JP2008007469A - 炭酸エステル及びその製造方法、並びに、磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】高純度の炭酸エステルを簡便に得ることができる炭酸エステルの製造方法、及び、前記製造方法により得られた炭酸エステルを提供すること、前記炭酸エステルを用い、電磁変換特性、耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルを合成し前記炭酸エステルの粗生成物を得る工程、及び、飽和炭化水素溶媒と該飽和炭化水素溶媒に対して無限に相溶しない有機溶媒を含む溶媒とを用いて前記粗生成物を液液抽出し、前記炭酸エステルの精製物を得る工程を含むことを特徴とする炭酸エステルの製造方法、前記製造方法により得られる炭酸エステル、及び、前記炭酸エステルを用いた磁気記録媒体。式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表し、Ｒ¹の炭素数とＲ²の炭素数との和は１２以上５０以下である。
【化１】

【選択図】なし

Description

本発明は、潤滑剤として好適に用いることができる炭酸エステルの製造方法、前記製造方法により得られる炭酸エステル、及び、前記炭酸エステルを潤滑剤として用いた磁気記録媒体に関する。

磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器との組み合わせによるシステムの構築が可能であること、信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはない優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く利用されてきた。
近年の記録の大容量化、高記録密度化要求に応える磁気記録媒体は、その高度な電磁変換特性を達成するため極めて平滑な表面を有する。この平滑な表面を記録ヘッドが高速で摺動すると従来の技術では耐久性を確保することが極めて難しくなる。
磁気記録媒体における耐久性の改善のため、例えば、磁気記録媒体に潤滑剤としてカーボネート化合物を使用する磁気記録媒体が提案されている（特許文献１及び２）。
また、表面に特定の研磨剤突起密度を有し、酸加水分解速度を規定した磁気記録媒体が提案されている（特許文献３）。

特開平７−１３８５８６号公報 特開平８−７７５４７号公報 特開２００３−３２３７１１号公報

本発明が解決しようとする課題は、高純度の炭酸エステルを簡便に得ることができる炭酸エステルの製造方法、及び、前記製造方法により得られた炭酸エステルを提供することである。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、前記炭酸エステルを用い、電磁変換特性、耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供することである。

本発明が解決しようとする課題は、下記＜１＞、＜２＞または＜３＞に記載の手段によって解決された。
＜１＞ 式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルを合成し前記式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの粗生成物を得る工程、及び、飽和炭化水素溶媒と該飽和炭化水素溶媒に対して無限に相溶しない有機溶媒を含む溶媒とを用いて前記粗生成物を液液抽出し、式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの精製物を得る工程を含むことを特徴とする炭酸エステルの製造方法、

（式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表す。ただし、Ｒ¹の炭素数とＲ²の炭素数との和は１２以上５０以下である。）
＜２＞ 上記＜１＞に記載の製造方法により製造された炭酸エステル、
＜３＞ 非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を有し、該磁性層が上記＜２＞に記載の炭酸エステルを含有し、該磁性層表面に存在する突起数が式（２）を満足する磁気記録媒体。
０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．２０ （２）
（Ｈ₁₀は磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ未満の突起の単位面積あたりの数（個／μｍ²）を表し、Ｈ₁₅は磁性層表面に存在する高さ１５ｎｍ以上の突起の単位面積あたりの数（個／μｍ²）を表す。）

本発明によれば、高純度の炭酸エステルを簡便に得ることができる炭酸エステルの製造方法、及び、前記製造方法により得られた炭酸エステルを提供することができる。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、前記炭酸エステルを用い、電磁変換特性、耐久性及び保存安定性に優れた磁気記録媒体を提供することができる。

（炭酸エステル及びその製造方法）
本発明の炭酸エステルの製造方法は、式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルを合成し前記式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの粗生成物を得る工程、及び、飽和炭化水素溶媒と該飽和炭化水素溶媒に対して無限に相溶しない有機溶媒（以下、「極性有機溶媒」ともいう。）を含む溶媒とを用いて前記粗生成物を液液抽出し、式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの精製物を得る工程（以下、「抽出工程」ともいう。）を含むことを特徴とする。

（式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表す。ただし、Ｒ¹の炭素数とＲ²の炭素数との和は１２以上５０以下である。）

また、本発明の炭酸エステルは、前記製造方法により得られた式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルであり、潤滑剤として好適に使用でき、磁気記録媒体に用いる潤滑剤として特に好適に使用できる。
なお、本発明において、前記製造方法により得られた式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルは、「本発明の化合物」、「本発明の炭酸エステル」又は「本発明のカーボネート化合物」ともいう。

磁気記録媒体に炭酸エステルを用いた場合、磁気記録媒体中の炭酸エステルはアルコール、原料に用いた塩基等の残存で、実用上好ましくない変色、結晶化などの悪影響が生じることがわかった。この対策として、炭酸エステルをヘプタンなどの飽和炭化水素溶媒に分配させ、アルコール及び原料に用いた塩基等の残存物を該飽和炭化水素溶媒と無限に相溶しない溶媒あるいは混合溶媒、好ましくはメタノール、アセトニトリルあるいはその混合物の相に分配させて、液−液系抽出を適用することにより、高い純度で本発明の炭酸エステルが得られることが分かった。

前記式（１）において、Ｒ¹及びＲ²は、各々同じ又は異なるものであってもよい飽和炭化水素基であって、Ｒ¹及びＲ²の両炭素数の和が１２以上５０以下の飽和炭化水素基である。
両炭素数の和は、好ましくは１２〜４０、更に好ましくは１２〜３０である。両炭素数の和が１２未満であると、揮発性が高いため、磁気記録媒体に潤滑剤として用いた場合、走行時に磁性層表面から飛んでしまい走行停止を引き起こす。両炭素数の和が５０よりも大きくなると、分子のモビリティが低くなるため、磁気記録媒体に潤滑剤として用いた場合、表面に必要量の潤滑剤が、しみ出て来ないため走行停止を引き起こす。
また、炭酸エステルの製造時において、本発明の炭酸エステルのＲ¹及びＲ²の両炭素数の和が１２未満であると、炭酸エステルの飽和炭化水素溶媒への溶解性が悪化するため、製法上好ましくなく、また、両炭素数の和が５０よりも大きくなると、アルコール等の原料由来の残存物の極性有機溶媒への溶解性が悪化するため、製法上好ましくない。

また、Ｒ¹及びＲ²における飽和炭化水素基は、直鎖でも分岐であってもよく、例えばシクロヘキシルのような環構造を有していてもよいが、直鎖又は分岐状飽和炭化水素基であることが好ましい。また、Ｒ¹及びＲ²の何れか一方が直鎖であるものが好ましい。
直鎖状飽和炭化水素基の例としてはブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコサニル、ドコサニル等が好ましく挙げられる。
分岐状飽和炭化水素基の例としては２−ブチル、４−メチル−２−ペンチル、２，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルブチル、２−エチルヘキシル、２，２，４，４−テトラペンチル、２−ブチルオクチル、２−ヘキサデシル、２−デシルテトラデシル等が好ましく挙げられる。

本発明の式（１）で表される炭酸エステル（カーボネート）化合物の合成方法としては、特に制限はなく公知の炭酸エステル合成法を用いることができ、クロロギ酸エステルとアルコールとを反応させる方法や、低級炭化水素基を有する炭酸エステルとアルコールとを反応させる方法、ジアリール炭酸エステルとアルコールとを反応させる方法、金属触媒を用い一酸化炭素とアルコールとを反応させる方法、ホスゲン又はトリホスゲン等のホスゲン等価体とアルコールとを反応させる方法等が例示できる。これらの中でも、異なる２つの飽和炭化水素基を容易に導入することができ、かつ、単一種の炭酸エステルを合成できる点から、クロロギ酸エステルと前記飽和炭化水素基を有するアルコールとを反応させることにより行う方法が好ましい。なお、前記低級炭化水素基とは、反応に用いるアルコールの飽和炭化水素基よりも炭素数が少ない炭化水素基であることを示す。
また、前記式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの粗生成物とは、合成により得られた式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルを含む混合物であればよく、例えば、式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステル合成後の反応溶液そのものやその濾過物、それらから溶媒を蒸発させた反応残渣等が挙げられる。

かかる合成反応の出発原料であるクロロギ酸エステルの具体例としては、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ブチル、クロロギ酸ｓｅｃ−ブチル、クロロギ酸イソブチル、クロロギ酸イソプロピル、クロロギ酸２−エチルヘキシル、クロロギ酸メチル、クロロギ酸プロピル等の工業的に容易に入手できるものが好適である。

合成反応時における反応温度は、反応が進行する温度であれば特に制限はないが、０℃〜６０℃の範囲で行うことが好ましく、より好ましくは０℃〜４０℃、更に好ましくは０℃〜２５℃である。
合成反応時における圧力は減圧条件でも常圧条件でもよいが、経費の面を考慮すると常圧条件が好ましい。
合成反応には触媒を用いていてもよいが、触媒を用いる場合は、反応原料であるクロロギ酸エステル化合物や低級炭化水素基やアリール基を有する炭酸エステル、ホスゲン類等のカーボネート反応基質に対して０．００１〜１．０％の当量で用いることが好ましい。
かかる触媒の例としては、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチルモルホリン、ベンゾトリアゾール等の有機塩基、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、及び、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩が挙げられる。これらの中でも、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、ベンゾトリアゾール等の中性時Ｎ−Ｈ結合の無い有機塩基又は水酸化リチウムが好ましいが、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジンのピリジン及びその誘導体がより好ましい。

