JP2008019109A - 蛍光体分散ガラスの製造方法および発光ダイオード素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】白色LED素子の被覆に用いられるガラス中に泡が多く残りやすいという問題を解決する。
【解決手段】蛍光体が分散されているガラスの製造方法であって、蛍光体が分散されるべきガラスの粉末および当該蛍光体の粉末の混合物を焼成して得られた焼結体の粉末を、溶融状態となっている前記蛍光体が分散されるべきガラスに分散することを特徴とする蛍光体分散ガラスの製造方法。蛍光体が分散されるべきガラスがモル%で、TeO2 40〜53%、GeO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Ga2O3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZnO 3〜30%、Y2O3 0〜3%、La2O3 0〜3%、Gd2O3 0〜7%、Ta2O5 0〜5%、から本質的になる前記蛍光体分散ガラスの製造方法。
【選択図】図1
【解決手段】蛍光体が分散されているガラスの製造方法であって、蛍光体が分散されるべきガラスの粉末および当該蛍光体の粉末の混合物を焼成して得られた焼結体の粉末を、溶融状態となっている前記蛍光体が分散されるべきガラスに分散することを特徴とする蛍光体分散ガラスの製造方法。蛍光体が分散されるべきガラスがモル%で、TeO2 40〜53%、GeO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Ga2O3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZnO 3〜30%、Y2O3 0〜3%、La2O3 0〜3%、Gd2O3 0〜7%、Ta2O5 0〜5%、から本質的になる前記蛍光体分散ガラスの製造方法。
【選択図】図1
Description
本発明は発光ダイオード(LED)の被覆に好適な蛍光体分散ガラスの製造方法およびLEDが蛍光体分散ガラスによって被覆されている発光ダイオード素子(LED素子)に関する。
従来、白色光源としては白熱電球、蛍光灯等が広く使用されているが、近年、新しいタイプの白色光源としていわゆる白色LED素子が開発され、液晶ディスプレイ用バックライト等への応用が急速に進んでいる。
現在市販されている1チップ型白色LED素子においては、GaNにInを添加したInGaNを発光層とする量子井戸構造のLEDが、蛍光体を含有する樹脂によって封止されている。典型的な白色LED素子においては、LEDは発光波長が460〜480nmである青色LEDであり、蛍光体は前記発光波長の光で黄色の蛍光を発するセリウム添加YAG蛍光体である。
現在市販されている1チップ型白色LED素子においては、GaNにInを添加したInGaNを発光層とする量子井戸構造のLEDが、蛍光体を含有する樹脂によって封止されている。典型的な白色LED素子においては、LEDは発光波長が460〜480nmである青色LEDであり、蛍光体は前記発光波長の光で黄色の蛍光を発するセリウム添加YAG蛍光体である。
この白色LED素子は次のようにして白色光源として機能する。すなわち、LEDに直流電流を流すとLEDから青色光が放出され、一方、当該青色光の一部によってYAG蛍光体が励起されこの蛍光体から黄色光(蛍光)が放出される。この黄色光は青色光と補色関係にあり、これらが入り混じって人間の目に入り加法混色の原理により白色光として見える。
しかし、このように樹脂によってLEDが封止されている白色LED素子には、長期間使用すると水分が樹脂中に浸入しLEDの動作が阻害される、LEDから放出される紫外線または青色光によって樹脂が変色しその光透過率が低下する、等の問題があった。
しかし、このように樹脂によってLEDが封止されている白色LED素子には、長期間使用すると水分が樹脂中に浸入しLEDの動作が阻害される、LEDから放出される紫外線または青色光によって樹脂が変色しその光透過率が低下する、等の問題があった。
このような問題を解決する白色LED素子として、本発明者らはモル%表示で、TeO2 20〜70%、ZnO 5〜30%、B2O3 0〜55%、SiO2+GeO2 0〜10%、Li2O+Na2O+K2O 0〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、から本質的になり、内部に蛍光体が分散しているTeO2−ZnO系ガラスによって封止された白色LED素子などを提案した(特許文献1参照)。
