JPS60255970A - 耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法 - Google Patents
耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法Info
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- JPS60255970A JPS60255970A JP59110465A JP11046584A JPS60255970A JP S60255970 A JPS60255970 A JP S60255970A JP 59110465 A JP59110465 A JP 59110465A JP 11046584 A JP11046584 A JP 11046584A JP S60255970 A JPS60255970 A JP S60255970A
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- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
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- C25F3/02—Etching
- C25F3/14—Etching locally
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/48—After-treatment of electroplated surfaces
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
- F16C33/02—Parts of sliding-contact bearings
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- F16C33/043—Sliding surface consisting mainly of ceramics, cermets or hard carbon, e.g. diamond like carbon [DLC]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、例えばロータリピストンエンジンのロータハ
ウジングの製造等に適した耐摩耗性に優れた摺接部材の
製造法に関する。
ウジングの製造等に適した耐摩耗性に優れた摺接部材の
製造法に関する。
（従 来 技 術）
ロータリピストンエンジンにおけるロータハウジングの
内周面は、ロータに６１１されたアペックスシールが高
速で摺接するので表面が十分硬くて耐摩耗性に優れてい
ることが必要であり、そこで従来においては該内周面に
硬質クロムメッキを施していた。しかし、エンジンを更
に高速、高出力化させるためには上記硬質クロムメッキ
だけでは十分でなく、耐摩耗性を更に向上させることが
要請されていた。
内周面は、ロータに６１１されたアペックスシールが高
速で摺接するので表面が十分硬くて耐摩耗性に優れてい
ることが必要であり、そこで従来においては該内周面に
硬質クロムメッキを施していた。しかし、エンジンを更
に高速、高出力化させるためには上記硬質クロムメッキ
だけでは十分でなく、耐摩耗性を更に向上させることが
要請されていた。
そこで、本件出願人は、先行特許出願（特願昭５８−２
６６０８号）で、ロータハウジングの内周面に硬質クロ
ムメッキを施すと共に、そのメッキ層を逆電処理により
ポーラス化し、且つ該メッキ層の表面にイオンブレーテ
ィング又はスパッタリング等の気相メッキにより硬質セ
ラミック被膜を形成する方法を提案した。これによれば
、上記硬質セラミック被膜の有する非常に硬いという特
性と、表面に形成される凹部のオイル保持作用とにより
、この種の摺接部材として耐摩耗性に優れたものが得ら
れることになる。
６６０８号）で、ロータハウジングの内周面に硬質クロ
ムメッキを施すと共に、そのメッキ層を逆電処理により
ポーラス化し、且つ該メッキ層の表面にイオンブレーテ
ィング又はスパッタリング等の気相メッキにより硬質セ
ラミック被膜を形成する方法を提案した。これによれば
、上記硬質セラミック被膜の有する非常に硬いという特
性と、表面に形成される凹部のオイル保持作用とにより
、この種の摺接部材として耐摩耗性に優れたものが得ら
れることになる。
しかし、上記硬質クロムメッキ層をポーラス化する手段
としての逆電処理は、凹部の形成分布が不均一となり、
