JP2005273560A - 分子ポンプ - Google Patents

Abstract

【課題】 ガス流路のコンダクタンスを容易かつ精度よく変化させることができる分子ポンプを提供する。
【解決手段】 本発明は、ねじ溝ポンプＮＰにおける環状の分子吸引部に対してコンダクタンスを変化させる調圧リング盤１３を近接させたものである。分子ポンプにおける回転体４の下部には円筒部４Ｎが一体的に付設され、この円筒部４Ｎの外方周面にはステータリング９が近接対向設置されている。このステータリング９の上部に環状の調圧リング盤１３を設置したものである。この環状の調圧リング盤１３はステータリング９に設けられた螺旋溝の入り口付近に対向して近設され、しかも電磁石１４、１５の作動でねじ溝ポンプＮＰに対して進退される。この進退によりコンダクタンスが変化調整される。非接触で進退し摺動部を有しないため、分子ポンプ内部から発塵することはない。
【選択図】 図１

Description

半導体製造装置や分析装置などの中真空から超高真空にわたる圧力範囲で使用される分子ポンプに関するもの。

このような分子ポンプにおいて、その代表的なターボ分子ポンプは、その主体をなすターボ機構が円筒状のケーシング内に回転自在に保持され、ケーシングの一方側における吸気口からの分子、ガス等を吸気し、他方側の排気口に排気する構成をなしている。すなわち、ターボ機構はケーシングの中央部位の軸芯に配置された回転体がケーシングに架設された上下の軸受にて回転自在に保持されるとともに、この回転体は同じくケーシングに架設されたモータにて高速回転されるよう連結されている。そして、このターボ機構は回転体の外周部に複数段固定された回転翼とケーシング側に固定された複数段の固定翼との組み合わせであって、この中で回転翼がモータにて高速回転、具体的には１分間に数万回転という回転速度で駆動され、ガス、分子を圧縮して排気する。

従来におけるターボ分子ポンプの一般的な例を示すと図１４に示すとおりである。以下、このターボ分子ポンプＴＰの主体であるターボ機構ＴＫについて説明すると、回転軸３の上方部には一体的に円筒部４Ｎが形成されていて、この円筒部４Ｎには外周に複数段（具体的には９段）の回転翼Ｂ１〜Ｂ９（図面には最上段の回転翼Ｂ１と最下段の回転翼Ｂ９のみ符号を付しその他の符号は付記を省略している）が延設されている。この回転翼Ｂ１〜Ｂ９は軸芯方向に一定の間隔を有して配置されている。この回転軸３と回転翼Ｂ１〜Ｂ９などは一体的であり、回転体４を構成している。他方、上方に吸気口６が形成されたケーシング５の内周側からは、固定翼Ｔ１〜Ｔ８（図面には最上段の固定翼Ｔ１と最下段の固定翼Ｔ８のみ符号を付してその他の付記は省略している）が各回転翼Ｂ１〜Ｂ９と交互に設けられターボ機構ＴＫが構成されている。なお、図１４においてＳは各固定翼Ｔ１〜Ｔ８を一定の間隔で保持するためのスペーサである。７は排気口である。

この回転軸３は、ポンプ機台部１上に設置された支持部８にて回転自在に保持されるとともにモータ駆動される。すなわち、支持部８には回転軸３のためのアキシャル用の軸受とラジアル用の軸受および、回転軸３を回転駆動するモータ（図示せず）が内設されている。モータにはインバータ（図示せず）から電気エネルギーが供給され、回転軸３を高速で回転駆動する。

そして、さらに回転体４の一部すなわち具体的には下方には円筒部４Ｎが一体的に形成され、しかもその外周にはねじ溝（この溝は図面では明確には開示されていない）が形成されている。なお、このねじ溝はステータリング９の側に形成される場合もある。このねじ溝は下方になるにつれて溝の深さが浅い円錐上をなしている。しかもこの円筒部４Ｎの外周には容器を兼ねたポンプ機台部１の上方円筒部の内周に接合されたステータリング９の内周面に近接している。このステータリング９の内周面と前記円筒部４Ｎとの組合わせによってねじ溝ポンプＮＰが構成されている。このねじ溝ポンプＮＰはドラッグポンプとして機能し、粘性流領域における分子を引き込んで排気する。