特許文献1において提案されているガラス被覆白色LED素子は、たとえば単にガラス粉末と蛍光体粉末を混合したものを加熱してLEDを被覆して製造されるが、そのようにして得られた白色LED素子の被覆ガラス中に泡が多く残りやすい問題があった。
本発明はこのような問題を解決できる蛍光体分散ガラスの製造方法および蛍光体分散ガラスによって被覆されているLED素子の提供を目的とする。
本発明はこのような問題を解決できる蛍光体分散ガラスの製造方法および蛍光体分散ガラスによって被覆されているLED素子の提供を目的とする。
本発明は、蛍光体が分散されているガラスの製造方法であって、蛍光体が分散されるべきガラスの粉末および当該蛍光体の粉末の混合物を焼成して得られた焼結体の粉末を、溶融状態となっている前記蛍光体が分散されるべきガラスに分散することを特徴とする蛍光体分散ガラスの製造方法を提供する。
また、前記蛍光体分散ガラスの製造方法によって製造された蛍光体分散ガラスによって被覆されているLED素子を提供する。
本発明者は蛍光体粉末とガラスの粉末の混合物の焼結体の粉末を溶融状態のガラスに分散させることにより蛍光体の失活および分散不足を抑制できることを見出し、本発明に至った。
また、前記蛍光体分散ガラスの製造方法によって製造された蛍光体分散ガラスによって被覆されているLED素子を提供する。
本発明者は蛍光体粉末とガラスの粉末の混合物の焼結体の粉末を溶融状態のガラスに分散させることにより蛍光体の失活および分散不足を抑制できることを見出し、本発明に至った。
蛍光体が均一に分散している蛍光体分散ガラスが得られる。
また、白色性に優れたガラス被覆LED素子を得ることが可能になる。
また、白色性に優れたガラス被覆LED素子を得ることが可能になる。
図1は配線基板上に実装された、本発明の製造方法によって製造された蛍光体分散ガラスによって被覆されているLED素子(以下、ガラス被覆LED素子ということがある。)の概略断面図であるが、本発明は図1に限定されない。
図1においては、基板30の表面に配線20が形成されている配線基板上にフリップチップ実装されたLED素子10が、本発明の蛍光体分散ガラス1によって被覆されている。LED素子10の図示しない電極には接続バンプ21が形成されており、この接続バンプ21は配線20と電気的に接続されている。
なお、LED素子10を蛍光体分散ガラス1によって被覆しているものが本発明のガラス被覆LED素子である。
図1においては、基板30の表面に配線20が形成されている配線基板上にフリップチップ実装されたLED素子10が、本発明の蛍光体分散ガラス1によって被覆されている。LED素子10の図示しない電極には接続バンプ21が形成されており、この接続バンプ21は配線20と電気的に接続されている。
なお、LED素子10を蛍光体分散ガラス1によって被覆しているものが本発明のガラス被覆LED素子である。
図1に示すような配線基板上に実装された本発明のガラス被覆LED素子はたとえば次のようにして製造される。
まず、本発明の蛍光体分散ガラスからなるガラス板(蛍光体分散ガラス板)を用意する。典型的にはその厚みは0.2〜2mm、大きさは1〜4mmである。
また、そのLED素子と接触すべき面は鏡面研磨されたものであることが好ましい。そのようなものでないと加熱してLED素子を蛍光体分散ガラスで被覆するときに前記面とLED素子の間に泡を巻き込むおそれがある。
まず、本発明の蛍光体分散ガラスからなるガラス板(蛍光体分散ガラス板)を用意する。典型的にはその厚みは0.2〜2mm、大きさは1〜4mmである。
また、そのLED素子と接触すべき面は鏡面研磨されたものであることが好ましい。そのようなものでないと加熱してLED素子を蛍光体分散ガラスで被覆するときに前記面とLED素子の間に泡を巻き込むおそれがある。
一方、LED素子(ベアチップ)の電極に接続バンプが形成されているバンプ付きLED素子を用意し、配線基板の配線上にフリップチップ実装する。なお、LED素子の典型的な大きさは0.2〜1mm角である。
配線基板の基板としてはアルミナ基板、窒化アルミ基板などが例示され、配線としては基板にガラス粉末含有金ペーストを塗布、焼成して得られた金配線が典型的である。
配線基板の基板としてはアルミナ基板、窒化アルミ基板などが例示され、配線としては基板にガラス粉末含有金ペーストを塗布、焼成して得られた金配線が典型的である。
次に、配線基板上にフリップチップ実装されたLED素子の上に蛍光体分散ガラス板を載置後加熱し、このガラス板を軟化流動させてLED素子の少なくとも上面および側面を被覆する。
