熱構造体20とが接合されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、発熱体からの熱をグラファイトを用いて拡散、放熱する電子機器および電子機器の製造方法に関する。
発熱性部品から発生される熱の効率的な放熱は部品の誤作動防止や、製品の長寿命化の点で極めて重要である。このため、従来から、発熱を伴う部品を有する電気および電子機器においては各種放熱材が用いられている。特に、近年、電子機器の小型化、高性能化が進むにつれて高密度に集積されたCPU、あるいはLEDなどから発生する熱を効率良く逃がすため、黒鉛を主材としたグラファイトシートが用いられている。グラファイトシートは、熱伝導異方性を有しており、面方向への熱伝導性が良好であるという特性を有する。このため、グラファイトシートはLEDが作動する際に発生する局所的な熱を面方向に素早く伝導し、グラファイトシートの表面、あるいはグラファイトに接合された放熱部材の有効放熱面積を拡大することができ、高い放熱効率を得ることができる。
このような特性のグラファイトシートによる熱拡散について、図6に示すLEDチップを搭載した、グラファイトシートを備えた電子機器の模式的な断面図を用いて説明する。
電子機器100は、金属層101およびグラファイト層102からなる放熱構造体120上に、サブマウント103にLEDチップ104を搭載して構成された発熱構造体110を有する。LEDチップ104とサブマウント103とはAuSn等のハードソルダ106aにより接合されている。放熱構造体120と発熱構造体110とはハードソルダ106aよりも融点の低いSn等からなるソフトソルダ106bにより接合されている。LEDチップ104は不図示の樹脂により被覆されている。
以上の構造の電子機器100における熱伝達経路の概略を以下にとおりである。
LEDチップ104が作動することにより発生した熱は、ハードソルダ106aを介してサブマウント103へと伝達される。サブマウント103に伝達された熱はソフトソルダ106bを介してグラファイト層102へと伝達される。このようにして積層方向に伝達された熱は、グラファイト層102にて面方向に伝導される。グラファイト層102にて面方向に広く拡散された熱は、金属層101へと伝達され、金属層101の表面から空気中へと効率よく拡散される。
グラファイト層102がなく、発熱構造体110を金属層101に直接接合した場合、サブマウント103から金属層101へと伝達された熱は、面方向に伝導されるよりも主に厚さ方向へと伝導する。このため、放熱特性を向上させるために金属層101の面積を広くしても十分な放熱効果を得ることができなかった。
しかしながらグラファイト層102をサブマウント103と金属層101との間に介在させて面方向への熱伝導特性を上げてやることで金属層101の有効放熱面積を拡大させることが可能となり、効率よくLED等の発熱素子を冷却することが可能となる。
また、グラファイトシートと同様に高い熱拡散特性が期待できる炭素を主材とする高熱伝導カーボン材を用いたLEDパッケージが例えば特許文献1に開示されている。
特許文献1に開示されたLEDパッケージも、基本的構造は図6に示したものと同様である。図7に、特許文献1に開示されているLEDパッケージの主要部分の断面図を示す。LEDパッケージ210は枠体金属ベース211と、LEDチップ212と、このLEDチップ212に接続されるリード部材213を導出する絶縁部材214とを備える発光装置用パッケージにおいて、金属ベース211の枠内にある所定位置にLEDチップ212を高熱伝導カーボン材216と直に接するようろう材または接着剤で搭載して構成されている。金属ベース211はすり鉢状側壁部材218と底板部材219からなり、絶縁部材214は開口部215を形成すると共に外部導出用導電パターンが設けられ、LEDチップ212は底板部材上の開口部215に配置した高熱伝導カーボン材216に直に接して搭載され、ワイヤボンディング217により外部導出用導電パターンを経由してリード部材213と接続した構造のLEDパッケージである。高熱伝導カーボン材216は金属含浸炭素材(MICC)が使用されている。具体的にはカーボン粉末あるいはカーボン繊維を固めて焼成し、CuまたはAl等の金属を含浸させたものである。熱伝導はカーボンの二次元結晶面の格子振動で伝わり150〜300mW/℃の高い熱伝導性を示す。
特開2006−86391号公報
上述のように、グラファイトシートは面方向に高い熱伝導性を有するため、放熱材として有効である。しかしながら、炭素を主材とするグラファイトシートはハンダの濡れ性が良好とはいえず、グラファイトシート上にソルダ層を設けてサブマウントを実装するのが困難であった。このため、ソルダ層によってグラファイトシートとサブマウントとを接合することで高い熱伝達率を得られることがわかっていても、グラファイトシートとサブマウントとのソルダ層による接合を実現することができなかった。
