JP2007514096A - 真空ポンプ装置 - Google Patents
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 70
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 3
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 12
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/05—Shafts or bearings, or assemblies thereof, specially adapted for elastic fluid pumps
- F04D29/052—Axially shiftable rotors
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D17/00—Radial-flow pumps, e.g. centrifugal pumps; Helico-centrifugal pumps
- F04D17/08—Centrifugal pumps
- F04D17/16—Centrifugal pumps for displacing without appreciable compression
- F04D17/168—Pumps specially adapted to produce a vacuum
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D19/00—Axial-flow pumps
- F04D19/02—Multi-stage pumps
- F04D19/04—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
- F04D19/048—Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps comprising magnetic bearings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D23/00—Other rotary non-positive-displacement pumps
- F04D23/008—Regenerative pumps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/04—Shafts or bearings, or assemblies thereof
- F04D29/046—Bearings
- F04D29/048—Bearings magnetic; electromagnetic
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D29/00—Details, component parts, or accessories
- F04D29/08—Sealings
- F04D29/083—Sealings especially adapted for elastic fluid pumps
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Structures Of Non-Positive Displacement Pumps (AREA)
- Compressor (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Sealing Using Fluids, Sealing Without Contact, And Removal Of Oil (AREA)
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Abstract
再生ポンプ機構は、一方の側に環状列に位置決めされた一連のブレードを有するロータと、ブレードが回転する環状チャンネルを有するステータと、を含む。ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御するために、アキシャル磁気軸受がロータとステータの間の相対的な軸方向移動を積極的に制御する。これは、ポンプ機構に、ラジアルシールとは全く異なって、ロータとステータの間の制御可能なアキシャルシールを提供することができる。
Description
本発明は、真空ポンプ装置(vacuum pumping arrangement)に関する。
図1および図2を参照すると、本出願人の先の欧州特許出願第0,805,275号は、再生ポンプ機構1および分子吸収(ホルウェック、Holweck)機構2を有する複合真空ポンプ(compound vacuum pump)を説明する。ポンプハウジング3内で軸受4,5の間には、シャフト6が取り付けられている。シャフト6は、長手方向軸線を中心に回転するようになっており、シャフト6を取り囲む電気モータ7によって駆動される。