またＩ！１８１１の断面形状がＶ形となる欠点がある。
としての逆電処理は、凹部の形成分布が不均一となり、
またＩ！１８１１の断面形状がＶ形となる欠点がある。
つまり、高面■形の凹部は容積が小さいためオイル保持
量が少なく、しかも表面が摩耗した時に容積が一層小さ
くなるのである。そのため、特に凹部の分布密度が小さ
い箇所で、油切れによる焼付きを生ずる虞れがある。
量が少なく、しかも表面が摩耗した時に容積が一層小さ
くなるのである。そのため、特に凹部の分布密度が小さ
い箇所で、油切れによる焼付きを生ずる虞れがある。
（発 明 の 目 的〉
本発明は、摺接部材に関する上記のような実情に対処す
るもので、基材表面に硬質メッキ層と硬質セラミック被
膜とを設ける構成において、上記硬質メッキ層をポーラ
ス化する手段として、容積の大きい断面Ｕ形の凹部を均
一な或いは任意の分布で形成することができる電解エツ
チング法を採用する。これにより、この種の摺接部材の
表面の高硬度化とオイル保持性の向上とを図り、該摺接
部材の耐摩耗性を一層向上させることを目的とする。
るもので、基材表面に硬質メッキ層と硬質セラミック被
膜とを設ける構成において、上記硬質メッキ層をポーラ
ス化する手段として、容積の大きい断面Ｕ形の凹部を均
一な或いは任意の分布で形成することができる電解エツ
チング法を採用する。これにより、この種の摺接部材の
表面の高硬度化とオイル保持性の向上とを図り、該摺接
部材の耐摩耗性を一層向上させることを目的とする。
（発 明 の 楕 、成）
本発明に係る摺接部材の製造法は、上記目的を達成すべ
く次のように構成したことを特徴と４る。
く次のように構成したことを特徴と４る。
先ず、第１工程として、金属基村上に硬質メッキ層を形
成する。この硬質メッキとしては、前述のクロムメッキ
の他に、ニッケルーリンメッキ、クロムモリブデンメッ
キ等、表面硬度がＨＶ７００以上有するものが採用可能
である。
成する。この硬質メッキとしては、前述のクロムメッキ
の他に、ニッケルーリンメッキ、クロムモリブデンメッ
キ等、表面硬度がＨＶ７００以上有するものが採用可能
である。
次に、第２工程として、上記硬質メッキ層の表面に電解
エツチング時のマスクとなるレジスト膜を露光、現像処
理により形成する。このレジ支ト膜の形成は、例えば紫
外線感光型の液状又はフィルム状のフォトレジストと、
所定のパターンを有するフォトマスクとを用いて行われ
、これによりフォトマスクのパターンに対応したレジス
ト膜が形成される。
エツチング時のマスクとなるレジスト膜を露光、現像処
理により形成する。このレジ支ト膜の形成は、例えば紫
外線感光型の液状又はフィルム状のフォトレジストと、
所定のパターンを有するフォトマスクとを用いて行われ
、これによりフォトマスクのパターンに対応したレジス
ト膜が形成される。
そして、第３工程として、上記レジスト膜を形成した硬
質メッキ層について電解エツチングを行う。これにより
、該メッキ層の表面におけるレジスト膜の非存在部が食
刻されて凹部が形成される。
質メッキ層について電解エツチングを行う。これにより
、該メッキ層の表面におけるレジスト膜の非存在部が食
刻されて凹部が形成される。
その場合に、この電解エツチングによって形成される凹
部は断面形状がＵ形となり、また分布は上記フォトマス
クのパターンに従うことになる。
部は断面形状がＵ形となり、また分布は上記フォトマス
クのパターンに従うことになる。
また、この電解エツチングは、電流密度が５０〜６００
Ａ／ｄｍ２の条件で行われる。この電流密度は形成され
る凹部の深さと関係し、該密度が、５０Ａ／ｄｍ２未満
であると、腐食が横方向に進行する所謂サイドエツチン
グの傾向が著しくなり、そのため、所要深さの凹部を得
るための電解時間が長くなる。また、第９図Ｔａ）に示
ずように、硬質メッキ層Ａの表面における凹部Ｂの開口
面積率が大きくなるために、相手側摺動部材と摺接する
平坦部Ｃの面積が減少して、該平坦部Ｃと相手材との面
圧が増大し、その結果、両者の摩耗が促進されることに
なる。更に、凹部Ｂが開口面積の大きい形状となるため
、良好なオイル保持性が得られない。一方、電流密度が
６００Ａ／ｄｍ２を超えると、第９図（ｂ）に示（よう
に、深く且つ開口面積の小さい凹部８′が形成されて、
オイル保持性の面で好都合であるが、該凹部Ｂ′と平坦
部Ｃ′との間のエツジ部Ｄ゛におけるショルダー角θが
略直角となって、シャープエツジが形成されることにな
る。
Ａ／ｄｍ２の条件で行われる。この電流密度は形成され
る凹部の深さと関係し、該密度が、５０Ａ／ｄｍ２未満