このようなターボ分子ポンプＴＰは、ターボ機構ＴＫによるターボポンプ機構とねじ溝ポンプＮＰによるねじ溝ポンプ機能を有機的に結合したものであり、通常ハイブリッド形ターボ分子ポンプと称されている。ターボ分子ポンプＴＰとしては、このようなハイブリッド形のものが排気特性が良く、よく利用されている。なお、分子ポンプとしてはターボ機構ＴＫのみを採用するものと、上記したステータリング９と外周にねじ溝が形成された回転体（円筒体）４との組合わせのみからなるねじ溝ポンプＮＰなどがある。

このような分子ポンプは、その吸気口が被排気部におけるチャンバに連結されてチャンバ内を高真空に排気する。この分子ポンプと被排気部との連結部にはチャンバの圧力を一定に保持するために、被排気部と分子ポンプの間に開口面積可変できるバルブを設けている。この開口面積可変なバルブを用いてチャンバの圧力（真空度）を一定に保つには、チャンバの目標圧力と、チャンバ内を測定した出力の測定圧力の信号に基づいてバルブの開口面積が変化するようバルブを作動させ、所望の圧力を保持する工夫が提案されている（特許文献１参照）。
特開２００３−１２９９９１号公報

ターボ分子ポンプを中心とする分子ポンプは、その大型化に伴い被排気部との連結部に介在される開口面積可変なバルブも大型化している。したがって、まず第１にバルブの開閉の応答速度が遅いこと、第２にバルブには摺動部や接触部があり、この部位がパーティクルの発生源になること、そして第３にバルブ自体が高価となり経済的に問題があることなどの課題が生じている。前記した工夫の提案では、分子ポンプにおける回転体とステータリングとの相対距離を変化させることによって、チャンバの圧力を制御するものであるが、回転体とステータリングとの相対距離を大きくした場合、チャンバの圧力が上昇（真空度が低下）するととともに、圧縮比が低下してしまうという問題を有している。この圧縮比低下は、排気作用を行う部品同士すなわち回転体とステータリングを相対移動させるが故におこる問題である。

さらにこの提案ではステータリングを電歪素子で軸方向に駆動させる方式が提案されているが、この場合はステータリングを半径方向に変動しないようにガイドを設ける必要がある。したがって、ステータリングとガイドとの摺動部を有することになり、この摺動部から発塵し、チャンバ内が汚れる問題がある。
本発明はこのような課題を解決する分子ポンプを提供するものである。

本発明が提供する分子ポンプは、上記課題を解決するために、分子ポンプ内のねじ溝ポンプ機構における環状の分子吸引部または分子排出部に対向して近設した調圧リング盤と、この調圧リング盤を前記分子吸引部または分子排出部に対して進退させる進退機構を設け、この進退機構の作動によってガス流路のコンダクタンスを変化させ、分子ポンプの吸気口側の圧力を制御できるようにしたものである。さらに本発明が提供する分子ポンプは、分子ポンプ内のターボ機構に近設した調圧リング盤と、この調圧リング盤をターボ機構に対して進退させる進退機構を設け、この進退機構の作動によってガス流路のコンダクタンスを変化させ、分子ポンプの吸気口側の圧力を制御できるようにしたものである。排気機能を有する機構（ターボ機構またはねじ溝ポンプ機構）に対して、排気作用のない調圧リング盤を相対移動させることで、被排気部のチャンバの圧力を制御するものであり、排気機能を有する機構の内部同士の相対距離は変化しない。調圧リング盤は磁気軸受機構で制御するため摺動部を有しない。