本発明の炭酸エステルの製造方法において、本発明のカーボネート化合物を反応液より取り出す方法としては、飽和炭化水素溶媒と該飽和炭化水素溶媒に対して無限に相溶しない有機溶媒を含む溶媒とを用いて液液抽出し、式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの精製物を得る工程により行う方法を用いるが、さらに高純度の炭酸エステルとするため、前記抽出工程を複数回行ってもよく、また、他の方法による抽出、蒸留、結晶化等の分離方法を組み合わせて行ってもよい。

以下に前記抽出工程に使用する溶媒について述べる。
本発明の飽和アルキル炭酸エステルは飽和炭化水素系溶媒への溶解性が高いことから、抽出工程において使用する溶媒は飽和炭化水素溶媒と、飽和炭化水素溶媒と相分離する溶媒として飽和炭化水素溶媒と無限に相溶しない有機溶媒とを含む溶媒を用いることが肝要である。
本発明に用いることができる飽和炭化水素溶媒としては、本発明の飽和アルキル炭酸エステルを溶解するものであれば、特に制限はないが、溶媒の取り扱いや分離操作の容易性から、沸点が３５〜２２０℃の飽和炭化水素溶媒であることが好ましく、ヘプタン、ヘキサン、デカン、ウンデカン、ドデカン、シクロヘキサン、又は、これらの混合溶媒であることがより好ましく、ヘプタン、又は、ヘキサンであることが更に好ましい。また、飽和炭化水素溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を任意の割合で混合して用いてもよい。

また、抽出工程に使用する極性有機溶媒は不純物を溶解する必要があり、反応で用いた塩基等を除去するためには水と無限大に相溶しうる有機溶媒が好ましい。
更に本発明の飽和アルキル炭酸エステル化合物の原料として用いるアルコールは水に対する溶解度が極めて低いため、未反応成分として系内に残存する該アルコールを不純物として取り除く必要がある場合もあるため、具体的な極性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトニトリル、エチレングリコール及び／又はプロピレングリコールを含む溶媒が好ましく、メタノール及び／又はアセトニトリルを含む溶媒がより好ましい。
上記の溶媒を単独で用いる以外でも、飽和炭化水素溶媒の反応系から、副生成物、残存する不純物を除去することができる混合溶媒を使用することができる。前記混合溶媒としては極性溶媒を含む溶媒であればよく、具体的には、メタノールと水の混合溶媒、アセトニトリルと水の混合溶媒、プロピレングリコールと水の混合溶媒、又は、メタノールとエチレングリコールの混合溶媒が好ましく例示できる。

また、本発明の炭酸エステルの製造方法に使用する飽和炭化水素溶媒と極性有機溶媒との組み合わせとしては、前述した飽和炭化水素溶媒の好ましい範囲及び前述した極性有機溶媒の好ましい範囲の組み合わせもまた好ましく、ヘプタン又はヘキサンと、メタノール、アセトニトリル、又は、メタノール若しくはアセトニトリルを少なくとも含む混合溶媒との組み合わせが特に好ましい。
また、飽和炭化水素溶媒と極性有機溶媒との具体的な組み合わせの例としては、ヘキサンとメタノール、ヘプタンとアセトニトリル、デカンとメタノール、オクタンとアセトニトリル、オクタンとメタノール、ドデカンとアセトンなどが好ましく挙げられるが、より好ましくはヘキサンとメタノール、ヘプタンとメタノール、ヘプタンとアセトニトリルの組み合わせが選ばれ、ヘキサンとメタノール、ヘプタンとメタノールの組み合わせがさらに好ましい。

本発明の製造方法を用いて不純物を除去されたカーボネート化合物は極めて純度が高く、ガスクロマトグラフィー等による検出が困難な成分をも取り除かれたものである。

（磁気記録媒体）
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を有し、該磁性層が本発明の炭酸エステルを含有し、該磁性層表面に存在する突起数が式（２）を満足する。
０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．２０ （２）
（Ｈ₁₀は磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ未満の突起の単位面積あたりの数（個／μｍ²）を表し、Ｈ₁₅は磁性層表面に存在する高さ１５ｎｍ以上の突起の単位面積あたりの数（個／μｍ²）を表す。）

本発明の磁気記録媒体は、従来の磁気記録媒体に比べ、極めて高度な耐久性、電磁変換特性、及び、保存安定性を達成するものである。
例えば、特開平７−１３８５８６号公報及び特開平８−７７５４７号公報では、炭酸エステルが実施例に用いられているものの、比較的粗い表面を有し、十分な電磁変換特性を確保することが困難であった。
また、特開２００３−３２３７１１号公報に記載されているように研磨剤に関する特定の突起密度の表面性にすることである程度の電磁変換特性と耐久性を確保できるものの、平滑な媒体で十分な耐久性を満足するには、潤滑性に優れるアルキル炭酸エステルが必要となる。特開２００３−３２３７１１号公報に記載されているような脂肪酸エステルでは、耐久性が不十分であり、また、脂肪酸エステルでは加水分解反応が避けられず、保存安定性も不十分である。

高度な電磁変換特性と耐久性を有する本発明の磁気記録媒体を得るには、鋭意検討の結果、前記式（２）を満足する必要があることが分かった。
また、加水分解しにくいカーボネート骨格を有し、分子量の割に粘度が低い特徴を有するアルキル炭酸エステルを上記表面性の媒体に使用することで十分な、電磁変換特性と耐久性、保存性を全て満足できることが分かった。

本発明者らは、磁性層表面に存在している突起高さや各種潤滑剤と、電磁変換特性及び走行耐久性の関係について詳細に調べた。その結果、表面に本発明の炭酸エステルが適度に存在することによって、ヘッド／テープの摺動抵抗が小さくなるので耐久性を良好にできる上、従来の脂肪酸エステルに対して加水分解しにくい構造であるため、良好な保存安定性を確保できることが分かった。また、電磁変換特性、走行耐久性共に磁性層表面からの突起高さとの関係が強く、高い突起を少なくして低い突起を数多く形成することで、電磁変換特性を良好にでき、本発明の磁気記録媒体においては、磁性層表面に存在する突起について高さ１０ｎｍ未満のものの単位面積あたりの数をＨ₁₀、高さ１５ｎｍ以上のものの単位面積あたりの数をＨ₁₅としたときに、０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．３０の範囲では良好な電磁変換特性、走行耐久性の両立が図れる。より好ましいのは０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．２０のときである。Ｈ₁₅／Ｈ₁₀がこの範囲よりも小さいときは、高い突起が少なすぎるとヘッドに付着した汚れを除去する能力がなくなる等の原因で信頼性が劣化してしまう。逆に高い突起が多すぎるとスペーシングロスの影響が大きくなり、電磁変換特性が劣化してしまう。ただし、磁性層表面の突起高さのみの制御だけでは、十分な走行耐久性を確保できないことが分かった。

従来から磁性層表面に存在する潤滑剤の作用として、表面の潤滑剤量はヘッドとテープの摺動特性と密接な関係にあることが判っている。磁性層表面に潤滑剤が安定に存在することで、ヘッドとテープの摺動抵抗を小さくでき、走行耐久性を向上できる。近年の磁気記録媒体の高容量化の要求に伴って、磁性層は薄層化してゆく必要があり、薄層化にともない磁性層に含浸できる潤滑剤の量は少なくなってしまい、記録／再生ヘッドによる摺動で潤滑剤が次第に除去されてしまい潤滑剤が不足するため削れ、停止等を発生してしまうことがあった。また、磁気特性の向上のため磁性層表面はますます平滑化が必要であり、このため従来の潤滑剤では十分な走行性、繰り返し走行性、耐久性に効果を発揮し得なくなってきている。従来の潤滑油が少ない場合にはその潤滑効果を高めるため潤滑剤の量を多くすると、磁性塗膜の機械的強度は弱くなり、磁性層が削れ、削れ粉が走行経路を汚したり、あるいは十分な繰返し走行耐久性が得られなかったりした。
従来はステアリン酸ブチルの如き脂肪酸エステルとミリスチン酸の如き脂肪酸を混合して用いることが知られている。しかしながら、脂肪酸エステル及び脂肪酸を用いると高湿状態で走行させたとき、摩擦が大きくなり磁気テープの走行テンションが大きくなるという問題が生じた。
脂肪酸は単独で使用した場合は、滑性を得るためには、多量に用いる必要があり、この場合には磁性層が軟らかくなり、機械的強度が低下し、テープ／ヘッド間の相対速度に相当する高速摺動耐久性が劣化する欠点があった。また、脂肪酸と脂肪酸エステル化合物との併用は、高速摺動耐久性が良好となり、かつテンションも比較的小さくなるが、しかし８５％ＲＨ（相対湿度）というような高湿条件においては走行テンションが大きくなる欠点を有していた。