であると、腐食が横方向に進行する所謂サイドエツチン
グの傾向が著しくなり、そのため、所要深さの凹部を得
るための電解時間が長くなる。また、第９図Ｔａ）に示
ずように、硬質メッキ層Ａの表面における凹部Ｂの開口
面積率が大きくなるために、相手側摺動部材と摺接する
平坦部Ｃの面積が減少して、該平坦部Ｃと相手材との面
圧が増大し、その結果、両者の摩耗が促進されることに
なる。更に、凹部Ｂが開口面積の大きい形状となるため
、良好なオイル保持性が得られない。一方、電流密度が
６００Ａ／ｄｍ２を超えると、第９図（ｂ）に示（よう
に、深く且つ開口面積の小さい凹部８′が形成されて、
オイル保持性の面で好都合であるが、該凹部Ｂ′と平坦
部Ｃ′との間のエツジ部Ｄ゛におけるショルダー角θが
略直角となって、シャープエツジが形成されることにな
る。
このようなシャープエツジが形成されると、硬質メ′ツ
キ層Ａ′が該エツジ部Ｄ′から欠は易く、また該メッキ
層Ａ′の表面に後の工程で被覆される硬質セラミック被
膜が該エツジ部Ｄ′から剥離し易くなり、更に相手材の
摩耗を促進させることになる。
キ層Ａ′が該エツジ部Ｄ′から欠は易く、また該メッキ
層Ａ′の表面に後の工程で被覆される硬質セラミック被
膜が該エツジ部Ｄ′から剥離し易くなり、更に相手材の
摩耗を促進させることになる。
そこで、上記のように電解エツチング時の電流密度は５
０〜６００Ａ／ｄｍ”の範囲で行われるのであるが、こ
れにより第９図（Ｃ）に示すＪ、うに、比較的開口面積
が小さくてオイル保持性に優れ、且つエツジ部Ｄ Ｉ＋
のショルダー角θ′が大きり（１００°以上）で、該エ
ツジ部Ｄ″からの剥離等のない凹部Ｂ ”が形成される
のである。
０〜６００Ａ／ｄｍ”の範囲で行われるのであるが、こ
れにより第９図（Ｃ）に示すＪ、うに、比較的開口面積
が小さくてオイル保持性に優れ、且つエツジ部Ｄ Ｉ＋
のショルダー角θ′が大きり（１００°以上）で、該エ
ツジ部Ｄ″からの剥離等のない凹部Ｂ ”が形成される
のである。
このようにして、電解エツチングが終了すると、第４工
程として上記の第２工程で形成したレジスト膜を所定の
溶液で溶解除去し、次に最終工程として上記硬質メッキ
層の表面にイオンプレーティング又はスパッタリング等
の気相メッキにより、窒化チタンや炭化チタン等、表面
硬度がＨｖ１０００以上有する硬質セラミック被膜を形
成する。
程として上記の第２工程で形成したレジスト膜を所定の
溶液で溶解除去し、次に最終工程として上記硬質メッキ
層の表面にイオンプレーティング又はスパッタリング等
の気相メッキにより、窒化チタンや炭化チタン等、表面
硬度がＨｖ１０００以上有する硬質セラミック被膜を形
成する。
この硬質セラミック被膜は、上記硬質メッキ層の表面に
形成された凹部の内面にも一様に形成される。これによ
り、金属基材上に硬質メッキ層が形成され且つ該メッキ
層が硬質セラミック被膜で被覆されていると共に、表面
にエツジ部のショルダー角が比較的大きな且つ断面形状
がＵ形のオイル保持凹部が多数形成されてなる摺接部材
が得られることになる。
形成された凹部の内面にも一様に形成される。これによ
り、金属基材上に硬質メッキ層が形成され且つ該メッキ
層が硬質セラミック被膜で被覆されていると共に、表面
にエツジ部のショルダー角が比較的大きな且つ断面形状
がＵ形のオイル保持凹部が多数形成されてなる摺接部材
が得られることになる。
（発 明 の 効 果）
以上のように本発明方法によれば、例えばロータリピス
トンエンジンにおけるロータハウジング等の摺接部材と
して、硬質レラミック被膜により表面硬度が十分大き（
され、且つオイル保持層の多い断面Ｕ形のオイル保持凹
部が均一な又は任意の分布で形成されていることにより
耐摩耗性に優れた摺接部材が得られることになる。特に
、この摺接部材は、上記凹部のエツジ部が大きなショル
ダー角を有することにより、該エツジ部からの°硬質セ
ラミック被膜やその下地の硬質メッキ層の剥離がなく、
しかも相手材の摩耗を促進することがない等の利点を有
する。
トンエンジンにおけるロータハウジング等の摺接部材と
して、硬質レラミック被膜により表面硬度が十分大き（
され、且つオイル保持層の多い断面Ｕ形のオイル保持凹
部が均一な又は任意の分布で形成されていることにより
耐摩耗性に優れた摺接部材が得られることになる。特に
、この摺接部材は、上記凹部のエツジ部が大きなショル
ダー角を有することにより、該エツジ部からの°硬質セ
ラミック被膜やその下地の硬質メッキ層の剥離がなく、
しかも相手材の摩耗を促進することがない等の利点を有
する。
（実 施 例）
以下、本発明の実施例について説明する。