再生ステージ1は、シャフト6に取り付けられたロータ9を含む。ロータ9は、円形ディスクの形態をなしており、ロータ9の下面は実質的に平坦な面を呈し、ロータに、その中心点の周りに対称的に位置する複数(6個)の隆起リング10,11,12,13,14,15がロータと一体に配置されている。隆起リングの各々には、一連の等間隔をなしたブレードB、例えば各リングに100個のブレードが取り付けられて、ブレードの同心の環状列を形成する。各リングの幅、および各リングのブレードの対応する寸法は、最外リング15から最内リング10まで徐々に減少する。ブレードの各々は、凹面側がロータの移動方向に向いた、わずかにアーチ形である。
ハウジング3のボディ部分16は、ステータを形成し、その上面に6個の円形チャンネルを含み、該チャンネルは「鍵穴」断面のものであり、且つ矩形断面上部に6個の隆起リング10,11,12,13,14,15をぴったりと収容する寸法のものであり、(図示するように)円形断面下部は、関連する隆起リングの対応するブレードを収容する。各チャンネルは、該チャンネルに収容される対応するブレードの小部分と実質的に同じ形状寸法の長さの小部分のための縮小断面積(図示せず)を有する。各チャンネルのこの縮小断面部分は、使用中、そのチャンネルを通過する気体を、ボディ部分16のボア32,33を経てポンプから排気されるまで、次の(内側の)チャンネルへ向ける(図示せず)ことによって偏向させる「ストリッパ」を形成する。
この装置は、再生機構のロータとステータとの間のラジアルシールを考慮に入れる。この点で、ポンプの使用中のロータの熱膨張により、ラジアルシールは、隆起リング10,11,12,13,14,15の側面と、関連するチャンネルの矩形断面部分の対応する側面との間に、即ち17,18に、特に、図面で明らかにするのを助けるためにリング10だけに関して示すように、最外側面18との間に起こる。しかしながら、そのようなラジアルシールを行うのに要求される厳密な公差に照らして、遠心力の作用によりチャンネル18の最外側面に蓄積することがあるダストや他のごみにより、もし蓄積するのを許されるならば、ポンプを動かなくする。
少なくとも好ましい実施形態で、本発明は、この問題および他の問題を解決することを目的とする。
一つの側面では、本発明は、一方の側に環状列に位置決めされ、ステータの環状チャンネルの中へ軸方向に延び、チャンネルの中で回転する一連のブレードを有するロータと、ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御するように、ロータとステータの間の相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段と、を含む、再生ポンプ機構を提供する。
ロータとステータとの間の軸方向クリアランスを制御することにより、制御可能なアキシャルシールをロータとステータの間に設けることができる。その結果、ラジアルシールを設ける必要がなくなり、それによって、ラジアルシールと関連した前述の問題を回避し、即ち、排気ガス中のダストやごみは、ラジアルシールの間に捕捉されないで、遠心力で移動することができる。
好ましい実施形態では、相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段は、ステータに対するロータの軸方向移動を制御するためのアキシャル磁気軸受からなる。
好ましくは、アキシャル磁気軸受は、ロータをステータに向かって引くように配置された電磁石を含み、それによって、典型的には10μmよりも小さい精度まで、ロータとステータの間の軸方向クリアランスの正確な制御を達成する。ポンプの長さを最小にするために、電磁石は、ステータに具合良く取り付けられるのが良い。
好ましくは、電磁石は、ロータをステータから引き離すように配置された第二の電磁石によって補われ、それによって、軸方向クリアランスの制御を改善する。アキシャル磁気軸受は、好ましくは、磁気軸受ロータを含み、この磁気軸受ロータおよび再生機構のロータは、共通のシャフトに配置され、磁気軸受ロータは、これらの電磁石の間に配置される。電磁石によって発生される磁場の強さ、かくしてステータに対するロータの軸方向位置を制御する制御装置が配置されるのが良い。
他の変形例の実施形態では、軸方向移動を積極的に制御するための手段は、例えば駆動シャフトを支持するころがり軸受を移動させることによって、例えば、ロータの軸方向位置を制御するように動作可能なリニアアクチュエータのようなアクチュエータからなる。ロータとステータの相対移動の全体的な範囲は、50μmより小さいので、アクチュエータは都合の良いことに、磁気歪材料からなるのが良く、アクチュエータに付与される磁場の強さを制御するように配置された制御装置が設けられ、それによって、アクチュエータの長さ、かくしてステータに対するロータの軸方向位置を正確に制御する。ステータに対するロータの軸方向位置を正確に移動させるための、どんな他の都合の良い機構をも設けても良い。例えば、ステータに対してロータを移動させるために制御手段によって供給される電圧に応答して変形する圧電アクチュエータを設けても良い。変形例として、金属リング、チューブ、またはその他の要素を設けて、該要素の熱膨張により、ロータをステータに対して移動させるように前記要素をコントローラによって選択的に加熱する。ステータに対するロータの要求される移動の範囲に最も適当な機構を選択することができる。