代替方法としてサブマウントとグラファイトシートとを例えばネジ留め等により機械的に当接させたとしても微視的には大きな熱抵抗となる空気層が介在し、グラファイトシートの熱拡散特性を減殺してしまうこととなる。
サブマウントとグラファイトシートとの間に熱伝導性グリスを塗布することで空気層をなくすことは可能であるが、熱伝導性グリスの熱伝導率はソルダと比較すると小さいため、やはりグラファイトシートの熱拡散特性を活かし切ることができない。特許文献1に開示されているLEDパッケージも、高熱伝導カーボン材と発熱体であるLEDチップとがどのようにして熱的に接触させているのか開示されておらず、高熱伝導カーボン材の熱特性を活かしているとは言い難い。
このように、従来のグラファイトシートを有する電子機器は、発熱素子からグラファイトシートまでの間に大きな熱抵抗が存在することにより、グラファイトシートを用いたとしても所望の冷却特性を得ることができなかった。
また、グラファイトシートを有することで高い熱伝導性を得た場合、同一基板上に複数の素子等の搭載に際して問題を生じる場合が考えられる。例えば、LEDを搭載した後にコネクタをさらに搭載しようとすると、予め搭載しておいたLED接合用のハンダがコネクタをハンダ付けするために加えた熱が高熱伝導化されたことで伝導されて溶けてしまい、LEDの位置ずれを生じてしまう場合がある。このため、高い熱伝導性を有するグラファイトシートを備えた電子機器においてLEDが位置ずれを生じることなくコネクタを搭載可能な製造方法が必要となる。
そこで、本発明は、グラファイトの熱拡散特性を十分に活かすことが可能な電子機器を提供することを目的とする。
また、本発明は、高い熱伝導性を有する基板上に発熱素子およびコネクタを搭載可能な電子機器の製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため本発明の電子機器は、発熱素子、発熱素子を搭載する台座、および発熱素子と台座とを接合する金属を含有する第1の接合材を有する発熱構造体と、第1の金属層、および第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、放熱構造体のグラファイト層側に発熱構造体が搭載された電子機器において、グラファイト層の、第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を有し、第2の金属層と台座とが金属を含有する第2の接合材で接合されることで発熱構造体と放熱構造体とが接合されていることを特徴とする。
上記のとおり、本発明の電子機器は、第2の金属層をグラファイト層上に設けることで発熱構造体と放熱構造体との接合を第2の接合材によるものとすることができる。すわなち、ハンダの濡れ性の良好な部材をグラファイト層上に設けることで第2の接合材として例えばソルダ層を形成することができ、よって、発熱素子からグラファイト層までの熱の伝達経路における熱抵抗を低減させることができる。これによりグラファイト層の熱拡散特性を十分に活かすことができる。
また、本発明の電子機器における第2の金属層は、銅およびアルミニウムのいずれか一方とするのが好ましい。
また、第2の金属層の、グラファイト層に面する側と反対側の表面に防錆処理が施されていると好ましい。
また、本発明の電子機器における発熱素子はLED、CPU、ICであってもよい。
また、本発明の第1の接合材および第2の接合材はソルダ層であってもよい。
また、本発明の第1の接合材はハンダバンプまたは金バンプであってもよい。
なお、第1の接合材の融点は第2の接合材の融点よりも高いものが好ましい。
また、本発明の電子機器における台座はAlNおよびSiCのいずれか一方を主材とするものであってもよい。
本発明の電子機器は、発熱素子と、第1の金属層および第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、放熱構造体のグラファイト層側に発熱素子が搭載された電子機器において、グラファイト層の、第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を有し、第2の金属層上に形成された配線層と発熱素子とがハンダバンプまたは金バンプで接合されていることを特徴とする。
本発明の電子機器は、配線取り出し部を有する発熱電子素子と、第1の金属層、および第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、放熱構造体のグラファイト層側に発熱電子素子が搭載された電子機器において、グラファイト層の、第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を有し、発熱電子素子は、配線取り出し部が設けられている第1の面と、配線取り出し部が設けられていない第2の面とを有し、第2の金属層と発熱電子素子の第2の面とが接合されていることを特徴とする。
