JP2007534121A - 粒子ビーム射出装置用の補正レンズ系 - Google Patents
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Abstract
Description
露光経過での連続的な対象の動きの間にも、補正が実行されるとういうことは、特に有益である。本発明に係わる配置の利点は、フォーカシング、像倍率、そしてビームの回転を、連続的に調整することを可能とすることである。その場合、フォーカシング、像倍率、そして、ビームの回転についての3つの関数は、それぞれ、他の2つの関数を一定に保った状態で、別々に実行することが可能となる。フォーカシングの際は、空間電荷のリフォーカシング、が重要かもしれない。もしくはまた、フォーカシング際は、露光の経過中のわずかな対象の高さ変化(ウェーハ中の残余のばらつき、台の高さの誤差)の結果としてのリフォーカシング、が重要かもしれない。前記関数は非常に速く、そして、その際にレンズの極片内部の渦電流は可能な限り遅れを引き起こさない。
本発明のその他の有利な形態は従属請求項にて示される。
NIkom/NIfl=(RIkom/RIfl)2
このとき、補償コイル27内での電流方向と、付属の高速な補正コイル26内での電流方向は互いに反対である。
2 粒子光学的射出系
6 ターゲット
6a ターゲット表面
10 照射コンデンサー
20a 第一磁界レンズ
20b 第二磁界レンズ
21 極片
22 補償レンズ系
23,24,25 補正レンズ対
26 補正コイル
27 補償コイル
28 軸方向の磁場の強さ
30 電子銃(粒子銃)
31 電子線
310 ソース・クロスオーバー
311 クロスオーバー
32 電子光軸方向
322 クロスオーバー
33 ビーム中央化装置
34 レンズ口径プレート
35 複数のビーム偏光ユニットを有する偏光プレート
36 複数の平行なビーム束
37 偏光プレート35を通過し独自に方向変化をした個々のビーム
38 レンズ口径絞り
39 照射レンズ
40 磁界レンズ
41 対物レンズ
42 高度測定系
43 後方散乱された粒子用の検出器
44 非点補正装置
45,46 偏光調整器
Claims (9)
- 少なくとも第一及び第二磁界レンズ(20a,20b)を有している粒子ビーム射出装置用の補正レンズ系において、第一及び第二磁界レンズ(20a,20b)と粒子ビーム(1)の間に複数の補正レンズ対(23,24,25)が配置されていることを特徴とする、粒子ビーム射出装置用の補正レンズ系。
- 請求項1に記載の補正レンズ系において、第一、第二及び第三補正レンズ対(23,24,25)が配置されていること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項1または2に記載の補正レンズ系において、粒子光学投影装置内で、像倍率、回転を互いに独立に調整できること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項1に記載の補正レンズ系において、各補正レンズ対(23,24,25)が高速な補正コイル(26)及び補償コイル(27)を備えて構成されていること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項1に記載の補正レンズ系において、各補正レンズ対(23,24,25)の補正コイル(26)が補正レンズ(26)に付設された補償コイル(27)よりもより粒子ビーム(1)の近くに配置されていること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項1から5までのいずれか一項に記載の補正レンズ系において、各々の補正レンズ対(23,24,25)のそれぞれの補償コイル及び補正コイルが空芯コイルとして形成されていること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項1から6までのいずれか一つに記載の補正レンズ系において、補償コイル(27)が半径Rkomを、そして補正コイル(26)が半径Rflを有しそれら2つの半径の比率Rkom/Rflが1.5から3.0の間の値をとること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項7に記載の補正レンズ系において、2つの半径の比率Rkom/Rflの値が2をとること、を特徴とする補正レンズ系。
- 請求項1から8までのいずれか一項に記載の補正レンズ系において、コイル対が光軸方向にフェライトリングによって、および/または半径方向にフェライトシリンダによって、個々または共同して、遮断されていること、を特徴とする補正レンズ系。
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