JP2018078187A - マルチビーム光学系の調整方法及びマルチビーム露光装置 - Google Patents
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Abstract
【構成】本発明の一態様のマルチビーム光学系の調整方法は、成形アパーチャアレイ基板の複数の開口部全体が含まれる領域に、荷電粒子ビームの照射を受け、複数の開口部を荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成する工程と、マルチビームのクロスオーバ高さ位置を可変にしながらマルチビームの歪を測定する工程と、マルチビームの歪がより小さくなるマルチビームのクロスオーバ高さ位置を測定する工程と、クロスオーバ高さ位置に、マルチビームのうち、軌道から外れたビームの通過を制限する制限アパーチャ基板の高さ位置を調整する工程と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図8
Description
成形アパーチャアレイ基板の複数の開口部全体が含まれる領域に、荷電粒子ビームの照射を受け、複数の開口部を荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成する工程と、
マルチビームのクロスオーバ高さ位置を可変にしながらマルチビームの歪を測定する工程と、
マルチビームの歪がより小さくなるマルチビームのクロスオーバ高さ位置を測定する工程と、
クロスオーバ高さ位置に、マルチビームのうち、軌道から外れたビームの通過を制限する制限アパーチャ基板の高さ位置を調整する工程と、
を備えたことを特徴とする。
クロスオーバ高さ位置は、照明レンズの設定値により可変に調整されるように構成すると好適である。
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
荷電粒子ビームを照明する照明レンズと、
複数の開口部が形成され、複数の開口部全体が含まれる領域に、照明された荷電粒子ビームの照射を受け、複数の開口部を荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成する成形アパーチャアレイ基板と、
マルチビームのうち、軌道から外れたビームの通過を制限する制限アパーチャ基板と、
制限アパーチャ基板の高さ位置を可変に調整する高さ位置調整機構と、
マルチビームの歪を測定する歪測定機構と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画装置の構成を示す概念図である。図1において、描画装置100は、描画機構150と制御部160を備えている。描画装置100は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の一例であると共に、マルチ荷電粒子ビーム露光装置の一例である。描画機構150は、電子鏡筒102と描画室103を備えている。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202(電磁レンズ)、成形アパーチャアレイ基板203、ブランキングアパーチャアレイ機構204、制限アパーチャ基板206、対物レンズ群212、偏向器208、検出器213、アライメントコイル211、及び高さ位置調整機構214が配置されている。描画室103内には、XYステージ105が配置される。XYステージ105上には、描画時(照射時)には描画対象基板となるマスク等の試料101が配置される。試料101には、半導体装置を製造する際の露光用マスク、或いは、半導体装置が製造される半導体基板(シリコンウェハ)等が含まれる。また、試料101には、レジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。XYステージ105上には、さらに、個別ビーム位置検出機構218、及びXYステージ105の位置測定用のミラー210が配置される。
図4は、実施の形態1におけるブランキングアパーチャアレイ機構のメンブレン領域内の構成の一部を示す上面概念図である。なお、図3と図4において、制御電極24と対向電極26と制御回路41とパッド43の位置関係は一致させて記載していない。ブランキングアパーチャアレイ機構204は、図3に示すように、支持台33上にシリコン等からなる半導体基板31が配置される。基板31の中央部は、例えば裏面側から薄く削られ、薄い膜厚hのメンブレン領域30(第1の領域)に加工されている。メンブレン領域30を取り囲む周囲は、厚い膜厚Hの外周領域32(第2の領域)となる。メンブレン領域30の上面と外周領域32の上面とは、同じ高さ位置、或いは、実質的に高さ位置になるように形成される。基板31は、外周領域32の裏面で支持台33上に保持される。支持台33の中央部は開口しており、メンブレン領域30の位置は、支持台33の開口した領域に位置している。
また、開口寸法の異なる開口部を用意することにより、クロスオーバ寸法が異なる場合にも適切なアパーチャを選ぶことが出来る様にすることも出来る。
22 穴
24 制御電極
26 対向電極
25 通過孔
28,36 画素
29 グリッド
30 描画領域
32 ストライプ領域
34 照射領域
47 個別ブランキング機構
50 ショットデータ生成部
52 測定部
53 測定部
54 歪量演算部
56 判定部
58 抽出部
60 設定部
62 設定部
64 測定部
66 抽出部
68 設定部
70 描画制御部
100 描画装置
101 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 制御計算機
112 メモリ
130 偏向制御回路
131,132 レンズ制御回路
134 アンプ
136 アパーチャ制御回路
137 アンプ
138 ステージ制御機構
139 ステージ位置測定器
140,142 記憶装置
150 描画機構
152 開口部
160 制御部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 成形アパーチャアレイ基板
204 ブランキングアパーチャアレイ機構
206 制限アパーチャ基板
208 偏向器
210 ミラー
211 アライメントコイル
212 対物レンズ群
213 検出器
214 高さ位置調整機構
215,216 対物レンズ
218 個別ビーム位置検出機構
220 通過マーク基板
222 ブロック
224 電流検出器
230 駆動筒
232 支持板
234 ピエゾ素子
235 ローラ
236 バネ
238 支持台
242,248 駆動板
244,246 ローラ
251,253 駆動板
252,258 補助板
254,256 ローラ
255,257 支持棒
262,263 ピストン
268,269 補助棒
265,266 バネ
272 駆動板
271,273 ローラ
274 ピストン
276 バネ
277 補助棒
310 反射電子吸収機構
312 筒状吸収体
314 静翼
Claims (5)
- 成形アパーチャアレイ基板の複数の開口部全体が含まれる領域に、荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成する工程と、
前記マルチビームのクロスオーバ高さ位置を可変にしながら前記マルチビームの歪を測定する工程と、
前記マルチビームの歪がより小さくなる前記マルチビームのクロスオーバ高さ位置を測定する工程と、
前記クロスオーバ高さ位置に、前記マルチビームのうち、軌道から外れたビームの通過を制限する制限アパーチャ基板の高さ位置を調整する工程と、
を備えたことを特徴とするマルチビーム光学系の調整方法。 - 前記荷電粒子ビームを前記成形アパーチャアレイ基板に照明する照明レンズの設定値を設定する工程をさらに備え、
前記クロスオーバ高さ位置は、前記照明レンズの設定値により可変に調整されることを特徴とする請求項1記載のマルチビーム光学系の調整方法。 - 前記制限アパーチャ基板に形成される開口部を前記マルチビームの全ビームが通過する状態で、前記マルチビームの歪が測定されることを特徴とする請求項1又は2記載のマルチビーム光学系の調整方法。
- 荷電粒子ビームを放出する放出部と、
前記荷電粒子ビームを照明する照明レンズと、
複数の開口部が形成され、前記複数の開口部全体が含まれる領域に、照明された前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成する成形アパーチャアレイ基板と、
前記マルチビームのうち、軌道から外れたビームの通過を制限する制限アパーチャ基板と、
前記制限アパーチャ基板の高さ位置を可変に調整する高さ位置調整機構と、
前記マルチビームの歪を測定する歪測定機構と、
を備えたことを特徴とするマルチビーム露光装置。 - 前記マルチビームのクロスオーバ高さ位置を測定する測定機構をさらに備えたことを特徴とする請求項4記載のマルチビーム露光装置。
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