本発明者らは、本発明の製造方法により製造された前記式（１）で表される飽和アルキル基を有した炭酸エステル（カーボネート）を潤滑剤として使用することで良好な走行耐久性を確保できることを見出した。本発明の飽和アルキル炭酸エステルは分子量の割に粘度が低いため流体潤滑性が高く、且つ脂肪酸エステルで無くカーボネートであるから加水分解しずらいため保存安定性が高い。
特開平８−７７５４７号公報では不飽和アルキル炭酸エステルを使用した磁気記録媒体を開示しているが、この炭酸エステルは不飽和基を持つため結合剤への相溶性が高い。そのため薄層化した最上層あるいは単層磁性層だけに潤滑剤を添加しても表面に潤滑剤がわずかにしか出てこないため、走行耐久性において記録／再生ヘッドによる摺動で潤滑剤が次第に除去されてしまい走行停止等を引き起こしてしまう等の問題があった。そこで１〜５μｍの厚みの下層に潤滑剤を添加し、不足する潤滑剤を下層に添加することで常に潤滑剤量を上層へ補うことを開示しているが、近年の高密度化を狙い下層厚みを１μｍ以下に薄層化した媒体では十分な耐久性を得られない。不飽和結合を含まない本発明の飽和アルキル炭酸エステルでは、結合剤への相溶性を適度に抑えることで十分な表面量を確保できることが分かった。
また、前述したように本発明の製造方法を用いて前記式（１）で表される炭酸エステルは不純物が除去され、極めて純度が高いため、使用した磁気記録媒体は電磁変換特性、耐久性及び保存性を全て満足できる。

磁気記録媒体表面の突起高さ分布を制御するには、例えば、以下のような方法が挙げられる。
１）研磨剤分散バインダー：研磨剤を結合剤と溶剤であらかじめ分散してから研磨剤を含まない磁性液に添加し、混合分散して磁性塗料とする方法、あるいは研磨剤と結合剤と溶剤をあらかじめ分散しておきこれに別途分散した研磨剤を含まない磁性液を混合し、必要に応じてさらに分散して磁性塗料とする方法において、研磨剤を分散する際のバインダーと、研磨剤を含まない磁性液中のバインダーの相溶性を高くする或いは低くする。相溶性が高ければ磁性層が塗布乾燥される際の研磨剤粒子の移動を抑制でき研磨剤の突出高さを低くでき、逆に相溶性を低くすれば研磨剤の突出高さを高くできる。
２）カレンダの強押し：高圧力、高温度の下、金属ロールなどの硬いロールで磁性層表面を成形し高い研磨剤突起を磁性層中に押し込ませる。線圧力としては、好ましくは２，０００〜４，５００Ｎ／ｃｍ（２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ）、より好ましくは２，５００〜４，０００Ｎ／ｃｍ（２５０〜４００ｋｇ／ｃｍ）で処理温度は、好ましくは７０〜１１０℃、より好ましくは８０〜１００℃である。また、処理速度は、好ましくは５０〜４００ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは８０〜３００ｍ／ｍｉｎである。線圧力及び処理温度が上記範囲であると、Ｈ₁₅／Ｈ₁₀が適切な範囲であり、走行耐久性及び電磁変換特性に優れる。
３）バインダーの調整：磁性層のバインダーの種類や配合比を調整してカレンダ前の磁性層のＴｇを小さくすると、同じ条件でカレンダしてもＨ₁₅／Ｈ₁₀は小さくなる。また、磁性体に対するバインダーの量を分散を損ねない程度に適度に少なくすると、カレンダ前の磁性層の空隙が多くなり、同じ条件でカレンダしてもＨ₁₅／Ｈ₁₀を小さくできる。
４）混練条件；磁性塗料の調整の際には、磁性体とバインダーと少量の溶剤で、ニーダーなどの装置を用いて強い剪断力で混練処理を行うのが一般的である。混練処理により磁性体とバインダーの吸着力が増し磁性層の充填度が大きくなりまた磁性層の強度が大きくなる。強く混練すると充填度が大きくなるが塗布後の磁性層の空隙が少なくなりカレンダされにくくなりＨ₁₅／Ｈ₁₀が大きくなる。
また、磁性体、非磁性下層に用いる非磁性粉体の粒子サイズ及び分散条件によっては、粉体の凝集物が磁性層及び非磁性下層に含まれる。そのような媒体の表面には粗大な突起を生じ、Ｈ₁₅／Ｈ₁₀は大きくなる。
５）ブレード処理：磁気テープを研磨テープにラッピングしたり、ダイヤモンド粉末などの硬い粉末を散りばめた回転ロールにラッピングさせて、磁性層を研磨処理し、研磨剤の突起をトップカットする。

I．磁性層
本発明の磁気記録媒体における磁性層は、本発明の飽和アルキル炭酸エステルを含有し、強磁性粉末を結合剤中に分散した層であり、磁気記録及びその再生に寄与する層である。

＜強磁性粉末＞
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末は、コバルト含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末でＳ_BET比表面積が、好ましくは４０〜８０ｍ²／ｇ、より好ましくは５０〜７０ｍ²／ｇである。結晶子サイズは、好ましくは１２〜２５ｎｍ、より好ましくは１３〜２２ｎｍであり、特に好ましくは１４〜２０ｎｍである。長軸長は、好ましくは０．０５〜０．２５μｍであり、より好ましくは０．０７〜０．２μｍであり、特に好ましくは０．０８〜０．１５μｍである。

強磁性粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅが挙げられ、強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Ｙ／Ｆｅが０．５原子％〜２０原子％が好ましく、更に好ましくは５〜１０原子％である。上記範囲であると、強磁性粉末の高σ_S化でき、また、鉄の含有量が適度であるため、磁気特性が良好であり、電磁変換特性に優れる。さらに、鉄１００原子％に対して２０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物又は酸化物を含むものなどであってもよい。

本発明の磁気記録媒体において、コバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を示す。第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましく、その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）₂の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ₃の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第この製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩などを共存させても良く、このような塩を適宣選択して用いることによって粒子形状（軸比）などを調製することができる。

第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。

本発明の強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用しても良い。強磁性粉末の形状に特に制限はないが、通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状及び板状のものなどが使用される。とくに針状の強磁性粉末を使用することが好ましい。

本発明の磁性層に使用する強磁性粉末としては六方晶フェライト粉末も使用できる。
六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｒなどの原子を含んでもかまわない。例えば、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加したものを好ましく使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。

粒子サイズは六角板径で好ましくは１０〜２００ｎｍ、より好ましくは２０〜１００ｎｍである。また、磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下が好ましい。上記範囲であると、熱揺らぎが生じにくく安定な磁化が得られ、また、ノイズを低く抑えることができる。
板状比（板径／板厚）は１〜１５が好ましく、より好ましくは２〜７である。板状比が上記範囲であると、十分な配向性が得られ、また、粒子間のスタッキングが少なくノイズを低く抑えることができる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積（Ｓ_BET）は１０〜２００ｍ²／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。
結晶子サイズは、好ましくは５０〜４５０Å（５〜４５ｎｍ）、より好ましくは１００〜３５０Å（１０〜３５ｎｍ）である。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。

磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは５００ Ｏｅ〜５，０００ Ｏｅ（３９．８ｋＡ／ｍ〜３９８ｋＡ／ｍ）程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。抗磁力Ｈｃは、８００ Ｏｅ〜４，０００ Ｏｅ（６３．７ｋＡ／ｍ〜３１８．４ｋＡ／ｍ）であることが好ましく、より好ましくは１，５００ Ｏｅ（１１９．４ｋＡ／ｍ）以上３，５００ Ｏｅ（２７８．６ｋＡ／ｍ）以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラーを越える場合は、２，０００ Ｏｅ以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。
飽和磁化σｓは４０ｅｍｕ／ｇ〜８０ｅｍｕ／ｇ（４０Ａ・ｍ²／ｋｇ〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇ）である。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。

磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理剤は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して好ましくは０．１〜１０％である。
磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１０程度が好ましく選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが、好ましくは０．０１〜２．０％である。

六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。

また、本発明の磁気記録媒体における磁性層に使用することができる強磁性粉末としては、窒化鉄粒子も使用することができる。
本発明に用いることができる窒化鉄粒子は、Ｆｅ及びＮを少なくとも構成元素とした球状または回転楕円状の窒化鉄系磁性体である。ここで、「球状」とは粒子径の最大長／最小長の比が１以上２未満である粒子を意味し、「回転楕円体」とは粒子径の最大長／最小長の比が２以上４未満である粒子を意味する。

以下にこの窒化鉄系磁性体及びその製造方法を説明する。
Ｆｅ及びＮを少なくとも構成元素として有する球状または楕円状の窒化鉄系磁性体
窒化鉄粒子は、少なくともＦｅ₁₆Ｎ₂相を含むことが望ましく、他の窒化鉄の相を含まないことが好ましい。これは、窒化鉄（Ｆｅ₄ＮやＦｅ₃Ｎ相）の結晶磁気異方性は１×１０^-1Ｊ／ｃｍ³（１×１０⁵ｅｒｇ／ｃｃ）程度であるのに対し、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相は２〜７×１０^-1Ｊ／ｃｍ³（２〜７×１０⁶ｅｒｇ／ｃｃ）の高い結晶磁気異方性を有するからである。これにより、微粒子化した際にも高い保磁力を維持することができる。
この高い結晶磁気異方性は、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相の結晶構造に起因する。結晶構造は、Ｎ原子がＦｅの八面体格子間位置に規則的に入った体心正方晶であり、Ｎ原子が格子に入る際の歪が、高い結晶磁気異方性の発生原因と考えられる。Ｆｅ₁₆Ｎ₂相の磁化容易軸は窒化により伸びたＣ軸である。