好ましい構成では、機構は、ステータに対するロータの軸方向位置を検出するための手段と、検出された位置に応答して相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段を制御するための手段と、を含む。ロータとステータの間のクリアランスの寸法、または変化率を検出するためのセンサを設けても良い。センサは、ホール効果センサによって提供されると都合が良い。ロータとステータの間に所定の軸方向クリアランスがある場合には、ロータの位置を決定することによってセンサを較正することができる。これは、使用前、または熱の影響を考慮に入れるためにポンプが暖機されてから、(ロータが回転していない状態で)接触が起こるまでロータを軸方向に移動させることによって達成できる。変形例として、これらの熱の影響を、コントローラに加えることができるので、センサからの信号出力から軸方向クリアランスの寸法を決定するときに、熱の影響は考慮される。
ロータとステータの間の相対的な移動量を制限するバックアップ軸受を設けるのが良い。
ロータとステータの間が接触した場合に損傷を最小にするために、ロータとステータの少なくとも一方を、耐摩耗材料または自己潤滑材料で形成し、または該材料で被膜する。
好ましい実施形態では、ロータは、その側面の同心環状列に位置決めされた少なくとも二連のブレードを有し、ステータは、列のブレードが回転できる、対応する数のチャンネルを有し、流体が通過できる連続通路を形成するためにチャンネルをつなぐ手段が設けられている。
ラジアルシールを不要にすることができるので、機構を駆動するための駆動シャフトは、その各端部が、磁気軸受のような、無潤滑剤軸受によって支持されるのが良い。駆動シャフトに完全な磁石支持を行うことは、ラジアルシールが0.1mmよりも小さい半径方向運転クリアランスの要求に照らして、以前では困難であった。典型的なバックアップ軸受のクリアランスは、0.15mmよりも大きい。
本発明は、また、前述の再生ポンプ機構を含むポンプ装置を提供する。装置は、ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御するための手段を含み、したがって、ポンプ装置に連結された室の中の圧力を制御するのが良い。例えば、軸方向クリアランスは、増加しても良く、ポンプ機構のステージの一つまたはそれ以上が、排気された流体を、前のステージに戻す。室の荒引き中、軸方向クリアランスの制御は、再生機構の制限された排出ステージを通過する流体のより大きな流速を許すことができ、これにより、ポンプ速度が向上する。
かくして、本発明の他の側面では、室の中の圧力を制御するためのポンプ装置を提供し、該装置は、一方の側の環状列に位置決めされた一連のブレードを有するロータと、ブレードが回転する環状チャンネルを有するステータとを備えた再生ポンプ機構と、ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御し、したがって室の中の圧力を制御するために、ポンプの使用中、ロータの軸方向移動を行わせるための手段と、を含む。
本発明の好ましい特徴を、添付図面を参照して、例としてのみ、今説明する。
図3を参照すると、真空ポンプ装置100は、ターボ分子ポンプ機構および分子吸収ポンプ機構のいずれか一つあるいは両方を含む分子ポンプ機構102と、再生ポンプ機構104と、を含む。ポンプ装置の入口105は、クリーンな環境が要求される半導体処理室と流体連結している。使用中、分子流れ状態の気体が、入口から分子ポンプ機構102に吸い込まれ、該分子ポンプ機構は、分子を再生ポンプ機構104に押し入れる。気体は、排出口(図示せず)を通って大気圧でまたはその辺りで排出される。
ポンプ機構は、三つの別々の部分106,108,110で形成されているハウジングに収容されている。部分106は、分子ポンプ機構102の内面を形成し、部分108は、再生ポンプ機構104のステータを形成する。部分110は、駆動シャフト116の一端を支持するためのラジアル磁気軸受114を受け入れるための凹部112を構成する。磁気軸受114は、電磁石を使用する能動的な軸受であっても良いし、永久磁石を使用する受動的な軸受であっても良い。また、例えば電力故障の場合に、シャフト116の過度な半径方向移動を防止するバックアップ軸受118を設けるのが良い。駆動シャフト116の他端もラジアル磁気軸受115およびバックアップ軸受119で支持される。
駆動シャフト116はモータ120で駆動される。モータ120は、真空ポンプ装置の任意の適当な位置で支持されてもよい。モータは、分子ポンプ機構102と再生ポンプ機構104を同時に駆動することができるようになっている。再生ポンプ機構は、一般的に、風損および空気抵抗が比較的高い大気圧に近い圧力で再生ポンプ機構が作動することに照らして、分子ポンプ機構よりもより大きい運転のための動力を必要とするので、モータは、再生ポンプ機構104に動力を供給するのに選択される。
再生ポンプ機構104は、ステータ108と、ロータ122と、を含む。ステータは、駆動シャフト116の長手方向軸線Aを中心に同心上に配置された複数のつながった円周ポンプチャンネル124を有する。ロータ124は、駆動シャフト116に取り付けられ、または駆動シャフト116と一体であり、そしてそれぞれの円周ポンプチャンネル126の中へ軸方向に延びるロータブレードBの複数の列を含む。図3に示す実施形態では、再生ポンプ機構104は、7つのポンプステージを含み、ステージ毎にそれぞれのチャンネルの中へ延びるロータブレードBの円周列を含む。運転中、駆動シャフト116は、ロータ112を回転させ、ロータブレードBをポンプチャンネルに沿って移動させ、気体を入口(図示せず)から、順にポンプステージの各々を通って(最外ステージから最内ステージまで)排出口(図示せず)に排気し、排気された気体を排出口から大気圧または大気圧に近い圧力で排出する。