先ず、第１図に示すように金属基材１の表面に硬質クロ
ムメッキを施し、該メッキ１２の表面をホーニング加工
によって平滑にした。
ムメッキを施し、該メッキ１２の表面をホーニング加工
によって平滑にした。
次に、第２図に示すように、上記硬質クロムメッキ層２
の表面を紫外１１１感光型の液状又はフィルム状のフォ
トレジスト３で被覆すると共に、その上に透明部４ａと
非透明部４ｂとでなる所定のパターンを有するフォトマ
スク４を密着し、その上方からフォトレジスタ３を露光
した。この時、フォトレジスト３は、フ７Ｉｔ−マスク
４の透明部４ａに対応する部分が露光されて硬化部３ａ
となり、非透明部４ｂに対応する部分は露光されないで
非硬化部３ｂとなる。そして、露光の後、フォトマスク
４を除去すると共に、フォトレジスト３を溶液として１
，１．ｌトリクロルエタンを用いて現像し、該フォトレ
ジスト３の未露光部（非硬化部）３ｂを溶解剥離した。
の表面を紫外１１１感光型の液状又はフィルム状のフォ
トレジスト３で被覆すると共に、その上に透明部４ａと
非透明部４ｂとでなる所定のパターンを有するフォトマ
スク４を密着し、その上方からフォトレジスタ３を露光
した。この時、フォトレジスト３は、フ７Ｉｔ−マスク
４の透明部４ａに対応する部分が露光されて硬化部３ａ
となり、非透明部４ｂに対応する部分は露光されないで
非硬化部３ｂとなる。そして、露光の後、フォトマスク
４を除去すると共に、フォトレジスト３を溶液として１
，１．ｌトリクロルエタンを用いて現像し、該フォトレ
ジスト３の未露光部（非硬化部）３ｂを溶解剥離した。
これにより、第３図に示すように、硬質クロムメッキ層
２上に上記フォトマスク４の透明部４ａに対応するパタ
ーンのレジスト膜５（フォトレジスト３の硬化部３ａ）
が形成される。
２上に上記フォトマスク４の透明部４ａに対応するパタ
ーンのレジスト膜５（フォトレジスト３の硬化部３ａ）
が形成される。
そして、上記のようにしてレジスト膜５が形成された後
、硬質クロムメッキ層２を電解エツチングした。その場
合に、エツチング液としてクロム酸溶液を使用し、また
電流密度は５０〜６００Ａ／ｄｍ２の範゛囲に含まれる
複数の値について行った。
、硬質クロムメッキ層２を電解エツチングした。その場
合に、エツチング液としてクロム酸溶液を使用し、また
電流密度は５０〜６００Ａ／ｄｍ２の範゛囲に含まれる
複数の値について行った。
これにより、第４図に示すように、硬質クロムメッキ層
２の表面におけるレジスト膜５の非存在部が食刻され、
凹部６・・・６が形成された。この時、各凹部６は断面
形状がＵ形となり、またエツジ部７はショルダー角が比
較的大きいく１００°以上）丸味を有するものどなった
。そして、上記レジストｊｌｌ ５を溶液としてジクロ
ルメタンを用いて溶解除去し、第５図に示す如き中間製
品８を得た。
２の表面におけるレジスト膜５の非存在部が食刻され、
凹部６・・・６が形成された。この時、各凹部６は断面
形状がＵ形となり、またエツジ部７はショルダー角が比
較的大きいく１００°以上）丸味を有するものどなった
。そして、上記レジストｊｌｌ ５を溶液としてジクロ
ルメタンを用いて溶解除去し、第５図に示す如き中間製
品８を得た。
次に、上記のようにして得られた中間製品８を完全に脱
脂洗浄した後、硬質クロムメッキ層２の表面についてイ
オンブレーティング法を用いて気相メッキを行った。こ
の気相メッキは、具体的には第７図に示すような反応性
イオンブレーティング装置を用いて次のようにして行っ
た。即ら、先ず、ワーク（中間製品）８を真空槽２１内
にお【プる基板ホルダ２２に、セットした後、該真空槽
２１内を真空ポンプ２３により１０うＴ ｏｒｒ域まで
排気しながらワーク８を約２００℃に加熱する。次に、
槽２１内に第１導入管２４によってアルゴンガスを導入
し、且つワーク８に一５００Ｖの電圧を印加して約１０
分間イオンボンバードを行う。
脂洗浄した後、硬質クロムメッキ層２の表面についてイ
オンブレーティング法を用いて気相メッキを行った。こ
の気相メッキは、具体的には第７図に示すような反応性
イオンブレーティング装置を用いて次のようにして行っ
た。即ら、先ず、ワーク（中間製品）８を真空槽２１内
にお【プる基板ホルダ２２に、セットした後、該真空槽
２１内を真空ポンプ２３により１０うＴ ｏｒｒ域まで
排気しながらワーク８を約２００℃に加熱する。次に、
槽２１内に第１導入管２４によってアルゴンガスを導入
し、且つワーク８に一５００Ｖの電圧を印加して約１０
分間イオンボンバードを行う。
そして、１−ＩＣＤガン（Ｈｏｌｌｏｗ Ｃａｔｈｏｄ
ｅ Ｄｉｓｃ−ｔ＋ａｒｇｃ Ｅ １ｅｃｔｒｏｎ Ｂ