Ｆｅ₁₆Ｎ₂相を含む粒子の形状は球状ないし回転楕円状であることが好ましい。さらに好ましくは球状である。これは、立方晶であるα−Ｆｅの等価な３方向のうち一方向が窒化により選ばれｃ軸（磁化容易軸）となるため、粒子形状が針状であれば、磁化容易軸が短軸方向、長軸方向にある粒子が混在することになり好ましくないからである。一つの粒子の最大径を長軸長、最小径を短軸長として、長軸長／短軸長の軸比の平均値は好ましくは、１〜２であり、より好ましくは１〜１．５であり、粒径と記載されたものは長軸長を表すものとする。

磁性体であるＦｅ₁₆Ｎ₂相の粒径としては５〜５０ｎｍが好ましく、１０〜３０ｎｍが更に好ましい。これは、粒径が小さくなると熱揺らぎの影響が大きくなり、超常磁性化し、磁気記録媒体に適さなくなるからである。また、磁気粘性のためヘッドで高速記録する際の保磁力が高くなり、記録しづらくなるからである。一方、粒径が大きいと、飽和磁化を小さくすることができないため、記録時の保磁力が高くなりすぎ、記録をすることが困難となるからである。また、粒子サイズが大きいと、磁気記録媒体としたときの粒子性のノイズが高くなるからである。

粒径分布は、単分散であることが好ましくい。これは一般的には、単分散の方が、媒体ノイズが下がるためである。粒径の変動係数は好ましくは２０％以下（１〜２０％）であり、より好ましくは１５％以下（２〜１５％）であり、さらに好ましくは、１０％以下（２〜１０％）である。
なお、本明細書において「粒径の変動係数」とは、円相当径での粒径分布の標準偏差を求め、これを平均粒径で除したものを意味する。また「組成の変動係数」とは、粒径の変動係数と同様に、合金ナノ粒子の組成分布の標準偏差を求め、これを平均組成で除したものを意味する。本発明においては、これらの値を１００倍して％表示とする。

粒径及び粒径の変動係数は、カーボン膜を貼り付けたＣｕ２００メッシュに希釈した合金ナノ粒子を載せて乾燥させ、ＴＥＭ（日本電子（株）製１２００ＥＸ）で１０万倍で撮影したネガを粒径測定器（カールツァイス社製ＫＳ−３００）で測定される算術平均粒径から算出することができる。

Ｆｅ₁₆Ｎ₂相を含む粒子において、鉄に対する窒素の含有量は、１．０〜２０．０ａｔｍ％が好ましく、さらに好ましくは５．０〜１８．０ａｔｍ％、より好ましくは８．０〜１５．０ａｔｍ％であるのがより好ましい。これは、窒素が少なすぎると、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相の形成量が少なくなるからであり、保磁力増加は窒化による歪に起因しており、窒素が少なくなると保磁力が低くなるからである。窒素が多すぎると、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相は準安定相であるため、分解して安定相である他の窒化物となり、この結果、飽和磁化が過度に低下するからである。

微粒子のＦｅ₁₆Ｎ₂相は酸化安定性に乏しく、表面化合物相が無ければ発火する懸念があるためである。そこで、酸化物、窒化物、炭化物からなる表面化合物層を有するコア／シェル構造とすることが好ましく、酸化安定性の観点から、表面化合物層は酸化物であることが好ましい。
表面化合物層は、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相を徐酸化して形成することも出来るが、希土類元素あるいはホウ素、シリコン、アルミニウム、リンの中から選ばれた少なくとも１種の元素を含む表面化合物層を用いることが好ましい。
表面化合物層の厚さは１〜５ｎｍが好ましい。これは、１ｎｍより薄いと、酸化安定性に劣り、５ｎｍより厚いと、磁性粉末中に占める表面化合物層の割合が増加して、粒子サイズが小さくなるにつれて、適度な飽和磁化量を維持できなくなるからである。
表面化合物層の組成は、鉄に対する希土類元素あるいはホウ素、シリコン、アルミニウム、リンの総含有量は、０．１〜４０．０ａｔｍ％が好ましく、さらに好ましくは１．０〜３０．０ａｔｍ％、より好ましくは３．０〜２５．０ａｔｍ％であるのがよい。これらの元素が少なすぎると、表面化合物層の形成が困難となり、磁性粉末の磁気異方性が減少するだけでなく、酸化安定性に劣る。またこれらの元素が多すぎると、飽和磁化の過度な低下が起こりやすい。

Ｆｅ₁₆Ｎ₂相の飽和磁化（σｓ）は、５０〜１５０ｅｍｕ／ｇ(５０〜１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ)であることが好ましく、７０〜１３０ｅｍｕ／ｇ(７０〜１３０Ａ・ｍ²／ｋｇ)であることがより好ましい。飽和磁化が高いと記録時の保磁力が高くなり、記録ヘッドで記録できなくなるからである。また、再生においても、飽和磁化を高くしてもＭＲヘッドが飽和し出力の向上が望めないからである。一方、低すぎると、再生出力が低くなることから好ましくない。
また、この磁性粉末は、ＢＥＴ比表面積（Ｓ_BET）が４０〜１００ｍ²／ｇであることが好ましい。これは、ＢＥＴ比表面積が小さすぎると、粒子サイズが大きくなり、磁気記録媒体に適用すると粒子性ノイズが高くなり、また磁性層の表面平滑性が低下して、再生出力が低下しやすい。
また、ＢＥＴ比表面積が大きすぎると、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相を含む粒子が凝集しやすくなり均一な分散物を得ることが難しく、平滑な表面を得ることが難しくなるからである。

〔α−Ｆｅの合成〕
Ｆｅ₁₆Ｎ₂相を含む粒子の製造方法について、説明する。Ｆｅ₁₆Ｎ₂相はα−Ｆｅを窒化することにより得られる。α−Ｆｅを得るには鉄系酸化物または水酸化物（たとえば、ヘマタイト、マグネタイト、ゲータイトなど）を気相中で還元して得る方法と、液相中で合成する方法がある。まず、気相中で還元する方法について説明する。鉄系酸化物または水酸化物の平均粒子サイズは、とくに限定されないが、通常は、５〜１００ｎｍ程度であるのが望ましい。粒子サイズが小さすぎると、還元処理時に粒子間焼結が生じやすく、また粒子サイズが大きすぎると、還元処理が不均質となりやすく、粒子径や磁気特性の制御が困難となる。

そこで、鉄系酸化物又は水酸化物に対して、希土類元素あるいはホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどの中から選ばれた少なくとも１種の元素を含む化合物を被着させ、焼結を防止することが好ましい。希土類元素の被着は、アルカリまたは酸の水溶液中に出発原料を分散させ、これに希土類元素の塩を溶解させ、中和反応などにより原料粉末に希土類元素を含む水酸化物や水和物を沈殿析出することにより行うことができる。ホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどの中から選ばれた少なくとも１種の元素を含む化合物を被着させる場合は、原料粉末を浸漬した溶液にこれらの化合物を溶解させ、吸着により被着させるか、沈澱析出を行うことにより被着させる。
水酸化物や水和物に対して、希土類元素とホウ素、シリコン、アルミニウム、リンなどの中から選ばれた少なくとも１種の元素を同時にあるいは交互に被着させてもよい。また、これらの被着処理を効率良く行うために、還元剤、ｐＨ緩衝剤、粒径制御剤などの添加剤を混入させることも好ましく行われる。

次に、化合物を被着させた水酸化物や水和物を、還元性ガス気流中で加熱した。還元ガスは、水素ガス、一酸化炭素ガスを用いることができる。処理後Ｈ₂Ｏとなる水素が環境適性の観点から好ましく用いられる。
還元温度としては、２５０〜６００℃とするのが好ましく、より好ましくは３００〜５００℃である。この温度範囲では、還元温度が十分に進み、粒子の焼結も防止できる。

気相還元での粒子の焼結を避ける方法として、α−Ｆｅを液相中で合成する方法が好ましく用いられる。鉄ナノ粒子（大きさがナノオーダーの鉄粒子）の製造法としては、沈殿法で分類すると、１級アルコールを用いるアルコール還元法、２級アルコール、３級アルコール、２価または３価の多価アルコールを用いるポリオール還元法、熱分解法、超音波分解法、強力還元剤還元法が知られている。さらに、前記製造法は、反応系で分類すると、高分子存在法、高沸点溶媒法、正常ミセル法、逆ミセル法などが知られている。

まず、粒径の制御が容易で単分散の分産物を得やすく、本発明において好ましく用いられる逆ミセル法について説明を行う。

［鉄ナノ粒子の逆ミセル合成法］
次に合金ナノ粒子の製造方法を説明する。
合金ナノ粒子は、１種以上の金属化合物を含む逆ミセル溶液（I）と還元剤を含む逆ミセル溶液（II）とを混合して還元処理を施す還元工程と、必要に応じて前記還元処理後に熟成処理を施す熟成工程とにより製造できる。かかる製造方法により、鉄ナノ粒子が製造される。以下、各工程について説明する。

〔還元工程〕
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と１種以上の金属化合物を含む水溶液とを混合した逆ミセル溶液（I）を調製する。逆ミセル溶液（I）は、鉄ナノ粒子を形成するのに用いられる鉄塩が含有される。

前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。

前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン及びエーテルである。アルカンは、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカンが挙げられる。一方、エーテルは、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテルが好ましい。
非水溶性有機溶媒中の界面活性剤の添加量は、２０〜２００ｇ／ｌであることが好ましい。

