JP2007519244A - スーパールミネッセント発光ダイオード - Google Patents
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- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000009471 action Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 7
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 5
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims 2
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000009916 joint effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/0004—Devices characterised by their operation
- H01L33/0045—Devices characterised by their operation the devices being superluminescent diodes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
Description
この発明は、広帯域光源の分野に関する。この発明は特に、利得領域と吸収領域とを有するスーパールミネッセント発光ダイオード(SLED)に関する。
スーパールミネッセント発光ダイオード(SLED)は、順方向にバイアスをかけられたとき、光学的に活性化して、広範囲の波長にわたって増幅された自然放出を発生させるダイオードである。レーザダイオードとは異なり、レージング作用を得るための十分なフィードバックはない(ここで「レージング」は、レーザの機能原理を説明するのに使用される。すなわち、反転分布をもたらすようにポンピングされ、かつフィードバックを与えるキャビティに配置される利得媒質において、フィードバックによる誘導放出を発生させ、結果としてコヒーレントな放射を生じさせることである)。これは通常、発生した放射が導波される傾斜した導波路と、反射防止膜が施された端面との共同作用によって実現される。ここでいう傾斜した導波路とは、デバイスの端面によって定められる平面に対して非垂直な導波路である。
この発明の目的は、先行技術のスーパールミネッセント発光ダイオードの欠点を克服し、特に標準的な製造方法によって安価で生産でき、出力強度の高い動作を可能にしながらも、確実にレージング作用を防止できるスーパールミネッセント発光ダイオードを提供することである。
図1に概略的に示すデバイスは、GaAs基板1を備える半導体ヘテロ構造を含む。この基板は、Siドープされた(ここでのSiドーピングはnドーピング)InGaP半導体クラッド層2を含む。Siドープされたクラッド層の上には、PN接合部を形成する積
層構造が配置される。図示の実施例では、SiドープされたInGaAsPクラッド層3とZnドープされた(ここでのZnドーピングはpドーピング)InGaAsPクラッド層4との間の、ドープされていないInGaAsP「バルク」構造層6により、PN接合部が形成される。この積層構造は、ZnドープされたInGaPクラッド層5によって被覆されている。nドープおよびpドープされたクラッド層3、4の屈折率は、活性「バルク」層6の屈折率よりも高いので、電流が注入されたときにPN接合部で生じる光の導波路が形成される。横方向の閉じ込めは、リッジ導波構造(弱屈折率導波構造)によって得られる。電流を注入できるように、デバイスは2つの金属電極7、8を含み、それらの電極を通して、PN接合部のnドープおよびpドープされた側に電荷キャリアを注入することができる。図示の構成では、電流の方向は、図1における上から下である。すなわち、電流は、基板を通ってn側の電極に導かれる。図示の実施例では、下部電極8(n電極)は同時に、その下にある、たとえばプリント回路基板要素またはその他の種類の電気的接続要素であるキャリア要素9のコンタクト層である。
、このような導波機構に限定されず、少なくとも一方の端面(たとえば、吸収領域に近い方の端面)が光ビーム経路の方向に対して非垂直な構成も含む。
Claims (20)
- 非レージングスーパールミネッセント発光ダイオード(SLED)であって、PN接合部と光ビーム経路を規定する導波路とを形成する半導体ヘテロ構造を含み、
ヘテロ構造は、光ビーム経路において、利得領域と、利得領域と直列の吸収領域とを備え、
利得領域におけるPN接合部に電圧を順方向に印加して、利得領域から光ビーム経路に沿って光の放出を発生させるための第1の接触手段をさらに含み、
吸収領域におけるPN接合部と接触し、吸収領域における吸収作用によって生じる電荷キャリアを除去する働きをする第2の接触手段をさらに含み、第2の接触手段は、活性電圧源には接続されない、非レージングスーパールミネッセント発光ダイオード。 - 導波路は2つの端面を含み、端面は光ビーム経路に対して垂直である、請求項1に記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 第2の接触手段は、吸収領域においてPN接合部をゼロバイアスに保つように配線接続される、請求項1または2に記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- PN接合部はnドープされた側とpドープされた側とを含み、nドープされた側とpドープされた側の少なくとも一方は、第2の接触手段によって、ヘテロ構造の外側の金属面に接続される、請求項1から3のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 利得領域および吸収領域におけるPN接合部は、pドープされた構成要素とnドープされた構成要素とを含むバルクpn接合部であり、そのいずれもが10nmを超える層厚を有する、請求項1から4のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 半導体ヘテロ構造は利得領域において多重量子井戸(MQW)構造を備え、かつPN接合部は前記多重量子井戸構造において形成され、または半導体ヘテロ構造は利得領域において量子細線もしくは量子ドットを備える、請求項1から4のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 導波路は屈折率誘導型である、請求項1から6のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 