上記のとおり本発明の電子機器の発熱電子素子は、第2の面には配線取り出し部が設けられていないため、第2の金属層に、絶縁体などを介することなく直接搭載することができる。これにより、発熱電子素子と放熱構造体との間における熱抵抗を低減させることができ、グラファイト層の熱拡散特性を十分に活かすことができる。
また、本発明の電子機器の発熱電子素子は半導体素子であり、配線取り出し部は配線用ワイヤが電気的に接続されるP極およびN極であってもよい。この場合、特に半導体素子はLEDであってもよい。
また、本発明の電子機器の第2の金属層と第2の面とはソルダ層によって接合されているものであってもよい。
本発明の電子機器の製造方法は、発熱素子、発熱素子を搭載する台座、および発熱素子と台座とを接合する金属を含有する第1の接合材を有する発熱構造体と、第1の金属層、および第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、放熱構造体のグラファイト層側に発熱構造体およびコネクタが搭載された電子機器の製造方法において、グラファイト層の、第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を形成し、第2の金属層と台座とを金属を含有する第2の接合材で接合する工程と、第2の接合材によって第2の金属層に接合された台座上に発熱素子を第1の接合材で接合すると同時に、放熱構造体上にコネクタを金属を含有する第3の接合材で接合する工程とを含むことを特徴とする。
上記本発明の電子機器の製造方法によれば、発熱素子とコネクタとが同時に接合されるため、各接合材としてソルダ層が用いられた場合であっても、コネクタを搭載する際の熱が発熱素子を固定しているソルダ層を溶かして位置ずれを生じてしまうことがない。
本発明の電子機器の製造方法は、発熱素子、発熱素子を搭載する台座、および発熱素子と台座とを接合する金属を含有する第1の接合材を有する発熱構造体と、第1の金属層、および第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、放熱構造体のグラファイト層側に発熱構造体およびコネクタが搭載された電子機器の製造方法において、グラファイト層の、第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を形成し、第2の金属層と台座とを金属を含有する第2の接合材で接合する工程と、放熱構造体上に絶縁層を形成する工程と、絶縁層上に配線層を形成する工程と、配線層上にコネクタを金属を含有する第3の接合材で接合する工程と、絶縁層上にコネクタが第3の接合材で接合された後に、第1の金属層側から加熱することで第1の接合材を溶融させて発熱素子を台座上に接合する工程と、第1の金属層側からの加熱により第3の接合材が溶融する前に第1の金属層側からの加熱を停止する工程とを含むことを特徴とする。
第1の金属層側から加えられた熱が発熱素子を台座上に接合するための第1の接合材を溶融させるために要する時間と、コネクタを配線層に接合している第3の接合材を溶融させるために要する時間とを比較すると、後者のほうが絶縁層が介在していることで長くかかり、両者には時間差を生じる。上記本発明の電子機器の製造方法はこの時間差を利用して第3の接合材が溶融する前に加熱を停止することでコネクタを接合する第3の接合材を溶かすことなく、発熱素子を台座上に搭載することができる。
本発明によれば、グラファイト層上に第2の金属層が形成されているため、発熱素子の台座と、放熱構造体とをソルダ層により接合することができる。その結果、発熱体からグラファイト層への熱伝達が良好となり、グラファイト層の面方向への良好な熱伝導特性を十分活かして熱拡散させることができる。
また、本発明の電子機器の製造方法によれば、高い熱伝導率を有する基板上に発熱素子とコネクタとを位置ずれを生じることなく搭載することができる。
(第1の実施形態)
図1に本実施形態の電子機器1の構成を示す模式的な断面図を示す。
電子機器1は、第1の金属層6およびグラファイト層5からなる放熱構造体20上に、サブマウント3にLEDチップ2を搭載して構成された発熱構造体10を有する。そして、発熱構造体10と放熱構造体20とは、グラファイト層5上に第2の金属層7が設けられていることで第2のソルダ層4bにより接合されている。
放熱構造体20は、LEDチップ2からの熱を外気に拡散させるためのものであり、熱伝導性の良好な金属からなる第1の金属層6と、面方向の熱伝導性の良好なグラファイト層5とを有する。グラファイト層5は、第1の金属層6の、LEDチップ2が搭載される側の面に積層して設けられている。