金属化合物の水溶液に含有される金属化合物としては、硝酸塩、硫酸塩、塩酸塩、酢酸塩、塩素イオンを配位子とする金属錯体の水素酸、塩素イオンを配位子とする金属錯体のカリウム塩、塩素イオンを配位子とする金属錯体のナトリウム塩、シュウ酸イオンを配位子とする金属錯体のアンモニウム塩などが挙げられ、本発明の製造方法では、これらを任意に選択して使用することができる。

各々の金属化合物水溶液中の金属化合物としての濃度は、０．１〜２，０００μｍｏｌ／ｍｌであることが好ましく、１〜５００μｍｏｌ／ｍｌであることがより好ましい。
得られる粒子が均一な組成を有するよう、金属化合物水溶液中にキレート剤を添加することが好ましい。具体的には、ＤＨＥＧ（二ヒドロキシエチルグリシン）、ＩＤＡ（イミノ二酢酸）、ＮＴＰ（ニトリロ三プロピオン酸）、ＨＩＤＡ（二ヒドロキシエチルイミノ二酢酸）、ＥＤＤＰ（エチレンジアミン二プロピオン酸二塩酸塩）、ＢＡＰＴＡ（二アミノフェニルエチレングリコール四酢酸四カリウム塩水和物）などをキレート剤として使用することが好ましい。また、キレート安定度定数（ｌｏｇＫ）は、１０以下であることが好ましい。
キレート剤の添加量は、金属化合物１モル当たり、０．１〜１０モルであることが好ましく、０．３〜３モルであることがより好ましい。

次に、還元剤を含む逆ミセル溶液（II）を調製する。逆ミセル溶液（II）は、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合させて調製することができる。２種以上の還元剤を用いる場合、これらを一緒に混合して逆ミセル溶液（II）としてもよいが、溶液の安定性や作業性等を考慮し、それぞれ別々に非水溶性有機溶媒に混合して、別々の逆ミセル溶液（（II’）、（II”）等）として調製し、これらを適宜混合等して使用することが好ましい。

還元剤水溶液は、例えば、アルコール類；ポリアルコール類；Ｈ₂；ＨＣＨＯ、Ｓ₂Ｏ₆ ^2-、Ｈ₂ＰＯ₂ ^-、ＢＨ₄ ^-、Ｎ₂Ｈ₅ ⁺、Ｈ₂ＰＯ₃ ^-等と水とからなり、これらの還元剤を単独または２種以上を併用することが好ましい。
水溶液中の還元剤量は、金属塩１モルに対して３〜５０モルであることが好ましい。

逆ミセル溶液（II）で用いられる界面活性剤及び非水性有機溶媒としては、逆ミセル溶液（I）で用いたものを挙げることができる。

逆ミセル溶液（I）及び（II）のそれぞれに含有される水及び界面活性剤の重量比（水／界面活性剤）は、２０以下とすることが好ましい。重量比が２０以下であれば、沈殿が発生しにくく、かつ均一の粒子を得ることができる。重量比は、１５以下であることがより好ましく、０．５〜１０であることがさらに好ましい。

逆ミセル溶液（I）と（II）の水及び界面活性剤の重量比は同一でも異なっていてもかまわないが、系を均一にするために重量比は同一であることが好ましい。

以上のようにして調製した逆ミセル溶液（I）と（II）とを混合する。混合方法は特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（I）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（II）を添加して混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は−５〜３０℃の範囲で一定の温度とする。還元温度が−５℃以上であれば、水相が凝結することもなく還元反応を均一にすることができ、また３０℃以下であれば、凝集または沈殿が起こりにくく、系を安定化させることができる。好ましい還元温度は０〜２５℃であり、さらに好ましくは５〜２５℃である。
ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、温度がＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限及び下限は、上記還元温度（−５〜３０℃）の範囲にあるものとする。

還元反応の時間は、逆ミセル溶液（I）及び（II）の量等により適宜設定する必要があるが、１〜３０分とすることが好ましく、５〜２０分とすることがより好ましい。
還元反応は、合金の粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速撹拌（例えば約３，０００ｒｐｍ以上）しながら行うことが好ましい。
好ましい撹拌装置は高剪断力を有する撹拌装置であり、詳しくは撹拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端又は羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる撹拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業（株）製）、オムニミキサー（ヤマト科学（株）製）、ホモジナイザー（（株）ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散なナノ粒子を安定な分散液として合成することができる。

前記逆ミセル溶液（I）及び（II）の反応後に、アミノ基またはカルボキシ基を１〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金ナノ粒子１モル当たりに０．００１〜１０モル添加することが好ましい。分散剤の添加量は、０．００１〜１０モルであれば、合金ナノ粒子の単分散性をより向上させることができ、かつ凝集も起こらない。

前記分散剤としては、合金ナノ粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルフィン酸基を１〜３個有するものであり、これらを単独又は併用して用いることができる。
構造式としては、Ｒ−ＮＨ₂、Ｈ₂Ｎ−Ｒ−ＮＨ₂、Ｈ₂Ｎ−Ｒ（ＮＨ₂）−ＮＨ₂、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＨＯＣＯ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＨＯＣＯ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＨＯＳＯ₂−Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＨＯＳＯ₂−Ｒ（ＳＯ₃Ｈ）−ＳＯ₃Ｈ、Ｒ−ＳＯ₂Ｈ、ＨＯＳＯ−Ｒ−ＳＯ₂Ｈ、ＨＯＳＯ−Ｒ（ＳＯ₂Ｈ）−ＳＯ₂Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐若しくは環状の飽和又は不飽和の炭化水素残基である。

分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄ナノ粒子を保護するのに用いられる。オレイン酸の比較的長い鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える（オレイン酸は１８炭素鎖を有し、長さは２ｎｍ程度（２０オングストローム程度）であり、二重結合を１つ有する）。オレイン酸は、例えばオリーブ油などから容易に入手できる安価な天然資源であるため好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。
その他、エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸と同様に用いることができる（例えば、８〜２２の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独又は組み合わせて用いることができる。）。

分散剤の添加時期は、特に限定されるものではないが、還元反応直後から下記の熟成工程開始までの間であることが好ましい。かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集のない鉄ナノ粒子を得ることができる。

〔熟成工程〕
本発明の製造方法は、前記還元反応が終了した後、さらに反応後の溶液を熟成温度まで昇温させる熟成工程を有する。
熟成温度は、３０〜９０℃の間で一定の温度とすることが好ましく、その温度は、前記還元反応の温度より高くすることが適当である。また、熟成時間は、５〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度及び熟成時間が上記範囲内であれば、凝集や沈殿が起こり難く、かつ反応を完結させ、組成を一定にすることができる。より好ましい熟成温度及び熟成時間は４０〜８０℃、１０〜１５０分であり、さらに好ましい熟成温度及び熟成時間は４０〜７０℃、２０〜１２０分である。

ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。当該温度を５℃以上高くすることにより、処方通りの組成を得ることができる。

以上のような熟成工程では、熟成時の温度で撹拌速度を適宜調整することにより、所望の粒径を有する鉄ナノ粒子を作製することができる。
前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。かかる洗浄・分散工程を設けることにより、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層形成時の塗布性をより向上させることができる。
上記洗浄及び分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくはそれぞれ２回以上行う。

洗浄で用いられる１級アルコールは、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。水と１級アルコールの体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。水の比率が高いと、界面活性剤が除去されにくくなることがあり、逆に１級アルコールの比率が高いと、凝集を起こしてしまうことがある。

鉄を還元析出あるいは熱析出させる際に保護コロイドを存在させる事でナノ粒子を安定して調製することができる。熱析出には鉄カルボニルを熱分解して鉄を得る方法が知られている。保護コロイドとしてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。前記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニル−２−ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。なかでも、特に好ましくはＰＶＰである。また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する硬磁性ナノ粒子の重量の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．１〜５倍がより好ましい。

保護コロイドとして好ましく用いられる界面活性剤は、式：Ｒ−Ｘで表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記式中のＲは、直鎖若しくは分岐ハイドロカーボン又はフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８〜２２個の炭素原子を含む。また、上記式中のＸは、ナノ粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ）、スルホネート（−ＳＯ₂ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）₂）、カルボキシレート、及び、チオールのいずれかであることが好ましい。

前記有機安定剤としては、スルホン酸類（Ｒ−ＳＯ₂ＯＨ）、スルフィン酸類（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸類（Ｒ₂ＰＯＯＨ）、ホスホン酸類（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）₂）、カルボン酸類（Ｒ−ＣＯＯＨ）、チオール類（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらの中でも、オレイン酸が特に好ましい。

オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄系ナノ粒子の保護に好適である。オレイン酸は１８炭素鎖を有し、その長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。また、オレイン酸には脂肪族ではなく二重結合が１つ存在する。そして、オレイン酸の比較的長い鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（例えば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独で又は組み合わせて用いることができる）用いられてきが、オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので、特に好ましい。

前記ホスフィンと有機安定剤との組み合わせ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長及び安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテル及びジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテル又はｎ−オクチルエーテルはその低コスト及び高沸点のため溶媒として好適に用いられる。

反応は必要なナノ粒子及び溶媒の沸点により８０℃〜３６０℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０℃〜２４０℃がより好ましい。温度が上記範囲であると、粒子が十分成長し、また、粒子の成長に対する制御性に優れ、副産物の生成が抑制することができる。

粒子サイズを大きくするため、種晶法を用いることが好ましい。その際、種晶の鉄粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。
鉄ナノ粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、ナノ粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、このような方法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。