ｅａｍ Ｇ ｕｎ ：中空熱陰極型電子銃）２５を起
動させて蒸発源のチタン２６を加熱蒸発させると同時に
、反応ガスとして窒素ガスを第２導入管２７から真空槽
２１内に導入し、これにより反応生成物としての窒化チ
タンを上記ワーク８の硬質クロムメッキ層表面に形成さ
せる。
ｅ Ｄｉｓｃ−ｔ＋ａｒｇｃ Ｅ １ｅｃｔｒｏｎ Ｂ
ｅａｍ Ｇ ｕｎ ：中空熱陰極型電子銃）２５を起
動させて蒸発源のチタン２６を加熱蒸発させると同時に
、反応ガスとして窒素ガスを第２導入管２７から真空槽
２１内に導入し、これにより反応生成物としての窒化チ
タンを上記ワーク８の硬質クロムメッキ層表面に形成さ
せる。
（尚、炭化チタン等の炭化物被膜を気相メッキによって
形成する場合は、反応ガスとして上記窒素ガスの代わり
に、アセチレンガスを用いる。）これにより、第６図に
示すように、多数の凹部６・・・６を有する硬質クロム
メッキＮ２の表面に沿って硬質セラミック（窒化チタン
）被膜９が形成され、表面に上記凹部６・・・６に対応
する多数のオイル保す凹部１０・・・］Ｏを有する最終
製品としてのｍ接部材１１が得られた。
形成する場合は、反応ガスとして上記窒素ガスの代わり
に、アセチレンガスを用いる。）これにより、第６図に
示すように、多数の凹部６・・・６を有する硬質クロム
メッキＮ２の表面に沿って硬質セラミック（窒化チタン
）被膜９が形成され、表面に上記凹部６・・・６に対応
する多数のオイル保す凹部１０・・・］Ｏを有する最終
製品としてのｍ接部材１１が得られた。
次に、上記のようにして得られた摺接部材についてのビ
ンディスク式の摩耗試験の結果について説明する。
ンディスク式の摩耗試験の結果について説明する。
ここで、この試験に用いた試験片はディスク状に形成さ
れた合金鋳鉄を基材とし、且っｌ！ＩＰ質クロムクロム
メッキ層０００ホーニング加工されて厚さが５０μ、硬
質セラミック被膜（窒化チタン被ｌ！＞は厚さが２μで
あり、またオイル保持凹部は直径が約１００μ、深さが
１０〜１５μ、開口面積率が１０〜１５％で、・該凹部
の分布パターンは網点タイプである。そして、この試験
片として、硬質クロムメッキ層の電解エツチング時にお
ける電流密度及び電解時間の相違する次の５ＴＩ類の試
験片を用意した。
れた合金鋳鉄を基材とし、且っｌ！ＩＰ質クロムクロム
メッキ層０００ホーニング加工されて厚さが５０μ、硬
質セラミック被膜（窒化チタン被ｌ！＞は厚さが２μで
あり、またオイル保持凹部は直径が約１００μ、深さが
１０〜１５μ、開口面積率が１０〜１５％で、・該凹部
の分布パターンは網点タイプである。そして、この試験
片として、硬質クロムメッキ層の電解エツチング時にお
ける電流密度及び電解時間の相違する次の５ＴＩ類の試
験片を用意した。
（以下 余白〉
第 １ 表
また、試ｌ！Ａ装置は、第８図に示づ−ようにディスク
状試験片（摺接部材）１１を回転軸３１に取付けると共
に、該試験片１１の摺接面１１ａ上にレバー３２を介し
てウェイト３３の！Ｐめが負加されたビン３４を押し付
けるようにしたしのである。
状試験片（摺接部材）１１を回転軸３１に取付けると共
に、該試験片１１の摺接面１１ａ上にレバー３２を介し
てウェイト３３の！Ｐめが負加されたビン３４を押し付
けるようにしたしのである。
このビン３４の寸法は、試験片の半径方向に沿う寸法ａ
が１０１Ｉｌｌ、高されが８ＩＩＩＩ１１、幅Ｃが３ｍ
ｍで、先端が２Ｒの曲面とされており、また材質は合金
ｖＩ＃９Ｎをチル処理したものである。そして、該どン
３４の押付荷重を４．５Ｎｖ、試験片１１の回転周速度
を１０ｍ／秒、試験時間１０分の条件で、無潤滑下で試
験を行った。ここで、無潤滑としたのは、短時間で有意
差を得るためである。
が１０１Ｉｌｌ、高されが８ＩＩＩＩ１１、幅Ｃが３ｍ
ｍで、先端が２Ｒの曲面とされており、また材質は合金
ｖＩ＃９Ｎをチル処理したものである。そして、該どン
３４の押付荷重を４．５Ｎｖ、試験片１１の回転周速度
を１０ｍ／秒、試験時間１０分の条件で、無潤滑下で試
験を行った。ここで、無潤滑としたのは、短時間で有意
差を得るためである。
尚、この試験においては、比較例１〜３として硬質クロ
ムメッキ層の電解エツチング時における電流密度が５０
〜６００Ａ／ｄｍ２の範回に含まれないもの、また、従
来例１．２として電解エツチングにより凹部を形成した
硬質クロムメッキ層のみを有して硬質セラミック被膜を
有しないものについても同じ条件で試験を行った。
ムメッキ層の電解エツチング時における電流密度が５０
〜６００Ａ／ｄｍ２の範回に含まれないもの、また、従
来例１．２として電解エツチングにより凹部を形成した