発熱構造体10において、LEDチップ2とサブマウント3とはAuSn等の第1のソルダ層4aにより接合されている。この発熱構造体10は、放熱構造体20上に積層された絶縁層32および配線層31に形成された窓部40内に配置されており、配線層31とサブマウント3とは配線用ワイヤ33で接続されている。放熱構造体20と発熱構造体10とは第1のソルダ層4aよりも融点の低い第2のソルダ層4bにより接合されている。LEDチップ2は不図示の樹脂により被覆されている。
次に、発熱構造体10の各層について説明する。
サブマウント3はLEDチップ2を搭載するための台座であり、熱膨張係数の差によるストレスや歪みなどが発生しないよう、LEDチップ2の基板材料と比較的熱膨張係数が近い材料として熱伝導性の良好なAlN(窒化アルミニウム)やSiC(炭化ケイ素)等、セラミックスから成る絶縁基板が用いられる。
LEDチップ2は第1のソルダ層4aによりサブマウント3上に接合されている。第1のソルダ層4aとしては、Auを主材としたAuSnのソルダが好適である。AuSn(金−すず)を主材とした場合、融点は約280℃となる。
第2のソルダ層4bには第1のソルダ層4aよりも低融点のSn(すず)ベースのソルダが好適である。
次に、放熱構造体20の各層について説明する。
第1の金属層6は例えば、銅、アルミニウムなどが用いられる。なお、銅は熱伝導率が390(W/m・K)であり、熱拡散率は1.0〜1.4(cm2/s)である。一方、アルミニウムは熱伝導率が230(W/m・K)であり、熱拡散率は0.9(cm2/s)である。
グラファイト層5は、黒鉛を主材としたグラファイトシートであり、例えば「スーパーλGS(登録商標):株式会社タイカ製」が用いられる。スーパーλGS(登録商標)の場合、面方向の熱伝導率は400(W/m・K)であり、熱拡散率は3.0〜3.2(cm2/s)である。
第2の金属層7は、発熱構造体10と放熱構造体20との間の熱抵抗を低減させることでグラファイト層5の熱拡散特性を十分発揮できるようにするためのものである。第2の金属層7としては銅などの熱伝導性の良好な金属の薄膜を用いると好ましい。グラファイト層5とサブマウント3とをソルダ層によって接合しようとしても両者のハンダの濡れ性が良好でないため、両者をハンダにより直接接合するのは極めて困難である。そこで、本実施形態では第2の金属層7をグラファイト層5上に設けることでハンダの濡れ性を向上させている。つまり、本実施形態の電子機器1は、第2の金属層7を有することで発熱構造体10と放熱構造体20とを第2のソルダ層4bで接合させることが可能となっている。第2の金属層7および第2のソルダ層4bは熱伝導率が一般的に熱伝導グリスに比べ高いため、発熱構造体10からの熱を放熱構造体20に効率よく伝達することができる。また、第2の金属層7としては、グラファイト層5への積層の際や発熱構造体10の接合の際の作業性が確保可能な程度でできるだけ薄く形成された薄膜とすることが好ましい。さらには、第2の金属層7に銅など酸化しやすい素材を用いる場合、熱伝達特性を維持するために金メッキなどの防錆処理を行うとより好適である。なお、第2の金属層7にアルミニウムを用いる場合、熱伝導特性は良好であるがハンダの濡れ性が良好でないため、表面にメッキ処理を行うなどしてハンダの濡れ性を向上させておく必要がある。
次に、電子機器1の製造方法についての概略を説明する。
本実施形態の電子機器1は、発熱構造体10と放熱構造体20とを個別に製作しておき、最後に両者を接合することで製造する。
発熱構造体10の製作方法は以下のとおりである。サブマウント3上にAuSnからなる第1のソルダ層4aを形成しておく。次いで第1のソルダ層4aを溶融させておき、この状態でLEDチップ2を第1のソルダ層4aを載置する。第1のソルダ層4aが冷却固化することでサブマウント3上にLEDチップ2が搭載され発熱構造体10が完成する。
放熱構造体20の製作方法は以下のとおりである。
まず、第1の金属層6上にグラファイト層5を積層する。次いでグラファイト層5の、第1の金属層6が積層されている面とは反対側の面に第2の金属層7を積層し、放熱構造体20が完成する。
次に、第2の金属層7を有する放熱構造体20の第2の金属層7上に窓部40が形成された絶縁層32および配線層31を順次積層する。
次に、窓部40の第2の金属層7上にSnを主材とする第2のソルダ層4bを形成する。第2の金属層7はハンダの濡れ性が良好であるため、第2のソルダ層4bは良好な状態で第2の金属層7上に形成される。
以上のようにして形成された第2のソルダ層4b上に、発熱構造体10を、サブマウント3が第2のソルダ層4bに面するようにして載置し、第2のソルダ層4bの融点まで加熱する。なお、第1のソルダ層4aの融点は第2のソルダ層4bの融点よりも高いため、当該加熱により溶融することはない。
もっとも、第2のソルダ層4bは第1のソルダ層4aの融点よりも低いものに限定されるものではなく、いずれも同じ融点のソルダを用いてもよい。仮に同じ融点のソルダを用いても第1のソルダ層4aは当該加熱により溶融することはない。これは以下の理由によるものである。