〔窒化処理〕
窒化処理に先立ち、鉄ナノ粒子の酸化が懸念される場合には、水素あるいは水素と不活性ガス（Ｈ₂、Ａｒ、Ｈｅ等）との混合ガス気流中還元処理を行うことができる。温度としては２００℃〜３００℃が好ましく、より好ましくは２５０℃〜３００℃である。上記範囲であると、粒子の融着が起こらず、また、十分に還元することができる。

鉄ナノ粒子を窒素含有ガス気流中で加熱することでＦｅ₁₆Ｎ₂相を得ることができる。
窒化ガスについては、窒素ガス、窒素＋水素の混合ガス、アンモニアガス等が使用できるが、アンモニアガスが使用に便宜である。
ＮＨ₃雰囲気中での窒化処理は、アンモニア（ＮＨ₃）気流中あるいはアンモニアガスを含んだ混合ガス気流中（例えばアルゴン、水素、窒素のいずれか一つ以上のガスを含んだ、アンモニアガスとの混合ガス）で行うのが好ましく、しかも１００〜２５０℃の比較的低温度域で行うのがより好ましい。窒化処理温度が上記範囲であると、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相が十分得られ、また、Ｆｅ₁₆Ｎ₂相生成の進行が十分速い。なお、これらのガスは高純度（５Ｎ以上）もしくは酸素量が数ｐｐｍ以下であることが好ましい。
１００〜２５０℃の温度範囲で０．５〜４８時間の範囲が工業的に好ましく、処理時間は粒径にも依存するが、０．５〜２４時間で処理することがより好ましい。

このような窒化処理にあたり、得られる磁性粉末中の鉄に対する窒素の含有量が１．０〜２０原子％となるように、窒化処理の条件を選択することが望ましい。上記窒素の量が少なすぎると、Ｆｅ₁₆Ｎ₂の生成量が少ないため、保磁力向上の効果が少なくなる。また上記窒素の量が多すぎると、Ｆｅ₄ＮやＦｅ₃Ｎ相などが形成されやすくなり、保磁力がむしろ低下し、さらに飽和磁化の過度な低下を引き起こしやすい。

〔酸化皮膜〕
酸化皮膜を形成するには酸素濃度１〜５％の不活性ガス（Ｎ₂、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等）の雰囲気下で０〜１００℃の温度で１〜１０時間処理することにより前述の厚みの酸化皮膜を形成することができる。

希土類元素を被着するには、通常は、アルカリまたは酸の水溶液中に出発原料を分散させ、これに希土類元素の塩を溶解させ、中和反応などにより、Ｆｅ₁₆Ｎ₂を主に含む粒子に希土類元素を含む水酸化物や水和物を沈殿析出させるようにすればよい。

また、シリコンやアルミニウムさらに必要によりホウ素やリンなどの元素で構成された化合物を溶解させ、これにＦｅ₁₆Ｎ₂を主に含む粒子を浸漬して、Ｆｅ₁₆Ｎ₂を主に含む粒子に対して、シリコンやアルミニウムなどを被着させるようにしてもよい。これらの被着処理を効率良く行うため、還元剤、ｐＨ緩衝剤、粒径制御剤などの添加剤を混入させてもよい。
これらの被着処理として、希土類元素とシリコン、アルミニウムなどを同時にあるいは交互に被着させるようにしてもよい。

＜結合剤（バインダー）＞
本発明において、磁性層に用いることができる結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が好ましくは−１００〜１５０℃、数平均分子量が好ましくは１，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が好ましくは５０〜１，０００である。
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂が挙げられる。

また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等が挙げられる。

これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を非磁性層（下層）、又は、磁性層（上層）に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独又は組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、及び、ニトロセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、又はこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。

前記結合剤の具体的な例としては、ユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製ＵバイロンＲ８２００、ＵＲ８３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。

磁性層に用いることができる結合剤としては、上記の中でも、塩化ビニル系バインダー、又は、ポリウレタン系バインダーが好ましく、特に好ましくは極性基を含有し骨格に芳香環を３．５ｍｍｏｌ／ｇ〜７ｍｍｏｌ／ｇ含むポリウレタンである。
前記ポリウレタン系バインダーとしては、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリカーボネートウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、アクリル系ポリウレタン等を好適に用いることができる。前記のポリウレタン系バインダーは上記潤滑剤との親和性が高く表面潤滑剤量を最適な範囲に制御することができるため好ましい。
結合剤が有していてもよい極性基は、スルホン酸塩、スルファミン酸塩、スルホベタイン、リン酸塩、ホスホン酸塩などが好ましい。極性基の量は１×１０^-5ｅｑ／ｇ〜２×１０^-4ｅｑ／ｇが好ましい。

磁性層のバインダー量は、硬化剤を含めて強磁性粉末１００重量部に対し１０〜２５重量部であることが好ましく、非磁性下層のバインダー量は、非磁性粉末１００重量部に対し２５〜４０重量部であることが好ましく、また、磁性層及び非磁性下層のバインダー量は下層の方にバインダー量を多くすることが好ましい。
特に非磁性下層用バインダーは、ＳＯ₃Ｎａのような強い極性基と骨格に芳香環を多く含有する骨格が好ましい。これにより潤滑剤と非磁性下層バインダーとの親和性がより高まり、潤滑剤が非磁性下層に多く且つ安定的に存在することができる。
潤滑剤とバインダーとの親和性が適度であると、バインダーと潤滑剤とが完全に分子レベルで相溶せず、潤滑剤は上層に移行することができるため好ましい。

＜研磨剤＞
本発明の磁気記録媒体における磁性層は、研磨剤を含有することが好ましい。
研磨剤としては無機質非磁性粉末が使用できる。無機質非磁性粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。無機質化合物としては例えば、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどを単独又は組み合わせて使用することができる。特に好ましいのは、α−アルミナ、べんがら、酸化クロムである。
本発明に用いることができる研磨剤は、磁性層表面に存在している研磨剤の突出高さ分布であるＨ₁₅／Ｈ₁₀が、上記範囲になるように、種類、量、粒径、組み合わせ、形状等を種々変えて使用する。
研磨剤を１種のみ使用する場合、本発明で使用する研磨剤の平均粒径は、０．０５〜０．４μｍのものが好ましく、０．１〜０．３μｍのものがより好ましい。また、平均粒径より０．１μｍ以上大きい粒径の粒子が１〜４０％存在していることが好ましく、５〜３０％であることがより好ましく、１０〜２０％であることが最も好ましい。この研磨剤単体での粒子サイズは、実際の磁性層表面に存在している研磨剤粒子の粒子サイズに影響は与えるが等しくはない。磁性層表面に存在する研磨剤粒子の粒子サイズは研磨剤の分散条件等よっても変化するし、塗布乾燥工程でも磁性層表面に出やすい粒子と出にくい粒子がある。

平均粒径の異なる２種以上の研磨剤を組み合わせて使用することもできる。この場合は使用する２種以上の研磨剤の実際の使用比率に応じた加重平均値において、平均粒径と平均粒径より０．１μｍ以上大きい粒径の粒子が上記の範囲になるようにすることができる。
また、２種の研磨剤それぞれの分散条件を変えて、粒子サイズを制御することもできる。例えば研磨剤Ａをあらかじめ結合剤と溶剤とともに分散しておき、これと、粉体のままの研磨剤Ｂを、別途結合剤と溶剤とともに混練処理した強磁性金属粉末の混練処理液に添加して、分散処理を行えば、研磨剤Ａと研磨剤Ｂで分散処理条件を違えることができる。すなわち、Ｂに比べてＡは強く分散される。研磨剤粉末のタップ密度は、好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。
研磨剤粉末の含水率は、好ましくは０．０５〜５重量％、より好ましくは０．２〜３重量％である。研磨剤の比表面積は、好ましくは１〜１００ｍ²／ｇ、より好ましくは５〜５０ｍ²／ｇである。ＤＢＰを用いた吸油量は、好ましくは５〜１００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇである。比重は、好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでもよい。これらの研磨剤の表面は、当該研磨剤の主成分とは異なる化合物で、その少なくとも一部が被覆されていてもよい。この例として、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯを挙げることができる。特にＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂を用いると分散性が良好になる。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いてもよい。

磁性層に用いることができる研磨剤の粉末の具体例としては、昭和電工（株）製のナノタイト；住友化学工業（株）製のＨｉｔ１００、Ｈｉｔ８２、Ｈｉｔ８０、Ｈｉｔ７０、Ｈｉｔ６０Ａ、Ｈｉｔ５５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＺＡ−Ｇ１；レイノルズ製のＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＦ−ＤＢＭ、ＨＰＦＸ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、ＨＰＳＸ−ＤＢＭ；不二見研摩材製のＷＡ８０００、ＷＡ１００００；上村工業（株）製のＵＢ２０、ＵＢ４０Ｂ、メカノックスＵ４；昭和軽金属（株）製のＵＡ２０５５、ＵＡ５１５５、ＵＡ５３０５；日本化学工業（株）製のＧ−５、クロメックスＭ、クロメックスＳ１、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、クロメックスＸ１０、クロメックスＫＸ１０；日本電工（株）製のＮＤ８０３、ＮＤ８０２、ＮＤ８０１；東ソー（株）製のＦ−１、Ｆ−２、ＵＦ−５００；戸田工業（株）製のＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸＴＦ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＴＦ−１８０；昭和鉱業（株）製のＡ−３、Ｂ−３；セントラル硝子（株）製のベータＳｉＣ、ＵＦ；イビデン（株）製のベータランダムスタンダード、ベータランダムウルトラファイン；帝国化工製のＪＲ４０１、ＭＴ５００Ｂ；石原産業（株）製のＴＹ−５０、ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、Ｅ２７０、Ｅ２７１；チタン工業（株）製のＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ；テイカ（株）製のＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ；堺化学工業（株）製のＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ；北開化学製のＨＺｎ、ＨＺｒ３Ｍ、同和鉱業（株）製のＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル（株）製のＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂Ｐ２５；宇部興産（株）製の１００Ａ、５００Ａ；チタン工業（株）製のＹ−ＬＯＰ、及び、これらを焼成したものが挙げられる。