硬質クロムメッキ層のみを有して硬質セラミック被膜を
有しないものについても同じ条件で試験を行った。
その結果は第２表に示す通りであって、本案実施例に係
る５つの試験片については、いずれもオイル保持凹部の
エツジ部における硬質セラミック被膜の剥離がなく、且
つ該被膜表面における引っかき傷等の損傷度が小さい。
る５つの試験片については、いずれもオイル保持凹部の
エツジ部における硬質セラミック被膜の剥離がなく、且
つ該被膜表面における引っかき傷等の損傷度が小さい。
また相手材（ビン３４）の摩耗量も比較的少量である。
これに対して、Ｉ流密型が小さい比較例１は、メイル保
持凹部のエツジ部におけるショルダー角が大きいので該
エツジ部における剥離はないが、サイドエツチングによ
って四部の開口面積率が大ぎくなっている（約３０％）
ため、相手材との面圧が増大して摩耗が促進されている
。また、電流密度が大きい比較例２．３は、凹部のエツ
ジ部における硬質セラミック被膜の剥離が多く、且つそ
の剥離片によって該被膜表面のｍ傷（アブレイシブ摩耗
）が大ぎくなっている。また、相手材の摩耗も著しい。
持凹部のエツジ部におけるショルダー角が大きいので該
エツジ部における剥離はないが、サイドエツチングによ
って四部の開口面積率が大ぎくなっている（約３０％）
ため、相手材との面圧が増大して摩耗が促進されている
。また、電流密度が大きい比較例２．３は、凹部のエツ
ジ部における硬質セラミック被膜の剥離が多く、且つそ
の剥離片によって該被膜表面のｍ傷（アブレイシブ摩耗
）が大ぎくなっている。また、相手材の摩耗も著しい。
更に、従来例１．２については、硬質セラミック被膜を
有しないので表面硬度が小さく、そのため表面の損傷度
が本案実施例より進行しているど共に、凹部のシャープ
エツジによって相手材の摩耗が促進されている。
有しないので表面硬度が小さく、そのため表面の損傷度
が本案実施例より進行しているど共に、凹部のシャープ
エツジによって相手材の摩耗が促進されている。
（以下 余白）
以上により、硬質クロムメッキ層を５０〜６００Ａ／ｄ
ｍ２の電流密度で電解エツチングしてポーラス化し、且
つ該メッキ層の上に硬質セラミック被膜を設けた本案実
施例のものが、他のものに比較して耐摩耗性に優れてい
ることが判明した。
ｍ２の電流密度で電解エツチングしてポーラス化し、且
つ該メッキ層の上に硬質セラミック被膜を設けた本案実
施例のものが、他のものに比較して耐摩耗性に優れてい
ることが判明した。
尚、硬質メッキ層と窒化ヂタン、炭化ヂタン等の硬質セ
ラミック被膜との間には、硬質セラミック被膜の密着性
を向上させるために、硬質メッキ層及び硬質セラミック
被膜に対して中間の熱膨張率を有し、且つ上記両者と密
着性が良いチタン層を０．５〜１０μ形成してもよい。
ラミック被膜との間には、硬質セラミック被膜の密着性
を向上させるために、硬質メッキ層及び硬質セラミック
被膜に対して中間の熱膨張率を有し、且つ上記両者と密
着性が良いチタン層を０．５〜１０μ形成してもよい。
第１〜６図は本発明製造法の実施例にＪ３ ｋｊる各工
程で得られた製品の要部拡大断面図である。第７図はこ
の実施例で用いられた反応性イオンブレーティング装置
のＭ略崩成図である。第８図はこの実施例で得られた製
品についての摩耗試験に用いた装置の概略構成図である
。第９図ｔａ）〜（Ｃ）は電解エツチング時における電
流密度と凹部の関係を説明するだめの製品の拡大断面図
である。 １・・・金属基材、２・・・硬質メッキ層、５・・・レ
ジスト膜、６１凹部、９・・・硬質セラミック被膜、１
０・・・オイル保持凹部、１１・・・摺接部祠。 出願人 マツダ 株式会社 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 ■ 第６図 第７図 第８ＦＩ！Ｊ
程で得られた製品の要部拡大断面図である。第７図はこ
の実施例で用いられた反応性イオンブレーティング装置
のＭ略崩成図である。第８図はこの実施例で得られた製
品についての摩耗試験に用いた装置の概略構成図である
。第９図ｔａ）〜（Ｃ）は電解エツチング時における電
流密度と凹部の関係を説明するだめの製品の拡大断面図
である。 １・・・金属基材、２・・・硬質メッキ層、５・・・レ
ジスト膜、６１凹部、９・・・硬質セラミック被膜、１
０・・・オイル保持凹部、１１・・・摺接部祠。 出願人 マツダ 株式会社 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 ■ 第６図 第７図 第８ＦＩ！Ｊ
Claims (1)
- （１） 金属基材上に硬質メッキ層を形成し、次に該メ