蛍光体分散ガラスをLED素子の被覆に用いるなどの場合、蛍光体が分散されるべきガラス(以下、単にガラスということがある。)の50〜300℃における平均線膨張係数(α)は65×10−7〜100×10−7/℃であることが好ましい。このようなものでないと、LED素子被覆ガラスが割れやすくなる、またはLED素子に過大な力が加わり発光しなくなるおそれがある。典型的には95×10−7/℃以下である。
蛍光体分散ガラスに用いられるガラスのガラス転移点(Tg)は典型的には300℃以上であり、好ましくは470℃以下である。470℃超では軟化点または屈伏点が高くなり、LED素子を被覆するときに素子に熱的ダメージを与えて発光しなくなる、電極にダメージを与えて動作が不安定になる、または発光しなくなるおそれがある。より好ましくは450℃以下である。
また、その軟化点または屈伏点は500℃以下であることが好ましい。500℃超ではLED素子を被覆するときに素子に熱的ダメージを与えて発光しなくなる、電極にダメージを与えて動作が不安定になる、または発光しなくなるおそれがある。
また、その波長405nmの光に対する厚み1mmでの内部透過率(T405)は80%以上であることが好ましく、また、同光に対する屈折率(n405)は1.7以上であることが好ましい。
また、その軟化点または屈伏点は500℃以下であることが好ましい。500℃超ではLED素子を被覆するときに素子に熱的ダメージを与えて発光しなくなる、電極にダメージを与えて動作が不安定になる、または発光しなくなるおそれがある。
また、その波長405nmの光に対する厚み1mmでの内部透過率(T405)は80%以上であることが好ましく、また、同光に対する屈折率(n405)は1.7以上であることが好ましい。
蛍光体分散ガラスに用いられるガラスは、下記酸化物基準のモル%表示で、TeO2 40〜53%、GeO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Ga2O3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZnO 3〜30%、Y2O3 0〜3%、La2O3 0〜3%、Gd2O3 0〜7%、Ta2O5 0〜5%、から本質的になることが好ましく、このうちZnOは典型的には20%以下である。この好ましい態様のガラスは本発明の目的を損なわない範囲で上記成分以外のもの、たとえばTiO2等を含有してもよいが、その場合上記成分の含有量の合計は典型的には95%以上である。なお、たとえば「GeO2 0〜10%」とは、GeO2は必須ではないが10%まで含有してもよいの意である。
また、蛍光体分散ガラスによって青色発光LED素子を被覆しこれを白色LED素子としようとするなどの場合、当該ガラス中に分散されている蛍光体はセリウム添加YAG蛍光体であることが一般的であるが、蛍光灯と同様に赤、緑および青のそれぞれの蛍光を発する蛍光体を分散したガラスによって紫外発光LED素子を被覆するなどしてもよい。
次に、蛍光体分散ガラスの製造方法について説明する。
ガラス粉末はたとえばガラスをアルミナ乳鉢で粉砕して製造され、その最大粒径は典型的には50μm以下である。
このガラス粉末を蛍光体粉末と混合して混合物とする。その典型的な混合割合は蛍光体1質量部に対してガラス粉末3〜30質量部である。
ガラス粉末はたとえばガラスをアルミナ乳鉢で粉砕して製造され、その最大粒径は典型的には50μm以下である。
このガラス粉末を蛍光体粉末と混合して混合物とする。その典型的な混合割合は蛍光体1質量部に対してガラス粉末3〜30質量部である。
次に、前記混合物を焼成して焼結体とする。典型的な焼成温度は(Tg+50℃)〜(Tg+150℃)である。
得られた焼結体を粉砕して焼結体粉末とする。その粒径は典型的にはふるいなどを用いて0.3〜0.5mmとされる。
得られた焼結体を粉砕して焼結体粉末とする。その粒径は典型的にはふるいなどを用いて0.3〜0.5mmとされる。
一方、溶融状態のガラスを用意し、その中に前記焼結体粉末を投入し、必要に応じて攪拌し、冷却して蛍光体分散ガラスを得る。
溶融状態のガラスの温度は900℃以下であることが好ましい。900℃超では焼結体粉末として投入された蛍光体がセリウム添加YAG蛍光体などである場合蛍光体が失活するおそれがある。
また、投入される焼結体粉末中の蛍光体を1質量部としたとき、焼結体粉末中のガラスと前記溶融状態のガラスの質量の合計は典型的には10〜200質量部である。
溶融状態のガラスの温度は900℃以下であることが好ましい。900℃超では焼結体粉末として投入された蛍光体がセリウム添加YAG蛍光体などである場合蛍光体が失活するおそれがある。