本発明が提供する分子ポンプによれば、ねじ溝ポンプを構成する回転体とステータリングとの相対距離が変化することがないために圧縮比の低下は起こらない。また摺動部を有しないため、分子ポンプ内部から発塵することはない。そのために、被排気部のチャンバ内が汚れることなくクリーンな真空が得られる。他方、調圧リング盤のコンダクタンスが大きくなり、被排気部のチャンバの圧力変化範囲がより大きくできる、また、ポンプの軽量化が図れる。さらに調圧リング盤がポンプ内の他部品へ接触しないような部材を設けたため、より信頼性の高いポンプとなる。チャンバと分子ポンプの間に調圧するためのバルブを設けない場合は、バルブを不要にしてチャンバの圧力を制御することを可能とし、排気システム全体のコストダウン化を図ることができる。

本発明は、分子ポンプ内において特にポンプ作用を行うターボ機構、あるいはねじ溝ポンプ機構に対して、対向して調圧リング盤を近設させ、この調圧リング盤の介設でコンダクタンスを変化させるようにした点に最大の特徴がある。調圧リング盤は、排気機能を有する主体がターボ機構またはねじ溝ポンプ機構であり、軸芯を有する円筒状であることから円盤状をなしている。円盤全面を面で形成してもよいし排気機構部の環状に沿うよう環状の面を有するものでもよい。そして、この調圧リング盤をターボ機構やねじ溝ポンプ機構に対向して近接させるとともに、これらに対して進退させる進退機構を設けたものである。この進退機構としては最良の機構は非接触で行われることであり、その点では磁気力を利用する機構が有利である。すなわち、この調圧リング盤の位置制御を電磁石と調圧リング盤の間の磁力にて行うものである。さらに望ましくは、調圧リング盤が他の部品部材に接触しないための接触防止部材（ストッパ）が設けられる。

本発明が第１に提供する実施例は、ねじ溝ポンプにおける環状の分子吸引部に対してコンダクタンスを変化させる調圧リング盤を近接させた構成のものである。この具体的な構成は図１に示されているが、図１はハイブリッド形のターボ分子ポンプＴＰの縦断面を示している。図に示すように回転体４は支持部８の内方に設置された軸受（図示せず）によって回転自在に保持された回転軸３の上端に支持され、同じく支持部８の内方に設けられた高周波モータ（図示せず）により数万ｒｐｍにて回転駆動されるよう構成されている。この回転体４には回転翼Ｂ１〜Ｂ９が設置され、他方、ケーシング５側には固定翼Ｔ１〜Ｔ８が設置されている。この回転翼Ｂ１〜Ｂ９と固定翼Ｔ１〜Ｔ８は数ｍｍの間隔を保って複数段設置されている。この回転翼Ｂ１〜Ｂ９と固定翼Ｔ１〜Ｔ８の組合せによりターボ機構ＴＫが構成されている。また、固定翼Ｔ１〜Ｔ８はスペーサＳによって位置決めされ、このスペーサＳはケーシング５とポンプ機台部１により上下に挟み込まれることで位置決めされている。

さて、回転体４の下部にはドラッグポンプとしてのねじ溝ポンプＮＰが構成されている。すなわち、回転体４の下方には円筒部４Ｎが一体的に付設され、この円筒部４Ｎの外方周面にはステータリング９が近接対向設置されている。そして、ステータリング９側に螺旋溝９Ｍが形成されている。この構成はステータリング９を斜視的に示す図２から明らかである。図２に示すようにステータリング９は上方にフランジ部９Ｆが形成され、円筒部９Ｒの内方に螺旋溝９Ｍが複数本形成されている。このステータリング９が容器を兼ねたポンプ機台部１（図１）の上方における円筒部の内周に嵌合架設されている。