導波路は利得誘導型である、請求項1から6のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- ヘテロ構造における発光層は、AlInGaAs化合物、InGaPAs化合物および/またはAlGaAs化合物などのIII−V化合物を含む、請求項1から8のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 半導体ヘテロ構造は、第1のクラッド層と、第2のクラッド層と、第1および第2のクラッド層の間にPN接合積層構造とを含み、PN接合積層構造は、単一量子井戸構造または多重量子井戸構造またはpドープされた材料のバルク層とnドープされた材料のバルク層とを含み、ヘテロ構造はさらに、第1の金属電極と電気的に接触している第1のクラッド層と、第2の金属電極と電気的に接触している第2のクラッド層とを含み、第1の金属電極または第2の金属電極または両方の金属電極は、利得領域と吸収領域との間で中断される、請求項1から9のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 利得領域の出力パワーについてのモニタリング信号を得るために前記電荷キャリアを除去することによって生じる電流を測定するための検出手段をさらに含む、請求項1から10のいずれかに記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 半導体ヘテロ構造を含むスーパールミネッセント発光ダイオードであって、半導体ヘテロ構造は、光ビーム経路を規定し、かつ利得領域を備える導波構造を形成し、利得領域は、接触手段を通して電流が注入されると、光ビーム経路に電磁放射を放出し、導波構造はさらに、光ビーム経路において利得領域と直列の、バイアスのかかっていないPN接合部を備える、スーパールミネッセント発光ダイオード。
- 導波構造は、光ビーム経路に平行な長手方向において導波構造を制限する2つの端面を含み、端面は長手方向に対して垂直である、請求項11に記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 活性領域において放出される放射によって生じ、かつバイアスのかかっていないPN接合部において吸収される光電流をモニタリングし、それによって利得領域において放出される光の尺度であるモニタリング信号を生成するためのモニタリング手段を含む、請求項11または12に記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 半導体ヘテロ構造を含むスーパールミネッセント発光ダイオードであって、半導体ヘテロ構造は、第1のクラッド層と、第2のクラッド層と、第1および第2のクラッド層の間に設けられる光ビーム経路とを備え、ヘテロ構造は、電流が注入されると、光ビーム経路に電磁放射を放出する発光機構を備え、ビーム経路はさらに、光吸収半導体機構を備え、前記光吸収半導体機構は電荷キャリア貯蔵器に接続される、スーパールミネッセント発光ダイオード。
- 前記電荷キャリア貯蔵器は金属面を含む、請求項14に記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 半導体ヘテロ構造における光ビーム経路は、光ビーム経路に対して垂直である2つの端面によって制限される、請求項14または15に記載のスーパールミネッセント発光ダイオード。
- 非レージングスーパールミネッセント発光ダイオード(SLED)であって、半導体ヘテロ構造と光ビーム経路を規定する導波路とを含み、
導波路は、光ビーム経路に沿って、
光ビーム経路の方向に導波路の範囲を定める第1の端面と、
光ビーム経路に沿って伝わる光を吸収する働きをする半導体材料を含む吸収領域と、
利得領域とを含み、ヘテロ構造は、PN接合部と、PN接合部に電流を注入して、それによって光ビーム経路に放出される電磁放射を生成するための接触手段とを含み、前記導波路はさらに、
光ビーム経路の方向に導波路の範囲を定める第2の端面を含み、前記端面を通って導波路からの光が結合され、
第1および第2の端面は、光ビーム経路に対して垂直である、非レージングスーパールミネッセント発光ダイオード。 - 半導体ヘテロ構造を有する、特に請求項の1から18のいずれかに記載のスーパールミネッセントダイオードを含むスーパールミネッセント装置であって、
半導体ヘテロ構造は、第1のクラッド層と、第2のクラッド層と、第1および第2のクラッド層の間に設けられる光ビーム経路とを含む導波構造を備え、ヘテロ構造は、電流が
注入されると、光ビーム経路に電磁放射を放出する発光機構を備え、ビーム経路はさらに光吸収半導体機構を備え、導波構造は、光ビーム経路に対して垂直である2つの端面によって、光ビーム経路の方向に範囲が定められ、前記スーパールミネッセント発光ダイオードは、対称軸を含むハウジングに収納され、前記ハウジングにおいて、前記光ビーム経路は対称軸に平行である、スーパールミネッセント装置。 - 前記光吸収半導体機構はゼロバイアスされたPN接合部を含む、請求項18に記載のスーパールミネッセント装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/763,508 US7119373B2 (en) | 2004-01-23 | 2004-01-23 | Sled |
PCT/CH2005/000031 WO2005071762A2 (en) | 2004-01-23 | 2005-01-21 | Superluminescent light emitting diode |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007519244A true JP2007519244A (ja) | 2007-07-12 |
JP2007519244A5 JP2007519244A5 (ja) | 2008-03-06 |
Family
ID=34795053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006549828A Pending JP2007519244A (ja) | 2004-01-23 | 2005-01-21 | スーパールミネッセント発光ダイオード |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7119373B2 (ja) |
EP (1) | EP1706909A2 (ja) |
JP (1) | JP2007519244A (ja) |
WO (1) | WO2005071762A2 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080118 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101228 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A02 | Decision of refusal |
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