ッキ層に露光及び現像処理によりマスク用のレジスト膜
を形成した後、５０−６００ Ａ ／ｄ 、２の電流密
度で電解エツチングを施して該メッキ層に多数の凹部を
形成し、更に上記レジスト膜を溶解除去した後、硬質メ
ッキ層にイオンブレーティング又はスパッタリング等の
気相メッキにより硬質セラミック被膜を形成して、多数
のオイル保持凹部を有する摺接部材を（ｑることを特徴
とする耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59110465A JPS60255970A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法 |
| US06/738,433 US4636285A (en) | 1984-05-29 | 1985-05-28 | Method of manufacturing wear resistant sliding member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59110465A JPS60255970A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255970A true JPS60255970A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH0558057B2 JPH0558057B2 (ja) | 1993-08-25 |
Family
ID=14536394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59110465A Granted JPS60255970A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 耐摩耗性に優れた摺接部材の製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4636285A (ja) |
| JP (1) | JPS60255970A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017071838A (ja) * | 2015-10-08 | 2017-04-13 | 地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所 | 複合硬質被膜を有する物品及びその製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3813617C1 (ja) * | 1988-04-22 | 1989-10-05 | Goetze Ag, 5093 Burscheid, De | |
| DE69205762T2 (de) * | 1991-08-08 | 1996-05-02 | Canon Kk | Verfahren zur Herstellung von Rillen auf einer Achse. |
| IT1250214B (it) * | 1991-11-22 | 1995-04-03 | Rivestimento al nitruro di titanio per conchiglie per pistoni. | |
| US5567304A (en) * | 1995-01-03 | 1996-10-22 | Ibm Corporation | Elimination of island formation and contact resistance problems during electroetching of blanket or patterned thin metallic layers on insulating substrate |
| EP0780586B1 (en) * | 1995-12-22 | 2001-11-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Hemispherical fluid bearing |
| US7318847B2 (en) * | 2002-04-25 | 2008-01-15 | Oerlikon Trading Ag, Trubbach | Structured coating system |
| JP4745604B2 (ja) * | 2003-08-07 | 2011-08-10 | ブラザー工業株式会社 | 摺動部品の製造方法及び摺動部品 |