また、投入される焼結体粉末中の蛍光体を1質量部としたとき、焼結体粉末中のガラスと前記溶融状態のガラスの質量の合計は典型的には10〜200質量部である。
モル%表示で示す組成が、TeO2 45%、GeO2 5%、B2O3 18%、Ga2O3 6%、Bi2O3 3%、ZnO 15%、Y2O3 0.5%、La2O3 0.5%、Gd2O3 3%、Ta2O5 3%、TiO2 1%、となるように原料を調合して450gの調合原料を用意し、これを容量300ccの金製るつぼに入れ、950℃で2.5時間溶解した。この際金製スターラにより1時間撹拌して溶融ガラスを均質化した。均質化された溶融ガラスはカーボン型に流し出して厚みが約20mmの板状に成形した。
得られたガラスについて、屈伏点、Tg、α、n405、T405、RW、RA、を以下に述べる方法で測定した結果、それぞれ490℃、445℃、86×10−7/℃、2.011、95.2%、1、1、であった。なお、ここで測定された屈伏点は軟化点と±20℃の範囲で同視でき、RW、RAはそれぞれ日本光学硝子工業会制定の評価方法に準じて定められる耐水性、耐酸性の等級である。
屈伏点:直径5mm、長さ20mmの円柱状に加工したサンプルを、マックサイエンス社製熱機械分析装置DILATOMETER5000(商品名)を用いて5℃/分の昇温速度で測定した。
Tg:粉末状に加工したサンプル150mgを白金パンに充填し、セイコーインスツルメンツ社製熱分析装置TG/DTA6300(商品名)により測定した。
α:直径5mm、長さ20mmの円柱状に加工したサンプルを、前記熱機械分析装置を用いて5℃/分の昇温速度で測定した。50〜300℃での膨張係数を25℃刻みで求め、その平均値をαとした。
Tg:粉末状に加工したサンプル150mgを白金パンに充填し、セイコーインスツルメンツ社製熱分析装置TG/DTA6300(商品名)により測定した。
α:直径5mm、長さ20mmの円柱状に加工したサンプルを、前記熱機械分析装置を用いて5℃/分の昇温速度で測定した。50〜300℃での膨張係数を25℃刻みで求め、その平均値をαとした。
n405:ガラスを一辺が30mm、厚みが10mmの三角形状プリズムに加工し、カルニュー光学社製精密分光計GMR−1(商品名)により波長405nmの光に対する屈折率を測定した。
T405:両面が鏡面研磨され、大きさが2cm×2cm、厚みが1mmと5mmの2枚の板状ガラス試料を作製し、日立製作所社製分光光度計U−3500(商品名)を用いて波長405nmの光に対する透過率を測定する。測定によって得られた厚みが1mm、5mmの板状試料の透過率をそれぞれT1、T5として、次式によりT405(単位:%)を算出する。
T405=100×exp[(2/3)×loge(T5/T1)]。
T405:両面が鏡面研磨され、大きさが2cm×2cm、厚みが1mmと5mmの2枚の板状ガラス試料を作製し、日立製作所社製分光光度計U−3500(商品名)を用いて波長405nmの光に対する透過率を測定する。測定によって得られた厚みが1mm、5mmの板状試料の透過率をそれぞれT1、T5として、次式によりT405(単位:%)を算出する。
T405=100×exp[(2/3)×loge(T5/T1)]。
RW:直径が420〜600μmのガラス粒を作製し、100℃の純水80ml中に1時間浸漬した時の質量減少割合を測定した。質量減少割合が0.05未満では等級1、0.05以上0.10未満では等級2、0.10以上0.25未満では等級3、0.25以上0.60未満では等級4、0.60以上1.10未満では等級5、1.10以上では等級6とした。RWは等級1であることが好ましい。
RA:直径が420〜600μmのガラス粒を作製し、100℃の0.01規定の硝酸水溶液80ml中に1時間浸漬した時の質量減少割合を測定した。質量減少割合が0.20未満では等級1、0.20以上0.35未満では等級2、0.35以上0.65未満では等級3、0.65以上1.20未満では等級4、1.20以上2.20未満では等級5、2.20以上では等級6とした。RAは等級1であることが好ましい。
RA:直径が420〜600μmのガラス粒を作製し、100℃の0.01規定の硝酸水溶液80ml中に1時間浸漬した時の質量減少割合を測定した。質量減少割合が0.20未満では等級1、0.20以上0.35未満では等級2、0.35以上0.65未満では等級3、0.65以上1.20未満では等級4、1.20以上2.20未満では等級5、2.20以上では等級6とした。RAは等級1であることが好ましい。
(例1)
前記板状のガラスを切断し、一片が8〜70mmの塊(ブロック)を作製した。これらブロックのうち数個をアルミナ乳鉢で粉砕しガラス粉末とした。このガラス粉末の最大粒径は目視観察の結果50μm以下であった。