以上がドラッグポンプとしてのねじ溝ポンプＮＰの構造であるが、その上方には回転翼Ｂ１〜Ｂ９と固定翼Ｔ１〜Ｔ８にて構成されるターボ機構ＴＫが設置されている。したがって、ターボ分子ポンプＴＰにおいては、吸気口６からのガスはターボ機構ＴＫにて圧縮されながら、ねじ溝ポンプＮＰへと流れる。流入したガスはねじ溝ポンプＮＰのねじ溝部（上方からみると環状）に吸収されてさらに圧縮され排気口７へと排出される。ポンプへ飛来するガスの流量が同じとき、被排気部のチャンバの圧力を変化させるには、このガス流路のコンダクタンスが可変であれば実現できる。

実施例１は、この原理に基づいてステータリング９の上部に環状の調圧リング盤１３を設置したものである。この環状の調圧リング盤１３は図２に示すステータリング９に設けられた螺旋溝９Ｍ（図２）の入り口付近に対向して近設され、比較的細い環状をなしている。この調圧リング盤１３の幅は図３に示す外径と内径の差の半分で図２におけるステータリング９の螺旋溝９Ｍの大きさに対応している。この調圧リング盤１３をステータリング９に対して回転体４の軸方向に進退させる機構として電磁石１４による進退機構が採用されている。図３に示すように調圧リング盤１３の上下には上側の電磁石１４と下側の電磁石１５（図３は平面図であり電磁石１５は示されていない）がポンプの軸芯まわりに１２０度の間隔で設置され、進退機構を構成している。また、両電磁石１４、１５の近傍には図５に示すように非接触式の位置センサ１６がそれぞれの電磁石１４、１５の側方位に設置されている。なお、図５は図１におけるＡ部を拡大して示す図である。

この位置センサ１６は図５に示すように、その上端が調圧リング盤１３の下面に近接して対応し調圧リング盤１３の変位に応じ信号を出力するようになっている。他方、電磁石１４、１５の構成は、図５におけるＢ部を拡大して図６に示すとおりである。図６は電磁石１４、１５ならびに調圧リング盤１３の進退動作を一定以下に制限するストッパ１７の構成のみを示している。この電磁石１４、１５は、図７に示すように通電による磁界の発生で調圧リング盤１３を上方ないし下方に作動させるが、この電磁石１４、１５への通電は図８に示す位置制御回路ＰＣにて行われる。この図８に示すように進退作動の制御は位置センサ１６の信号で現在位置の情報を考慮しながら、目標位置に位置決めするようになっている。

調圧リング盤１３のアキシャル方向位置は、位置センサ１６の検出信号によって現在位置の情報が得られ、この現在位置情報と進退させたい目標位置に基づいて図８に示す位置制御回路ＰＣが作動し、調圧リング盤１３の位置が制御される。調圧リング盤１３のラジアル方向位置は、図７の部拡大図に示す両電磁石１４、１５と調圧リング盤１３の間の磁束線は常に最小になろうとし、さらに両電磁石１４、１５の磁束の出る面積よりも調圧リング盤１３の磁束の出る面積を小さく設定しているので、特に制御回路を用いなくてもその位置は安定する。

また、調圧リング盤１３の位置については、外乱により万一回転しても問題のないように構成されている。なお、図８において１９は位置制御器であり、入力された差信号に基づいて電磁石１４、１５を作動させ、調圧リング盤１３が微少進退する。その変位後の位置についての信号が位置センサ１６から出力される。つぎに、ステータリング９と調圧リング盤１３との寸法関係は図８に示すように、調圧リング盤１３の内径がステータリング９の内径以下になるよう設定し、かつ調圧リング盤１３の外径がステータリング９の外径以上になるよう設定されている。