＜添加剤＞
本発明の磁気記録媒体における磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラック、などを挙げることができる。また、添加剤として、前記炭酸エステル以外の潤滑剤を併用してもよい。
これら添加剤としては、例えば、二硫化タングステン、グラファイト、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸及びそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステル及びそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステル及びそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸及びこれらの金属塩、又は、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコール又はアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステル又は多価脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基及びＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ₃、ＣＣｌ₃、ＣＢｒ₃等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。

上記分散剤、併用してもよい潤滑剤等の添加剤は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジェルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−３、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ、ライオン社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロファン２０１２Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。

本発明の磁気記録媒体における磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾールなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン、テトラヒドロフラン、等を使用することができる。

これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体における磁性層で用いられるこれらの分散剤、界面活性剤は磁性層及び後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、無論ここに示した例のみに限られるものではないが、分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を有しており、磁性層においては主に強磁性粉末の表面に、また後述する非磁性層においては主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した有機リン化合物は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。したがって、本発明の強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。また、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。

また、本発明の磁気記録媒体における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。
カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。放射線硬化層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。

カーボンブラックの比表面積は、好ましくは１００〜５００ｍ²／ｇ、より好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は、好ましくは２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は、好ましくは５〜８０ｎｍ、より好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

本発明に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。

カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

これらのカーボンブラックは単独または組み合わせで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、磁性体の重量に対して０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。

II．非磁性層
次に、非磁性層（非磁性下層、下層塗布層）に関する詳細な内容について説明する。
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末を結合剤に分散させた少なくとも１層の非磁性層を有していてもよい。
結合剤としては、上記の磁性層の結合剤と同じ樹脂であることが好ましい。

＜非磁性粉末＞
非磁性層に使用する非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。
本発明における下層塗布層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。

無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組み合わせで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。

これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下であることが好ましい。タップ密度は、好ましくは０．０５〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は、好ましくは０．１〜５重量％、より好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は、好ましくは１〜１００ｍ²／ｇ、より好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は、好ましくは５〜１００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は、好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。

強熱減量は２０重量％以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記非磁性粉末のモース硬度は４以上１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は、好ましくは１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、より好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／ｃｍ²〜６００ｅｒｇ／ｃｍ²（２０μＪ／ｃｍ²〜６０μＪ／ｃｍ²）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。非磁性粉末の水溶性Ｎａは０〜１５０ｐｐｍ、水溶性Ｃａは０〜５０ｐｐｍであることが好ましい。

これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

本発明の磁気記録媒体における下層塗布層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＢＮ−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ₂Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。

特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
α−酸化鉄（ヘマタイト）は以下のような諸条件の基で実施される。即ち、本発明に用いることができるα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末は、通常の（１）第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト粒子を生成させる方法、（２）第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるＦｅＣＯ₃を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法、（３）第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法、及び（４）第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリ又は炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等により得られた針状ゲータイト粒子を前駆体粒子とする。

なお、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等のために通常添加されているＮｉ、Ｚｎ、Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５００℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子を得る。尚、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子の表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態とさせることが好ましいからである。

本発明において用いられるα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末は前記脱水又は焼き鈍しをして得られた針状α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を施すことにより得られる。
用いられるＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。
この場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１〜５０重量％である。上記範囲であると、結合剤樹脂中における分散が十分であり、粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が少なく、Ａｌ化合物同士が相互作用しにくいため好ましい。

本発明における下層の非磁性粉末においては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとして、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂから選ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆することもできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂Ｏ₃粒子粉末に対して０．０１〜５０重量％の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、添加による分散性向上の効果が十分得られ、また、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が少なく、前記化合物同士が相互作用しにくいため好ましい。

二酸化チタンの製法に関しては以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、８０〜１，０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法の原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄に、ＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後核生成剤を添加し、１，０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。

表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。
また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体にＡｌＣｌ₃、ＳｉＣｌ₄の蒸気を通じその後水蒸気を流入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法については、G. D. Parfitt and K. S. W. Sing“Characterization of Powder Surfaces”Academic Press, 1976を参考にすることができる。

下層塗布層にカ−ボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。また、下層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。下層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。

下層のカーボンブラックの比表面積は、好ましくは１００〜５００ｍ²／ｇ、より好ましくは１５０〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は、好ましくは２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は、好ましくは５〜８０ｎｍ、より好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。

カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使用することが好ましい。これらのカーボンブラックは単独、又は組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

また下層塗布層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
下層塗布層の結合剤、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。

III．非磁性支持体
本発明に用いることのできる非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。
これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて中心平均粗さＲａ３〜１０ｎｍが好ましい。

IV．平滑化層
本発明の磁気記録媒体には、平滑化層を設けてもよい。平滑化層とは、非磁性支持体表面の突起を埋めるための層であり、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合は非磁性支持体と磁性層の間、非磁性支持体上に非磁性層及び磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体の場合には非磁性支持体と非磁性層の間に設けられる。
平滑化層は、放射線硬化型化合物を放射線照射により硬化させて形成することができる。放射線硬化型化合物とは、紫外線または電子線などの放射線を照射すると重合または架橋を開始し、高分子化して硬化する性質を有する化合物をいう。

V．バックコート層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独又はこれらを混合して使用することができる。

VI．層構成
本発明で用いられる磁気記録媒体の構成において、非磁性支持体の好ましい厚さは、３〜８０μｍである。また、非磁性支持体と非磁性層又は磁性層の間に平滑化層を設けた場合、平滑化層の厚さは０．０１〜０．８μｍであることが好ましく、０．０２〜０．６μｍであることがより好ましい。また、非磁性支持体の非磁性層及び磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚さは、０．１〜１．０μｍであることが好ましく、０．２〜０．８μｍであることがより好ましい。

磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、０．０１〜０．５μｍ以下であることが好ましく、０．０２〜０．３μｍであることがより好ましく、０．０３〜０．２μｍであることがさらに好ましい。また、磁性層の厚さ変動率は±５０％以内が好ましく、さらに好ましくは±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

非磁性層の厚さは、０．２〜３．０μｍであることが好ましく、０．３〜２．５μｍであることがより好ましく、０．４〜２．０μｍであることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体における非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下または抗磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。

VII．製造方法
本発明で用いられる磁気記録媒体の磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、及び、これらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる六方晶フェライト強磁性粉末又は強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末又は非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）及び磁性体１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混練処理されることが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層用液および非磁性層用液を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性層用塗布液を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗布液を逐次あるいは同時に重層塗布してもよく、下層の磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。上記磁性層用塗布液もしくは下層の磁性層用塗布液を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。

磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向としてもよい。
乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０〜１，０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。

乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。本発明の磁気記録媒体は、表面の中心面平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて０．１〜４．０ｎｍの範囲であることが好ましく、０．５〜３．０ｎｍの範囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることがより好ましい。その方法として、例えば上述したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した磁性層を上記カレンダ処理を施すことにより行われる。カレンダ処理条件としては、カレンダーロールの温度を６０〜１００℃の範囲とすることが好ましく、より好ましくは７０〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲であり、圧力は１００〜５００ｋｇ／ｃｍの範囲とすることが好ましく、より好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍの範囲であり、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍの範囲である。

熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、バルクまたはカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）があり、両者が利用できる。前者は、バックコート層表面の突起写りの影響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることができない。一方、後者のサーモ処理は、熱収縮率を大幅に改善できるが、バックコート層表面の突起写りの影響を強く受けるため、磁性層が面荒れし、出力低下及びノイズ増加を引き起こす。特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。得られた磁気記録媒体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。

VIII．物理特性
本発明の磁気記録媒体における磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは１００〜３００ｍＴ（１，０００〜３，０００Ｇ）である。また磁性層の抗磁力（Ｈｒ）は、好ましくは１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１，８００〜４，０００Ｏｅ）であるが、より好ましくは１５９．２〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２，０００〜３，５００Ｏｅ）である。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下、さらに好ましくは０．２以下である。

本発明の磁気記録媒体に使用するヘッドに対する摩擦係数は、温度−１０〜４０℃、湿度０〜９５％の範囲において好ましくは０．５以下であり、より好ましくは０．３以下である。また、帯電位は−５００〜＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２，０００ｋｇ／ｍｍ²）、破断強度は、好ましくは９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋｇ／ｍｍ²）、磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１４．７ＧＰａ（１００〜１，５００ｋｇ／ｍｍ²）、残留のびは、好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、最も好ましくは０．１％以下である。

磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０〜１８０℃が好ましく、非磁性層のそれは０〜１８０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｐａ（１×１０⁸〜８×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²）の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。
磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいことが多い。

デジタルオプチカルプロフィメーター（ＷＹＫＯ製ＴＯＰＯ−３Ｄ）を用いて測定した磁性層の中心面表面粗さＲａは、好ましくは４．０ｎｍ以下であり、より好ましくは３．０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＳＲ_maxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒは２０〜８０％、平均波長Ｓλａは５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを０〜２，０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。