このガラス粉末15gに対してセリウム添加YAG粉末である(化成オプトニクス社製黄色蛍光体P46−Y3)15gの割合で両者を混合し混合物すなわち混合粉末を作製した。
前記板状のガラスを切断し、一片が8〜70mmの塊(ブロック)を作製した。これらブロックのうち数個をアルミナ乳鉢で粉砕しガラス粉末とした。このガラス粉末の最大粒径は目視観察の結果50μm以下であった。
このガラス粉末15gに対してセリウム添加YAG粉末である(化成オプトニクス社製黄色蛍光体P46−Y3)15gの割合で両者を混合し混合物すなわち混合粉末を作製した。
得られた混合粉末を内径10mmのステンレス鋼製の型に充填し、上部から押し固めて、10mm径で高さ15〜25mmの円柱状に成型した。
この円柱状の成型体を電気炉に入れ、530℃で1時間焼成し、焼結体を得た。焼成時の昇温速度は10℃/分、降温速度は約200℃になるまで10℃/分でそれ以降は炉内で自然に放冷した。
この円柱状の成型体を電気炉に入れ、530℃で1時間焼成し、焼結体を得た。焼成時の昇温速度は10℃/分、降温速度は約200℃になるまで10℃/分でそれ以降は炉内で自然に放冷した。
得られた焼結体を粉砕し、一片が2〜7mmの破片(塊)と粒径が0.3〜0.5mmの粉末を得た。
前記ガラスブロック4〜7個(総質量=485g)を容量が300cm3である金製ルツボに入れ、750℃で1〜2時間保持し、溶融状態のガラスすなわち均質なガラス融液とした。このガラス融液中に前記焼結体の粉末を30g投入し、パドル式スターラーを用いて回転数50rpmで攪拌しながら10分間保持した。
前記ガラスブロック4〜7個(総質量=485g)を容量が300cm3である金製ルツボに入れ、750℃で1〜2時間保持し、溶融状態のガラスすなわち均質なガラス融液とした。このガラス融液中に前記焼結体の粉末を30g投入し、パドル式スターラーを用いて回転数50rpmで攪拌しながら10分間保持した。
その後ルツボを取り出し、蛍光体が分散した溶融ガラスをカーボン型に流し出して厚みが約7mmの板状に成形した。この板状のガラスは直ちに470℃の別の電気炉に入れその温度に1時間保持後12時間かけて室温まで冷却した。
得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果特に不均質は認められず、泡も確認されなかった。
得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果特に不均質は認められず、泡も確認されなかった。
この蛍光体分散ガラスを厚みが2mm、大きさが10mm×10mmの平板状に加工し、その後その一方の面を#1000の粗さで研磨した。
この#1000の粗さの面を測定面として、HITACHI社製蛍光光度測定装置F−4500を用いて励起光波長をセリウム添加YAG蛍光体の励起波長である470nmとして蛍光光度を測定したところ、530nmをピークに460〜650nmの広い範囲にわたって発光が認められた。すなわち、蛍光体分散ガラスの蛍光体が失活していないことがわかった。
また、この蛍光体分散ガラスをLED素子被覆に用いたときに白色LEDとなるか否かを予測する指標として、黄色光である波長535nmの光の受光カウント数I535と励起光強度に比例する波長445nmの光の受光カウント数I445の比I535/I445を測定したところ2.85であった。I535/I445は1.5以上であることが好ましい。
この#1000の粗さの面を測定面として、HITACHI社製蛍光光度測定装置F−4500を用いて励起光波長をセリウム添加YAG蛍光体の励起波長である470nmとして蛍光光度を測定したところ、530nmをピークに460〜650nmの広い範囲にわたって発光が認められた。すなわち、蛍光体分散ガラスの蛍光体が失活していないことがわかった。
また、この蛍光体分散ガラスをLED素子被覆に用いたときに白色LEDとなるか否かを予測する指標として、黄色光である波長535nmの光の受光カウント数I535と励起光強度に比例する波長445nmの光の受光カウント数I445の比I535/I445を測定したところ2.85であった。I535/I445は1.5以上であることが好ましい。
(例2)
焼結体粉末を投入して攪拌しながら750℃に保持する時間を15分間にした以外は例1と同様にして蛍光体分散ガラスを作製した。得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果特に不均質は認められず、泡も確認されなかった。