図4は、再生ポンプ機構104の拡大断面図である。ブレードBの各円周列は、ロータ122の下面130のそれぞれの隆起リング128に取り付けられ、隆起リング128の高さは、図2に示す従来の再生ポンプ機構1の隆起リング10,11,12,13,14,15の高さよりもはるかに小さい。知られているように、各チャンネルは、該チャンネルに収容される対応するブレードの小さい部分と実質的に同じ形状寸法の長さの小部分のための縮小断面積(図示せず)を有する。各チャンネルのこの縮小断面積は、使用中、チャンネルの中を通る気体が、ポンプ装置100から排出されるまで、次の(内側の)チャンネルへ向ける(図示せず)ことによって偏向させる「ストリッパ」を形成する。
図2の再生ポンプ機構1と対比して、ポンプ装置100の再生ポンプ機構104は、ロータとステータとの間にラジアルシールを採用せず、その代わりに、アキシャルシールに頼る。図5を参照すると、再生ポンプ機構104の効率的な運転のために、ロータ122の下面130とステータ108の上面132との間の軸方向クリアランス「C」が、厳密に制御され、好ましくは、運転中、200μmを超えないあるいはそれより小さく、好ましくは、80μmより小さく維持されることが重要である。例えば、排気された気体により、ロータ122をステータ108から押し離す傾向がある軸方向荷重がロータ122に付与されるために、クリアランス「C」の増加は、ポンプチャンネル126からの気体の著しい漏出をもたらし、再生ポンプ機構104のポンプ性能を変動させる。
ロータ122とステータ108の間の軸方向クリアランスCを積極的に制御し、かくしてポンプ性能を制御するために、ポンプ装置100は、アキシャル磁気軸受140を含む。図4を参照すると、アキシャル磁気軸受140は、駆動シャフト116に取り付けられまたは駆動シャフト116と一体に形成された磁気軸受ロータ142を含み、磁気軸受ロータ142は、第一の電磁石144とステータ108に取り付けられた第二の電磁石146との間に配置される。制御装置150(図6に示す)を用いて、電磁石に付与される電圧を、電磁石144,146の間の磁気軸受ロータ142の位置を調整するように、選択的に制御し、それによってステータ108に対するロータ122の軸方向位置、かくして、軸方向クリアランスCの寸法を制御する。図4に示す構成では、第一の電磁石144に付与される電圧を増すと、ロータ122をステータ108に向かって引く傾向があり、反対に第二の電磁石146に付与される電圧を増すと、ロータ122をステータ108から引き離す傾向がある。
ロータ122(または駆動シャフト116)の軸方向位置を検出し、且つロータ122の位置を示す信号を制御装置150に出力する位置センサを使用し、制御装置150により、必要に応じて、電磁石144,146に付与される電圧の大きさを変えて軸方向クリアランスCを制御することができる。加えて、または変形例として、ポンプ装置100によって真空にされる室160の中の圧力を、ゲージ170、例えばピラニ真空計を用いて測定することができる。ゲージ170は、室160の中の圧力を示す信号を出力する。この信号は、制御装置150に送り込まれ、制御装置150は、信号を室160の中の現在の圧力と、所望圧力との比較を行うのに使用する。比較の結果に応じて、制御装置150は、軸方向クリアランスCを調整して(例えば排気された気体を、再生ポンプ機構104のステージをバイパスさせるように、軸方向クリアランスCを増大させることによって)再生ポンプ機構を通る流体の流量を制御し、それによって室160の中の圧力を調整することができる。これは、大気圧から室160の荒引き中特に有用であり、軸方向クリアランスCを増大させることにより、制限排出ステージを通る流体の流量を増加させることができる。
ロータ122とステータ108が万一接触する場合に、ロータ122とステータ108の表面130,132が損傷なく且つ最小の摩耗だけで接触を起こすように、硬質の被膜と自己潤滑材料の組み合わせを使用しても良い。
要するに、再生ポンプ機構は、一方の側に環状列に位置決めされた一連のブレードを有するロータと、ブレードが回転する環状チャンネルを有するステータと、を含む。ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御するために、アキシャル磁気軸受が、ロータとステータの間の相対的な軸方向移動を積極的に制御する。
これにより、ポンプ機構は、ラジアルシールとは全く異なって、ロータとステータの間に制御可能なアキシャルシールを提供することができる。
以上の説明は、本発明の一つの実施の形態を表したものであって、他の実施形態が、添付の請求項に記載されるように本発明の真の範囲から逸脱することなしに、当業者によって疑いなく思い浮かぶであろうことを理解すべきである。