サブマウント3上には金のパターン(不図示)が形成されている。この金のパターンは、第2のソルダ層4bを溶融するための熱がサブマウント3を伝わることで溶融する。金のパターンは溶融すると第1のソルダ層4aに溶け込み、これにより第1のソルダ層4aの金の含有量が上がることとなる。金の含有量が上がると、第1のソルダ層4aの融点は高くなる。これにより、第1のソルダ層4aは第2のソルダ層4bよりも融点が高くなるので第2のソルダ層4bを溶融するための加熱によっても溶融することはない。
最後にサブマウント3と配線層31とを配線用ワイヤ33で接続して電子機器1が完成する。
次に、本実施形態の電子機器1における、LEDチップ2で発生した熱の熱伝達経路について説明する。
LEDチップ2が作動することにより発生した熱は、まず、第1のソルダ層4aを介してサブマウント3へと伝達される。
サブマウント3に伝達された熱は第2のソルダ層4bを介して第2の金属層7へと伝達され、次いでグラファイト層5へと伝達される。このようにサブマウント3からグラファイト層5への熱伝達は第2のソルダ層4bおよび第2の金属層7を介してなされる。本実施形態の場合、第2の金属層7をグラファイト層5上に設けたことで良好な熱伝導性を有する第2のソルダ層4bによる発熱構造体10と放熱構造体20との接合を可能にしている。このため、発熱構造体10と放熱構造体20との間の熱抵抗を極力小さくすることができる。その結果、LEDチップ2で発生した熱をグラファイト層5に効率よく伝達することができる。
LEDチップ2からグラファイト層5まで積層方向に伝達された熱は、グラファイト層5にて面方向に伝導される。グラファイト層5にて面方向に広く拡散された熱は、第1の金属層6へと伝達され、第1の金属層6の表面から空気中へと効率よく拡散される。なお、電子機器1を他の装置に取り付けた場合は、当該装置を放熱部材として機能させ、放熱面積を拡大させることができる。例えば、電子機器1を金属製の筐体からなる照明器具本体に、第1の金属層6側が照明器具本体に当接するように取り付けた場合、第1の金属層6から照明器具本体に熱は伝達され、照明器具本体の表面から空気中へと放熱されることとなる。なお、放熱効率を高めるため、第1の金属層6を放熱フィンやヒートパイプに取り付けた場合も同様である。
グラファイト層5をサブマウント3と第1の金属層6との間に介在させて面方向への熱伝導特性を上げてやることで第1の金属層6の有効放熱面積を拡大させることが可能となり、効率よくLED等の発熱素子を冷却することが可能となる。しかしながら、上述した従来例等、発熱構造体10と放熱構造体20との間の大きな熱抵抗が介在したままでは、グラファイトの特性を十分活かすことができなかった。
これに対して本願発明は、ハンダの濡れ性が高い第2の金属層7をグラファイト層5上に形成することで、第2のソルダ層4bによる発熱構造体10と放熱構造体20との接合を実現し、発熱構造体10と放熱構造体20との間の熱抵抗を小さく抑えることが可能となった。また、第2の金属層7は高熱伝導率の金属薄膜とすることで熱抵抗をより小さなものとしている。
ここで、本実施形態の他の構成を図2に示す。
図1に示した構成ではLEDチップ2とサブマウント3とは第1のソルダ層4aによって接合されていた。これに対して図2に示す電子機器1bの構成は、LEDチップ2とサブマウント3とはバンプ4dによってフリップチップ接合されている。バンプ4dはハンダバンプであってもよいし、あるいは金バンプであってもよい。なお、図1に示す構成と図2に示す構成とは第1のソルダ層4aに代えてバンプ4dを用いた以外の構成は同様であるため、各部の符号は図1で用いた符号と同じ符号で示している。本構成も、LEDチップ2からの熱はバンプ4dを介してサブマウント3へと伝達される。その後、熱は上述した通りの経路を通り、良好に放熱される。
また、本実施形態のさらに他の構成を図3に示す。
図1の電子機器1および図2の電子機器1bはいずれもLEDチップ2を有するものであった。これに対して図3に示す電子機器1cは、CPU2aを有するものである。すわなち、本発明は、サブマウントを介して配線層上に搭載されるLEDチップを有する電子機器の他、サブマウントを介することなく配線層上にバンプにより直接フリップチップ接合されたCPUあるいはIC等を有する電子機器にも適用可能である。
以上、本実施形態によれば、グラファイトの面方向への高い熱拡散特性を十分活かすことできるので、電子機器における所望の冷却特性を得ることが可能となる。
(第2の実施形態)
図4に本実施形態の電子機器51の構成を示す模式的な断面図を示す。
本実施形態の電子機器51のLEDチップ52は、上面にP極52aと、N極52bとが設けられた構成のものを用いており、サブマウントを介さず直接第2の金属層7上に実装されている。それ以外の基本的な構成は上述した第1の実施形態と同様であるため、詳細の説明は省略する。