焼結体粉末を投入して攪拌しながら750℃に保持する時間を15分間にした以外は例1と同様にして蛍光体分散ガラスを作製した。得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果特に不均質は認められず、泡も確認されなかった。
この蛍光体分散ガラスについて例1と同様にして蛍光光度を測定したところ530nmをピークに460〜650nmの広い範囲にわたって発光が認められた。また、I535/I445は2.85であった。
(例3)
比較のために、焼結体粉末の代わりに大きさが2〜7mmの焼結体の塊を用いた以外は例1と同様にして蛍光体分散ガラスを作製した。得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果ガラス破片の残存が認められ不均質であった。
比較のために、焼結体粉末の代わりに大きさが2〜7mmの焼結体の塊を用いた以外は例1と同様にして蛍光体分散ガラスを作製した。得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果ガラス破片の残存が認められ不均質であった。
なお、この蛍光体分散ガラスについて例1と同様にして蛍光光度を測定したところ530nmをピークに460〜650nmの広い範囲にわたって発光が認められ、I535/I445は7.43であった。
(例4)
比較のために、溶融状態のガラスの温度を810℃とした以外は例3と同様にして蛍光体分散ガラスを作製した。得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果ガラス破片の残存が認められ不均質であった。
比較のために、溶融状態のガラスの温度を810℃とした以外は例3と同様にして蛍光体分散ガラスを作製した。得られた蛍光体分散ガラスには目視観察の結果ガラス破片の残存が認められ不均質であった。
この蛍光体分散ガラスについて例1と同様にして蛍光光度を測定したところ530nmをピークに460〜650nmの広い範囲にわたって発光が認められたが、例1〜3と比較して弱い発光であり、またI535/I445は1.34であった。
(例5)
比較のために、例4の焼結体の塊の代わりに焼成前の混合粉末そのものを810℃の溶融状態のガラスに投入して100rpmの回転数で攪拌したところ蛍光体粉末がガラス融液の表面の浮き上がりガラス融液中に分散させることはできなかった。
比較のために、例4の焼結体の塊の代わりに焼成前の混合粉末そのものを810℃の溶融状態のガラスに投入して100rpmの回転数で攪拌したところ蛍光体粉末がガラス融液の表面の浮き上がりガラス融液中に分散させることはできなかった。
ガラス被覆白色LED素子の被覆ガラス製造に利用できる。
1 :内部に蛍光体が分散しているガラス
10 :LED素子
20 :配線
21 :接続バンプ
30 :基板
10 :LED素子
20 :配線
21 :接続バンプ
30 :基板
Claims (7)
- 蛍光体が分散されているガラスの製造方法であって、蛍光体が分散されるべきガラスの粉末および当該蛍光体の粉末の混合物を焼成して得られた焼結体の粉末を、溶融状態となっている前記蛍光体が分散されるべきガラスに分散することを特徴とする蛍光体分散ガラスの製造方法。
- 蛍光体が分散されるべきガラスの50〜300℃における平均線膨張係数が65×10−7〜100×10−7/℃である請求項1の蛍光体分散ガラスの製造方法。
- 蛍光体が分散されるべきガラスのガラス転移点が300〜470℃である請求項1または2の蛍光体分散ガラスの製造方法。
- 蛍光体がセリウム添加YAG蛍光体である請求項1、2または3の蛍光体分散ガラスの製造方法。
- 前記溶融状態となっているガラスの温度が900℃以下である請求項4の蛍光体分散ガラスの製造方法。
- 蛍光体が分散されるべきガラスが下記酸化物基準のモル%表示で、TeO2 40〜53%、GeO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Ga2O3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZnO 3〜30%、Y2O3 0〜3%、La2O3 0〜3%、Gd2O3 0〜7%、Ta2O5 0〜5%、から本質的になる請求項1〜5のいずれかの蛍光体分散ガラスの製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかの蛍光体分散ガラスの製造方法によって製造された蛍光体分散ガラスによって被覆されている発光ダイオード素子。
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