| JP4438936B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2010-03-24 | ブラザー工業株式会社 | 摺動部品の製造方法 |
| JP2005168690A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Brother Ind Ltd | 摺動部品 |
| GB0329034D0 (en) * | 2003-12-15 | 2004-01-14 | Boc Group Plc | Vacuum pumping arrangement |
| KR101039638B1 (ko) * | 2009-08-10 | 2011-06-09 | 휴비트 주식회사 | 치열교정용 브래킷의 표면 코팅 방법 |
| CN110699637B (zh) * | 2019-10-17 | 2021-03-23 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版的制作方法、掩膜版和显示面板的制作方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54130714A (en) * | 1978-03-31 | 1979-10-11 | Mazda Motor Corp | Rotary piston engine |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB661273A (en) * | 1948-03-17 | 1951-11-21 | Monochrome Ltd | Improvements in and relating to the electrolytic treatment of metallic surfaces |
| US3394877A (en) * | 1966-12-15 | 1968-07-30 | Sachwenring Automobilwerke Zwi | Rotary piston engine |
| GB1210988A (en) * | 1968-05-14 | 1970-11-04 | Krebsoege Gmbh Sintermetall | Improvements in rotary piston engines and methods of making them |
| US3608535A (en) * | 1968-11-06 | 1971-09-28 | Outboard Marine Corp | Sealant for wear-resistant coating |
| NL172268C (nl) * | 1972-08-11 | 1983-08-01 | Dornier System Gmbh | Werkwijze voor het aanbrengen van groeven in metalen lichamen. |
| JPS5248711A (en) * | 1975-10-16 | 1977-04-19 | Mazda Motor Corp | Rotary piston engine |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP59110465A patent/JPS60255970A/ja active Granted
-
1985
- 1985-05-28 US US06/738,433 patent/US4636285A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54130714A (en) * | 1978-03-31 | 1979-10-11 | Mazda Motor Corp | Rotary piston engine |
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| JP2017071838A (ja) * | 2015-10-08 | 2017-04-13 | 地方独立行政法人大阪府立産業技術総合研究所 | 複合硬質被膜を有する物品及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0558057B2 (ja) | 1993-08-25 |
| US4636285A (en) | 1987-01-13 |
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