例えば、ステータに対するロータの移動を制御するために磁気軸受を使用する変形例として、または、磁気軸受の制御故障の場合のバックアップとして、図7に示すように、ステータ108に対するロータ122の軸方向位置を制御するのにリニアアクチュエータ200を使用しても良い。アクチュエータは、例えば、駆動シャフト116とバックアップ軸受118の間に軸方向に配置され、例えば軸受118の位置を制御することによって駆動シャフト116の軸方向位置を調整するように駆動されるのが良い。アクチュエータは、任意の適切な形態を取ることができる。例えば、アクチュエータは、磁気歪材料で形成されたリニアアクチュエータの形態をなしていても良く、リニアアクチュエータの長さは、周囲の電磁石202によってリニアアクチュエータに付与される磁場の強さに関して変動する。制御装置150は、アクチュエータ200の長さ、かくしてステータに対するロータの軸方向位置を制御するために、駆動シャフト116とステータの間の軸方向クリアランスを示すセンサ152からの信号出力に応答して電磁石に供給される電圧を制御するように構成されていても良い。
Claims (28)
- 一方の側に環状列に位置決めされ、ステータの環状チャンネルの中へ軸方向に延び、チャンネルの中で回転する一連のブレードを有するロータと、
ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御するように、ロータとステータの間の相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段と、を含む、
ことを特徴とする再生ポンプ機構。 - 相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段は、ステータに対するロータの軸方向移動を制御するためのアキシャル磁気軸受からなる、
ことを特徴とする請求項1に記載の機構。 - アキシャル磁気軸受は、ロータをステータに向かって引くように配置された、少なくともの一つの電磁石を含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の機構。 - 電磁石は、ステータに取り付けられている、
ことを特徴とする請求項3に記載の機構。 - アキシャル磁気軸受は、ロータをステータから引き離すように配置された、少なくとも一つの第二の電磁石を含む、
ことを特徴とする請求項3または請求項4に記載の機構。 - アキシャル磁気軸受は、磁気軸受ロータを含み、
この磁気軸受ロータおよび再生機構のロータは、共通のシャフトに配置され、磁気軸受ロータは、第一および第二の電磁石の間に配置される、
ことを特徴とする請求項5に記載の機構。 - 電磁石によって発生された磁場の強さ、かくしてステータに対するロータの軸方向位置を制御するための制御手段を含む、
ことを特徴とする請求項3から請求項6のいずれか1項に記載の機構。 - 軸方向移動を積極的に制御するための手段は、ロータの軸方向位置を制御するように動作可能なアクチュエータからなる、
ことを特徴とする請求項1に記載の機構。 - アクチュエータは、磁気歪材料からなる、
ことを特徴とする請求項8に記載の機構。 - アクチュエータの形状、かくしてステータに対するロータの軸方向位置を制御するように、アクチュエータに付与される磁場の強さを制御するための制御手段を含む、
ことを特徴とする請求項9に記載の機構。 - アクチュエータの動作を制御し、かくしてステータに対するロータの軸方向位置を制御する制御手段を含む、
ことを特徴とする請求項8に記載の機構。 - 制御手段は、ステータに対するロータの軸方向位置を検出する手段と、検出された位置に応答して相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段を制御するための手段と、を含む、
ことを特徴とする請求項7または請求項11に記載の機構。 - ロータとステータの間の相対的な移動量を制限するための手段を含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の機構。 - ロータとステータの間の接触の場合に損傷を最小にするために、ロータとステータの少なくとも一方は、耐摩耗材料で形成され、或いは該材料で被膜される、
ことを特徴とする請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の機構。 - ロータは、該ロータの側に同心環状列に位置決めされた少なくとも二連のブレードを有し、
ステータは、列のブレードが回転することができる対応する数のチャンネルを有し、
流体が通ることができる連続通路を形成するようにチャンネルをつなぐ手段が設けられている、
ことを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の機構。 - 機構を駆動するための駆動シャフトを含む、
ことを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の機構。 - 駆動シャフトは、その各端部が、無潤滑剤軸受によって支持される、
ことを特徴とする請求項16に記載の機構。 - 各無潤滑剤軸受は、磁気軸受からなる、
ことを特徴とする請求項17に記載の機構。 - 駆動シャフトは、各端部がころがり軸受によって追加的に支持される、
ことを特徴とする請求項16から請求項18のいずれか1項に記載の機構。 - 相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段は、駆動シャフトの軸方向移動を制御し、それによりステータに対するロータの軸方向位置を制御するように構成されている、
ことを特徴とする請求項16から請求項19のいずれか1項に記載の機構。 - 相対的な軸方向移動を制御するための手段は、駆動シャフトの軸方向位置を制御するために前記回転軸受を軸方向に移動させるように構成されている、