本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層との間では、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについては特に制限はないが、ＭＲヘッドのために用いることが好ましい。本発明の磁気記録媒体の再生にＭＲヘッドを用いる場合、ＭＲヘッドには特に制限はなく、例えばＧＭＲヘッドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限されないが、飽和磁化量が１．０Ｔ以上であることが好ましく、１．５Ｔ以上であることがより好ましい。

以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は、断らない限り「重量部」の意味である。

（実施例１）
〔潤滑剤Ａの合成例〕
フラスコに、１−オクタデカノール１０８．２部、ヘキサン２９０部及びピリジン３５部を入れ、撹拌しながら冷却した。このフラスコにさらに冷却と攪拌を続けながらクロロギ酸２−エチルヘキシル４２部を２時間かけて滴下した。さらにこのフラスコ内部を撹拌しながら、室温に出して６時間経過させた。この反応液に水を加えて撹拌し、静置して分液漏斗を用いて水層を廃棄し、メタノールを加えて撹拌、静置、メタノール相を分離する操作を３回繰り返した。残ったヘキサン溶液を減圧濃縮し、１５３部の無色透明液体である潤滑剤Ａが得られた。
この液体を酢酸エチルで１０倍希釈して、うち１μｌを薄層クロマトグラフィーで分離したが、１−オクタデカノールは検出されなかった。

（実施例２）
〔潤滑剤Ｂの合成例〕
実施例１のメタノールをアセトニトリルに変更した以外は同様の操作を行ったところ、１５０部の無色透明液体である潤滑剤Ｂが得られた。
この液体を酢酸エチルで１０倍希釈して、うち１μｌを薄層クロマトグラフィーで分離したが、１−オクタデカノールは検出されなかった。

（比較例１）
〔潤滑剤Ｃの合成例〕
実施例１のメタノールを水に変更した以外は同様の操作を行い、水相を廃棄したヘキサン溶液を減圧濃縮したところ、室温で結晶成分が多数析出し、潤滑剤Ｃを得た。
これを再度ヘキサンで１０倍希釈して、うち１μｌを薄層クロマトグラフィーで分離したところ、１−オクタデカノールが検出された。

（実施例３及び４）
〔潤滑剤Ｄ及びＥの合成例〕
実施例１の１−オクタデカノール、クロロギ酸２−エチルヘキシルをそれぞれ、表１中のＲ¹，Ｒ²の構造を有するアルコール、クロロギ酸エステルに変更した以外は、実施例１と同様の抽出処理を行い、潤滑剤Ｄ及びＥを得た。
得られた潤滑剤Ｄ及びＥをそれぞれ酢酸エチルで１０倍希釈して、うち１μｌを薄層クロマトグラフィーで分離したが、それぞれは対応するアルコールは検出されなかった。

（合成例１及び２）
実施例１の１−オクタデカノール、クロロギ酸２−エチルヘキシルをそれぞれ、表１中のＲ¹，Ｒ²の構造を有するアルコール、クロロギ酸エステルに変更した以外は、実施例１と同様の抽出処理を行い、潤滑剤Ｆ及びＧを得た。

（合成例３）
〔潤滑剤Ｈ（ノナデカン酸２−エチルヘキシル）の合成〕
ノナデカン酸２９．８重量部と２−エチル−１−ヘキサノール１９．５重量部とトルエン８６．５重量部にｐ−トルエンスルホン酸１水和物０．１重量部を加えて撹拌しながら４時間加熱還流し、そのままトルエンを留去した。この反応液から減圧蒸留にて脂肪酸エステルである潤滑剤Ｈを得た。

（実施例５〜１０及び比較例２〜７）
＜上層用磁性液の調製＞
強磁性金属粉末（Ｃｏ／Ｆｅ＝３０原子％、Ｈｃ：２，３５０エルステッド（１８７ｋＡ／ｍ）、Ｓ_BET：５５ｍ²／ｇ、表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、平均長軸長：５０ｎｍ、平均針状比：７、σｓ：１２０Ａ・ｍ²／ｋｇ）１００部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで、
カーボンブラック（平均粒径８０ｎｍ） ２部
塩化ビニル樹脂（日本ゼオン（株）製ＭＲ−１１０） １０部
ポリエステルポリウレタン（東洋紡績（株）製ＵＲ８３００） ６部（固形分）
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１ ６０部
を加えて６０分間混練した。この混練物にオープンニーダーを運転しながら、
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝１／１ ２００部
を６時間かけて添加した。次いで、
α−Ａｌ₂Ｏ₃分散液 ２０部
を加えてサンドグラインダーで１２０分間分散した。さらに
ポリイソシアネート ４部（固形分）
（日本ポリウレタン工業（株）製コロネート３０４１）
ステアリン酸 １部
下記表１中に記載の潤滑剤 ２部
ステアリン酸アミド ０．２部
トルエン ５０部
を加えて２０分間撹拌混合した。その後、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料を調製した。

＜下層用非磁性液の調製＞
酸化チタン（平均粒径０．０３５μｍ、結晶型ルチル、ＴｉＯ₂含有量９０％以上、表面処理層；アルミナ、Ｓ_BET３５〜４２ｍ²／ｇ、真比重４．１、ｐＨ６．５〜８．０）８５部、及びカーボンブラック（ケッチェンブラックＥＣ（ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製））１５部をオープンニーダーで１０分間粉砕し、次いで塩化ビニル系共重合体ＭＲ１１０（日本ゼオン製）を１７部及びスルホン酸含有ポリウレタン樹脂東洋紡製ＵＲ８２００ １０部（固形分）、及びシクロヘキサノン６０部を添加して６０分間混練し、次いで、
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝６／４ ２００部
を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに表１の潤滑剤と
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート３０４１） ５部（固形分）
ステアリン酸 １部
下記表１中に記載の潤滑剤 ２部
オレイン酸 １部
メチルエチルケトン ５０部
を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性塗料を調製した。
得られた非磁性塗料を１．５μｍに、さらにその直後に磁性塗料を乾燥後の厚さが０．２μｍになるように、厚さ６２μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の表面に同時重層塗布した。磁性塗料が未乾燥の状態で５，０００ガウスのＣｏ磁石と４，０００ガウスのソレノイド磁石で磁場配向を行い、溶剤を乾燥したものを金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を（速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度９０℃）で行った後１／２インチ幅にスリットした。

＜測定方法＞
１．磁性層表面の突起高さ分布
突起高さ分布は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ；デジタルインストルメンツ（株）製ナノスコープ）により求めた。探針には正四面体で１／２稜角＝３５゜、曲率半径１００ｎｍ以下のものを用いて、コンタクトモードでＶｅｒ．３．２５のソフトウェアで行った。測定試料は１５μｍ×１５μｍ角で、測定結果は３次の補正を行って傾き等の補正を行い、Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ Ａｎａｌｙｓｉｓのピーク数を求めるコマンドで処理して突起分布を求めた。

２．電磁変換特性
記録ヘッド（ＭＩＧギャップ０．１５μｍ、１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをドラムテスタ−にとりつけて測定した。ヘッドとメディアの相対速度１〜３ｍ／ｍｉｎ、面記録密度０．５７Ｇｂｉｔ／（インチ）²で測定した時の再生出力を測定し比較例２を０ｄＢとした相対値で示した。

３．耐久性、保存安定性
テープの摺動耐久性を４０℃１０％環境下で磁性層面をＡｌＴｉＣ製の円柱棒に接触させて荷重１００ｇ（Ｔ１）をかけ、２ｍ／ｓｅｃの摺動速度で繰り返し１０，０００パスまで摺動を行ったあとのテープダメージを以下のランクで評価した。
また、ＬＴＯ−Ｇ３カートリッジ用のリールにテ−プを６００ｍ巻いた状態で６０℃９０％６ヶ月保存した。保存後のテープも同様に評価した。
優秀：ややキズが見られるが、キズのない部分の方が多い。
良好：キズがない部分よりもキズがある部分の方が多い。
不良：磁性層が完全に剥離している。

下記表１に、実施例５〜１０及び比較例２〜７における評価結果を示す。

Claims (3)

1. 式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルを合成し前記式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの粗生成物を得る工程、及び、
   飽和炭化水素溶媒と該飽和炭化水素溶媒に対して無限に相溶しない有機溶媒を含む溶媒とを用いて前記粗生成物を液液抽出し、式（１）で表される飽和アルキル炭酸エステルの精製物を得る工程を含むことを特徴とする
   炭酸エステルの製造方法。
   

   

   （式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に飽和炭化水素基を表す。ただし、Ｒ¹の炭素数とＲ²の炭素数との和は１２以上５０以下である。）
2. 請求項１に記載の製造方法により製造された炭酸エステル。
3. 非磁性支持体上に、強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性層を有し、
   該磁性層が請求項２に記載の炭酸エステルを含有し、
   該磁性層表面に存在する突起数が式（２）を満足する
   磁気記録媒体。
   ０．０１≦Ｈ₁₅／Ｈ₁₀≦０．２０ （２）
   （Ｈ₁₀は磁性層表面に存在する高さ１０ｎｍ未満の突起の単位面積あたりの数（個／μｍ²）を表し、Ｈ₁₅は磁性層表面に存在する高さ１５ｎｍ以上の突起の単位面積あたりの数（個／μｍ²）を表す。）