上記のように構成された電磁石１４、１５によって、図３、図４に示すように周囲１２０度間隔で３地点より調圧リング盤１３の位置をポンプ軸芯方向に連続的に微動進退させる。その結果、ステータリング９に設けられた螺旋溝９Ｍ（図２）が徐々に閉塞され、または開放されるようになっている。このような操作によって螺旋溝９Ｍ入り口付近のコンダクタンスを連続的に変化させることが可能となる。調圧リング盤１３をポンプ軸芯方向で上方に連続的に移動させると調圧リング盤１３のねじ溝ポンプＮＰに対する近設隙間は増え、コンダクタンスは連続的に大きくなる。すなわち、ターボ分子ポンプＴＰの排気速度は連続的に大きくなる。したがって、被排気部のチャンバの圧力を連続的に下げることができる。逆に、調圧リング盤１３をポンプ軸芯方向下方に連続的に移動させるとチャンバの圧力を連続的に上げることができる。このような特性は図９に示すとおりである。図９は調圧リング盤１３のポンプ軸芯方向位置と排気速度の関係を示している。なお、図１０は調圧リング盤１３のポンプ軸芯方向位置と吸気口圧力の関係（特性）を示している。

本発明が第２に提供する実施例は、進退機構の異常時を保障する機構を設けたものである。具体的には調圧リング盤１３の位置制御系すなわち進退機構に異常が生じた場合を考慮し、電磁石１４、１５やその他の部品に接触することを防止するストッパ（接触防止部材）１７が設けたものである。このストッパ１７は図６に示すとおり、電磁石１４、１５のために保持枠１８に突設されている。調圧リング盤１３の移動可能な変位量はストッパ１７により移動距離ＲＳ以下に制限されている。また、調圧リング盤１３とストッパ１７以外の部品までの距離はＲＳを超えるように設定されている。このストッパ１７の介設によって調圧リング盤１３が電磁石１４、１５や回転体４に接触することは解消される。したがって、ターボ分子ポンプとしての信頼性は向上する。

以上説明してきたように、排気機能を行うターボ機構ＴＫやねじ溝ポンプＮＰに対して、排気作用のない調圧リング盤１３を進退（相対移動）させることで、被排気部のチャンバの圧力を変化させることができ、回転体４とステータリング９の相対距離が変化しないために圧縮比の低下は起こることはない。しかも、調圧リング盤１３を電磁石１４、１５で制御するものであり、摺動部を有しないため、ターボ分子ポンプＴＰ内部から発塵することはない。ひいては、被排気部のチャンバ内が汚れることなくクリーンな真空が得られる。なお、図示例ではストッパ１７を保持枠１８に突設した例を示したが、電磁石１４、１５に付設させるようにすることも可能である。

本発明が第３に提供する実施例は、コンダクタンスの変化、制御を被排気部の圧力を検知しながら設定目標、あるいは被排気部における使用目的の事情に沿い制御するように構成したものである。すなわち、被排気部のチャンバの圧力情報をもとに調圧リング盤の位置を制御し、被排気部のチャンバの圧力を制御するものである。この実施例は、図１１に示すが、ターボ分子ポンプＴＰ内部には上述した調圧リング盤１３の位置制御回路ＰＣを備え、かつ被排気部のチャンバの圧力および目標圧力をもとに制御する圧力制御回路ＡＣを設けている。なお、図１１において２０は圧力制御器であり、入力された差信号に基づいて前述の位置制御回路ＰＣを作動させる。その結果、被排気部のチャンバの圧力が制御されるのである。その圧力は圧力センサＰＳにて検出される。上記のような構成によって、被排気部のチャンバとターボ分子ポンプＴＰの間に調圧バルブ等を設ける必要がなく、被排気部のチャンバの圧力を制御することが可能となり、排気システム全体のコストダウンにつながる。

本発明の特徴は以上詳述したとおりであるが、上記ならびに図示例に限定されるものではなく種々の変形例を挙げることができる。まず第１の変形例としては、調圧リング盤１３の設置位置である。図示例ではねじ溝ポンプＮＰの最上段部位に調圧リング盤１３を対向近設した例であるが、この調圧リング盤１３をねじ溝ポンプＮＰの最下段部位もしくはターボ機構ＴＫの最上段部位もしくはターボ機構ＴＫの最下段部位に対向近設させるようにすることもできる。第２の変形例としてはこの調圧リング盤１３の大きさ、形状に関する実施例である。図３に示す実施例では調圧リング盤１３の中空孔の径は外径に比較して小さく、すなわち環状の幅が大きく設定されている。これを両径の差を小さく、すなわち幅を小さくすることも可能である。すなわち調圧リング盤１３は特にターボ機構ＴＫに対向する場合は、そのターボ機構ＴＫのポンプ幅に対応する大きさが望ましいが、その大きさより敢えて細かくすることでコンダクタンスの調整をゆるやかにするようにすることもできる。