ことを特徴とする請求項19および請求項20に記載の機構。 - 請求項1から請求項21のいずれか1項に記載の再生ポンプ機構を含む、ことを特徴とするポンプ装置。
- ロータとステータの間の軸方向クリアランスを制御するための手段を含み、したがってポンプ装置に連結した室の中の圧力を制御する、
ことを特徴とする請求項22に記載のポンプ装置。 - 室の中の圧力を制御するためのポンプ装置であって、
一方の側に環状列に位置決めされた一連のブレードを有するロータと、ブレードが回転する環状チャンネルを有するステータと、を備えた再生ポンプ機構と、
ロータとステータの間の軸方向クリアランス、したがって室の中の圧力を制御するために、ポンプの使用中、ロータとステータの間の相対的な軸方向移動を行わせるための手段と、を含む、
ことを特徴とするポンプ装置。 - 機構を駆動する駆動シャフトを含み、
相対的な軸方向移動を積極的に制御するための手段は、駆動シャフトの軸方向移動を制御し、それによってステータに対するロータの軸方向位置を制御するように構成されている、
ことを特徴とする請求項24に記載の装置。 - 相対的な軸方向移動を行わせるための手段は、ステータに対するロータの軸方向位置を制御するためのアキシャル磁気軸受を含む、
ことを特徴とする請求項24または請求項25に記載の装置。 - 相対的な軸方向移動を行わせるための手段は、ステータに対するロータの軸方向位置を制御するように駆動可能なアクチュエータを含む、
ことを特徴とする請求項24または請求項25に記載の装置。 - アクチュエータは、駆動シャフトを支持するための軸受を移動させるように構成されている、
ことを特徴とする請求項25および請求項27に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB0329034.3A GB0329034D0 (en) | 2003-12-15 | 2003-12-15 | Vacuum pumping arrangement |
PCT/GB2004/005211 WO2005059367A2 (en) | 2003-12-15 | 2004-12-08 | Vacuum pumping arrangement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007514096A true JP2007514096A (ja) | 2007-05-31 |
Family
ID=30130257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006543629A Pending JP2007514096A (ja) | 2003-12-15 | 2004-12-08 | 真空ポンプ装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7614844B2 (ja) |
EP (1) | EP1700039B1 (ja) |
JP (1) | JP2007514096A (ja) |
AT (1) | ATE412119T1 (ja) |
DE (1) | DE602004017359D1 (ja) |
GB (1) | GB0329034D0 (ja) |
WO (1) | WO2005059367A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020023966A (ja) * | 2018-07-09 | 2020-02-13 | エドワーズ リミテッド | 可変入口コンダクタンス真空ポンプ、真空ポンプ装置及び方法 |
JP2022095595A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | アトラス コプコ エアーパワー,ナームローゼ フェンノートシャップ | ガスを圧縮又は膨張させるための要素及びこのような要素を制御するための方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090081022A1 (en) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Honeywell International Inc. | Radially Staged Microscale Turbomolecular Pump |
US8070419B2 (en) * | 2008-12-24 | 2011-12-06 | Agilent Technologies, Inc. | Spiral pumping stage and vacuum pump incorporating such pumping stage |
US10539137B2 (en) | 2015-04-06 | 2020-01-21 | Trane International Inc. | Active clearance management in screw compressor |
GB2562261A (en) | 2017-05-10 | 2018-11-14 | Edwards Ltd | Motor Rotor |
CN114673728B (zh) * | 2020-12-24 | 2024-01-26 | 迈格钠磁动力股份有限公司 | 一种永磁推力悬浮轴承及其控制方法 |