LEDチップ52はP極52aとN極52bとが設けられていない下面にはハンダがなじむようにメッキ層(例えば金メッキ)が形成されており、この面を第2の金属層7に対面させソルダ層4cにより接合している。P極52aは第1の配線ワイヤ33aにより第1の配線層31aに電気的に接続されている。また、N極52bは第2の配線ワイヤ33bにより第2の配線層31bに電気的に接続されている。
第1の実施形態では、上面にP極(あるいはN極)、下面にN極(あるいはP極)を有するLEDチップ2を実装するのに適した構成を例示した。上下面にP、N極が配置されたLEDチップ2の場合、放熱構造体20上の第2の金属層7との絶縁を図る必要があるため、LEDチップ2はサブマウント3上に搭載された状態で第2の金属層7に実装される。このため、LEDチップ2で発生した熱は、第1のソルダ層4a、サブマウント3、第2のソルダ層4bを介して第2の金属層7へと伝達されることとなる。
これに対して本実施形態の場合、上述したようにLEDチップ52におけるP極52aおよびN極52bがLEDチップ52の上面に形成され、下面には形成されていないため、サブマウントによる絶縁が不要である。よって、第1の実施形態においても十分に良好な放熱特性を得ることが可能であるが、本実施形態の場合、LEDチップ52を第2の金属層7上に直接実装し、サブマウントおよび第1のソルダ層4aを省略することで、LEDチップ52からグラファイト層5までの熱抵抗をより低減させることができるので、グラファイトの面方向への高い熱拡散特性をより十分に活かしつつ、さらに良好な放熱特性を得ることができる。
また、第1の実施形態の場合、LEDチップ2とサブマウント3とを第1のソルダ層4aで接合した発熱構造体10を製造する工程が必要であった。つまり、サブマウント3に第1のソルダ層4aを設ける工程、第1のソルダ層4aを溶融状態にする工程、溶融状態の第1のソルダ層4a上にLEDチップ52に搭載した後、第1のソルダ層4aを冷却固化させてサブマウント3とLEDチップ52とを一体化させる工程が必要であった。
これに対して本実施形態のLEDチップ52はサブマウントおよび第1のソルダ層が不要であるため、発熱構造体を作成する必要がなく、製造工程が簡略化できるととともに装置の部品点数を削減することができる。
また、サブマウントを有する発熱構造体の場合、配線ワイヤをサブマウントから引き出す必要がある。よって、配線ワイヤの接続領域を確保するため、サブマウントの面積をLEDチップの面積よりも大きく形成する必要があり、この分だけ装置が大型化してしまう。
これに対して本実施形態のLEDチップ52は、実装面積がLEDチップの分だけで済み、よって装置を小型化することができる。
以上、本実施形態によれば、グラファイトの面方向への高い熱拡散特性をより十分に活かすことできるので、電子機器における所望の冷却特性を得ることが可能となる。
なお、本実施形態の構成は、LEDチップが第2の金属層7に当接する面以外の面であって、かつ放熱構造体の面に、配線取り出し部となるP極、N極が絶縁されている構成であればよく、例えば、上面にP,N極を有する場合のみならず、側面にP,N極が形成されていてもよい。
また、本実施形態では下面に金メッキ層が形成されたLEDチップをソルダ層4cにより第2の金属層7に接合した例を挙げたが、金メッキのパターンが形成されていない場合は、接着剤により接合するものであってもよい。
(第3の実施形態)
本実施形態では、グラファイト層および第2の金属層を備えたことで高熱伝導性を有することとなった電子機器であって、特にコネクタを備えた電子機器の製造方法に関して説明する。なお、以下の説明では第1の実施形態に示した電子機器1を例に説明する。
電子機器1に対して他の装置を電気的に接続しようとする場合、電子機器1の配線層31と他の装置とを電線で繋ぐことが考えられる。この場合、電線を配線層31にハンダ付けすることとなるが、上述したように電子機器1は高い熱伝導性を有する。このため、ハンダこての熱が電子機器1に奪われてしまい、十分に合金層ができず機械的に不完全なハンダ付けとなってしまう。つまり、電線を配線層31にハンダ付けする方法は実質的には困難となる。
そこで、図5に示すように、配線層31上に第3のソルダ層4eを介してコネクタ34を搭載し、このコネクタ34にプラグを差し込み、他の装置と電気的に接続する方法が考えられる。しかしながら、LEDチップ2がすでに搭載された状態の電子機器1にコネクタ34をリフローハンダ付けしようとすると、溶融させようとしている第3のソルダ層4eだけでなく、第1のソルダ層4aまでも溶融してしまうこととなる。そうすると、位置決めしていたLEDチップ2の位置がずれ、配線用ワイヤ33に無理な力がかかってしまうこととなる。
そこで、グラファイト層および第2の金属層を備える本発明の電子機器にコネクタを搭載する場合は、以下の方法で搭載するのが好適である。