また、ドラッグポンプとしてのねじ溝ポンプＮＰに対向する調圧リング盤１３についてもその幅を小さくすることでコンダクタンスの調整をゆるやかにすることができる。図４はこのような幅の小さい例で両径の差が小さい。第３は進退機構についての変形例を説明する。上記ならびに図示例は電磁石１４、１５すなわち電磁力を使用した例である。これは磁力が非接触で作動できること、大きさを調整できることから必須の条件である。この場合電磁石１４、１５からの漏れ磁束を遮断するために、透磁率の大きい部材で磁石を覆うように構成しても良い。このように材料の調整、改良により回転体での渦電流の発生を抑制し、回転体の温度上昇を防ぎ、ターボ分子ポンプＴＰの信頼性を向上させることができる。

さらに上記変形例に関連して、調圧リング盤１３の電磁石１４、１５からの磁束が通る部位に透磁率の高い部材を使用し、それ以外の部分はアルミなど透磁率の低い部材を用いても良い。この場合は、磁束の漏れを防ぐことができ信頼性向上が図れるほか、アルミなどの透磁率が低くかつ密度の小さな部材を用いることで、ポンプ全体の軽量化が図れる。

なお、ターボ機構ＴＫの最下部に調圧リング盤１３を配置し、この調圧リング盤１３を１２０度間隔の３地点で制御する場合、調圧リング盤１３のラジアル方向の位置制御は、電磁石１４、１５と調圧リング盤１３の間の磁力線は常に最小になろうとするため制御を必要としない。第４の変形例として、調圧リング盤１３の支持機構の変形例を挙げることができる。図１２がその例を示している。図１２はターボ分子ポンプＴＰの縦断面図を示しているがＣ部がその要部である。このＣ部を拡大して示しているのが図１３で、調圧リング盤１３の外周端部に連結杆２３が付設され、この連結杆２３が両電磁石１４、１５間の可動部２４に連結されている。この例では進退できる大きさは間隔Ｌ未満である。

これら変形例について詳述する。たとえば回転翼Ｂ１〜Ｂ９の下部に調圧リング盤を設置することにより、回転翼Ｂ１〜Ｂ９付近のコンダクタンスを変化させる場合、調圧リング盤１３に対する電磁石１４、１５、位置センサ１６の相対的位置は上述のとおりである。このように構成された電磁石１４、１５の機構による３点での制御にて調圧リング盤１３の位置をアキシャル方向に上下させることにより、回転翼Ｂ１〜Ｂ９付近のコンダクタンスを変化させることが可能となる。調圧リング盤１３をポンプ軸芯の下方に移動させると調圧リング盤１３とターボ分子ポンプＴＰの隙間は増え、コンダクタンスは大きくなり、被排気部のチャンバの圧力を下げることができる。また、調圧リング盤１３をポンプ軸芯の上方に移動させると被排気部のチャンバの圧力を上げることができる。

さらに変形例として、調圧リング盤１３をターボ分子ポンプＴＰの最上部（吸気口近傍）に設置することもできる。この場合は、圧力制御の範囲がより大きくなる。そしてさらに、調圧リング盤１３の一部に空間を設け、調圧リング盤１３のコンダクタンスを大きくすることもできる。この場合、調圧リング盤１３が軽量化でき、電磁石の小型化が可能となり、コストダウンできる。また、圧力制御器２０は図１１ではターボ分子ポンプＴＰに内設しているが、外部にあっても良い。さらに、いままでの説明から明らかなとおり、本発明の分子ポンプはターボ機構ＴＫのみによる分子ポンプと、ねじ溝ポンプＮＰのみからなる分子ポンプさらにはこれらの組み合わせからなる分子ポンプにおいて適用できるし、特にねじ溝ポンプＮＰについては図示例のようなステータリングを有しないねじ溝ポンプにも適用できる。なお、これら各変形例を示す図において図１あるいは図１４に示す符号と同一の符号で示す部品は図１、図１４と同様の機能を有するものであり説明は省略する。