CN115355251A (zh) * | 2022-10-19 | 2022-11-18 | 山东天瑞重工有限公司 | 一种轴向磁轴承、磁悬浮电机及磁悬浮真空泵 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3356033A (en) * | 1965-10-22 | 1967-12-05 | Ford Motor Co | Centrifugal fluid pump |
US3518021A (en) * | 1968-04-04 | 1970-06-30 | Gen Electric | Thrust bearing for compressor |
JPS60255970A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-17 | Mazda Motor Corp | 耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法 |
US5137418A (en) * | 1990-12-21 | 1992-08-11 | Roy E. Roth Company | Floating self-centering turbine impeller |
US6280157B1 (en) * | 1999-06-29 | 2001-08-28 | Flowserve Management Company | Sealless integral-motor pump with regenerative impeller disk |
GB0013491D0 (en) * | 2000-06-02 | 2000-07-26 | Boc Group Plc | Improved vacuum pump |
GB2383092B (en) * | 2001-08-13 | 2005-08-31 | Norman Moss | Improvements in and related to regenerative pumps |
JP2003129991A (ja) * | 2001-10-24 | 2003-05-08 | Boc Edwards Technologies Ltd | 分子ポンプ |
-
2003
- 2003-12-15 GB GBGB0329034.3A patent/GB0329034D0/en not_active Ceased
-
2004
- 2004-12-08 JP JP2006543629A patent/JP2007514096A/ja active Pending
- 2004-12-08 US US10/581,696 patent/US7614844B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-08 DE DE602004017359T patent/DE602004017359D1/de active Active
- 2004-12-08 WO PCT/GB2004/005211 patent/WO2005059367A2/en not_active Application Discontinuation
- 2004-12-08 AT AT04806029T patent/ATE412119T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-12-08 EP EP04806029A patent/EP1700039B1/en not_active Not-in-force
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020023966A (ja) * | 2018-07-09 | 2020-02-13 | エドワーズ リミテッド | 可変入口コンダクタンス真空ポンプ、真空ポンプ装置及び方法 |
JP2022095595A (ja) * | 2020-12-16 | 2022-06-28 | アトラス コプコ エアーパワー,ナームローゼ フェンノートシャップ | ガスを圧縮又は膨張させるための要素及びこのような要素を制御するための方法 |
JP7255816B2 (ja) | 2020-12-16 | 2023-04-11 | アトラス コプコ エアーパワー,ナームローゼ フェンノートシャップ | ガスを圧縮又は膨張させるための要素及びこのような要素を制御するための方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7614844B2 (en) | 2009-11-10 |
DE602004017359D1 (de) | 2008-12-04 |
WO2005059367A2 (en) | 2005-06-30 |
GB0329034D0 (en) | 2004-01-14 |
WO2005059367A3 (en) | 2006-11-16 |
EP1700039A2 (en) | 2006-09-13 |
EP1700039B1 (en) | 2008-10-22 |
ATE412119T1 (de) | 2008-11-15 |
US20070140833A1 (en) | 2007-06-21 |
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|
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