まず、サブマウント3上に第1のソルダ層4aを形成する。また、配線層31上に第3のソルダ層4eを形成しておく。このように、第1のソルダ層4aおよび第3のソルダ層4eを予め形成しておいた後に、第1のソルダ層4a上にLEDチップ2を載せ、第3のソルダ層4e上にコネクタ34を載せる。次いで、第1のソルダ層4aおよび第3のソルダ層4eを同時に加熱する。これにより、LEDチップ2が第1のソルダ層4aによってサブマウント3にハンダ付けされると同時にコネクタ34が第3のソルダ層4eによって配線層31にハンダ付けされる。このように、LEDチップ2とコネクタ34とを同時にハンダ付けすることで、予め載置しておいたLEDチップ2がコネクタ34のハンダ付けにより位置ずれしてしまうのを防止することができる。
また、以下の方法を採用してもよい。
まず、コネクタ34を第3のソルダ層4eを介して予め配線層31にハンダ付けしておく。次に、第1のソルダ層4a上にLEDチップ2を載せる。この状態で、第1の金属層6の裏面(グラファイト層5が形成されていない面)側から熱を加える。そうすると、熱は、グラファイト層5、第2の金属層7、第2のソルダ層4b、サブマウント3を介して第1のソルダ層4aに伝達され、第1のソルダ層4aが溶融し、LEDチップ2とサブマウント3との接合がなされる。第1の金属層6を裏面側から加熱すると、当然ながら、この熱は第3のソルダ層4eにも伝達されることとなる。しかしながら、第1の金属層6と第3のソルダ層4eとの間には大きな熱抵抗となる絶縁層32が存在するため、当該熱が第1のソルダ層4aを溶融し始めるまでに要する時間よりも第3のソルダ層4eを溶融し始めるまでに要する時間のほうが長くかかり、両者には時間差を生じることとなる。つまり、この時間差を利用し、第1の金属層6の裏面を加熱して第1のソルダ層4aが溶融し、かつ第3のソルダ層4eが溶融を開始前に加熱を停止することでコネクタ34を接合する第3のソルダ層4eを溶かすことなくLEDチップ2を搭載することができる。
また、上述した各実施形態における金属層は、薄板、およびメッキ層のいずれであってもよい。特に、メッキ層の場合、ニッケルの層を形成しておき、その上に金メッキ層が形成されたものであってもよい。
本発明の第1の実施形態の電子機器の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の第1の実施形態の電子機器の他の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の第1の実施形態の電子機器のさらに他の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の第2の実施形態の電子機器の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の第3の実施形態における電子機器の製造方法を説明するための図である。 グラファイトシートを備えた電子機器の模式的な断面図である。 従来の高熱伝導カーボン材を備えたLEDパッケージの一例の主要部分の断面図である。
符号の説明
1、1a、1b、51 電子機器
2、52 LEDチップ
3 サブマウント
4a 第1のソルダ層
4b 第2のソルダ層
4c ソルダ層
4d バンプ
4e 第3のソルダ層
5 グラファイト層
6 第1の金属層
7 第2の金属層
10 発熱構造体
20 放熱構造体
31 配線層
31a 第1の配線層
31b 第2の配線層
32 絶縁層
33 配線用ワイヤ
33a 第1の配線ワイヤ
33b 第2の配線ワイヤ
34 コネクタ
40 窓部

Claims (17)

  1. 発熱素子、前記発熱素子を搭載する台座、および前記発熱素子と前記台座とを接合する金属を含有する第1の接合材を有する発熱構造体と、第1の金属層、および前記第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、前記放熱構造体の前記グラファイト層側に前記発熱構造体が搭載された電子機器において、
    前記グラファイト層の、前記第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を有し、前記第2の金属層と前記台座とが金属を含有する第2の接合材で接合されることで前記発熱構造体と前記放熱構造体とが接合されていることを特徴とする電子機器。
  2. 前記第2の金属層は、銅およびアルミニウムのいずれか一方からなる、請求項1に記載の電子機器。
  3. 前記第2の金属層の、前記グラファイト層に面する側と反対側の表面には防錆処理が施されている、請求項1または2に記載の電子機器。
  4. 前記発熱素子はLEDである、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の電子機器。
  5. 前記発熱素子はCPUまたはICである、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の電子機器。