本発明が第１に提供する分子ポンプの構成を縦断面して示す図である。 本発明の要部にかかわる構成を示す斜視図である。 本発明の要部の構成を示す図である。 本発明の要部の構成の変形例を示す図である。 本発明の要部を拡大して示す図である。 本発明の要部を拡大して示す図である。 本発明の要部を拡大して示す図である。 本発明の要部構成の位置制御を示す図である。 本発明の要部構成の位置と排気特性の関係を示す図である。 本発明の要部構成の位置と排気特性の関係を示す図である。 本発明の要部構成の位置制御と被排気部圧力の関係を示す図である。 本発明による分子ポンプの変形例の縦断面を示す図である。 本発明による分子ポンプの変形例の要部を拡大して示す図である。 従来の分子ポンプの構成を縦断面して示す図である。

符号の説明

１ ポンプ機台部
３ 回転軸
４ 回転体
４Ｎ 円筒部
５ ケーシング
６ 吸気口
７ 排気口
８ 支持部
９ ステータリング
９Ｍ 螺旋溝
９Ｆ フランジ部
９Ｒ 円筒部
１３ 調圧リング盤
１４ 電磁石
１５ 電磁石
１６ 位置センサ
１７ ストッパ
１８ 保持枠
１９ 位置制御器
２０ 圧力制御器
２３ 連結杆
２４ 可動部
Ｂ１〜Ｂ９ 回転翼
Ｔ１〜Ｔ８ 固定翼
ＴＫ ターボ機構
ＴＰ ターボ分子ポンプ
ＮＰ ねじ溝ポンプ
ＡＣ 圧力制御回路
Ｌ 間隔
ＰＣ 位置制御回路
ＰＳ 圧力センサ
ＲＳ 移動距離
Ｓ スペーサ

Claims (4)

1. 円筒状のケーシング内に軸受を介して回転自在に保持された回転体と、前記ケーシング内周側に接合されたステータリングと、回転体を高速回転させるモータを備え、回転体の外周面とステータリングの内周面を近接設置させてねじポンプ機構を構成し、吸気口からの分子を排気口に排気する分子ポンプにおいて、分子ポンプ内のねじ溝ポンプ機構における環状の分子吸引部または分子排出部に対向して近設した調圧リング盤と、この調圧リング盤を前記分子吸引部または分子排出部に対して進退させる進退機構を設け、この進退機構の作動によってガス流路のコンダクタンスを変化させ、分子ポンプの吸気口側の圧力を制御できるようにしたことを特徴とする分子ポンプ。
2. 進退機構を１個または２個以上の磁気軸受機構で構成したことを特徴とする請求項１記載の分子ポンプ。
3. 円筒状のケーシング内に軸受を介して回転自在に保持された回転枠に複数段固定された回転翼と、前記ケーシング内周側に固定された複数段の固定翼と、前記回転枠を高速回転させるモータを備えて回転翼と固定翼からなるターボ機構を構成し、前記ケーシングの一端側の吸気口からの分子を吸気して他端側の排気口に排気する分子ポンプにおいて、分子ポンプ内のターボ機構に近設した調圧リング盤と、この調圧リング盤をターボ機構に対して進退させる進退機構を設け、この進退機構の作動によってガス流路のコンダクタンスを変化させ、分子ポンプの吸気口側の圧力を制御できるようにしたことを特徴とする分子ポンプ。
4. 進退機構を１個または複数個の磁気軸受機構により構成したことを特徴とする請求項３記載の分子ポンプ。
   

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