  6. 前記第1の接合材および前記第2の接合材はソルダ層である、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電子機器。
  7. 前記第1の接合材はハンダバンプまたは金バンプである、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の電子機器。
  8. 前記第1の接合材の融点は前記第2の接合材の融点よりも高い、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の電子機器。
  9. 前記台座はAlNおよびSiCのいずれか一方を主材とする、請求項1ないし8のいずれか1項に記載の電子機器。
  10. 発熱素子と、第1の金属層および前記第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、前記放熱構造体の前記グラファイト層側に前記発熱素子が搭載された電子機器において、
    前記グラファイト層の、前記第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を有し、前記第2の金属層上に形成された配線層と前記発熱素子とがハンダバンプまたは金バンプで接合されていることを特徴とする電子機器。
  11. 前記発熱素子はCPUまたはICである、請求項10に記載の電子機器。
  12. 配線取り出し部を有する発熱電子素子と、第1の金属層、および前記第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、前記放熱構造体の前記グラファイト層側に前記発熱電子素子が搭載された電子機器において、
    前記グラファイト層の、前記第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を有し、
    前記発熱電子素子は、前記配線取り出し部が設けられている第1の面と、前記配線取り出し部が設けられていない第2の面とを有し、
    前記第2の金属層と前記発熱電子素子の前記第2の面とが接合されていることを特徴とする電子機器。
  13. 前記発熱電子素子は半導体素子であり、前記配線取り出し部は配線用ワイヤが電気的に接続されるP極およびN極である、請求項12に記載の電子機器。
  14. 前記半導体素子はLEDである、請求項13に記載の電子機器。
  15. 前記第2の金属層と前記第2の面とはソルダ層によって接合されている、請求項12ないし14のいずれか1項に記載の電子機器。
  16. 発熱素子、前記発熱素子を搭載する台座、および前記発熱素子と前記台座とを接合する金属を含有する第1の接合材を有する発熱構造体と、第1の金属層、および前記第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、前記放熱構造体の前記グラファイト層側に前記発熱構造体およびコネクタが搭載された電子機器の製造方法において、
    前記グラファイト層の、前記第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を形成し、前記第2の金属層と前記台座とを金属を含有する第2の接合材で接合する工程と、
    前記第2の接合材によって前記第2の金属層に接合された前記台座上に前記発熱素子を前記第1の接合材で接合すると同時に、前記放熱構造体上に前記コネクタを金属を含有する第3の接合材で接合する工程とを含むことを特徴とする電子機器の製造方法。
  17. 発熱素子、前記発熱素子を搭載する台座、および前記発熱素子と前記台座とを接合する金属を含有する第1の接合材を有する発熱構造体と、第1の金属層、および前記第1の金属層に積層されたグラファイト層を有する放熱構造体とを備え、前記放熱構造体の前記グラファイト層側に前記発熱構造体およびコネクタが搭載された電子機器の製造方法において、
    前記グラファイト層の、前記第1の金属層が積層された面とは反対側の面に第2の金属層を形成し、前記第2の金属層と前記台座とを金属を含有する第2の接合材で接合する工程と、
    前記放熱構造体上に絶縁層を形成する工程と、
    前記絶縁層上に配線層を形成する工程と、
    前記配線層上に前記コネクタを金属を含有する第3の接合材で接合する工程と、
    前記絶縁層上に前記コネクタが前記第3の接合材で接合された後に、前記第1の金属層側から加熱することで前記第1の接合材を溶融させて前記発熱素子を前記台座上に接合する工程と、
    前記第1の金属層側からの加熱により前記第3の接合材が溶融する前に前記第1の金属層側からの加熱を停止する工程とを含むことを特徴とする電子機器の製造方法。
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