JPH0821302A - ピストンリング - Google Patents

ピストンリング

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JPH0821302A
JPH0821302A JP31889093A JP31889093A JPH0821302A JP H0821302 A JPH0821302 A JP H0821302A JP 31889093 A JP31889093 A JP 31889093A JP 31889093 A JP31889093 A JP 31889093A JP H0821302 A JPH0821302 A JP H0821302A
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JP
Japan
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piston ring
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chromium
crn
chromium nitride
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Katsumi Takiguchi
勝美 滝口
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 クロムめっきを施したピストンリングより
も耐摩耗性が優れたピストンリングを提供する。 【構成】 ピストンリング(1)の上下摺動面に、金
属クロムとCr2 Nからなる母材側からCrNからなる
最外層まで組成が変化する皮膜層(2)を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野)この発明は、耐摩耗性に優れた皮
膜を有する内燃機関用ピストンリングに関する。 (従来技術と問題点)内燃機関のピストンリングは、ピ
ストンの上昇下降の過程において、リング溝内での軸方
向、半径方向及び円周方向の運動を行う。ピストンリン
グの上下面は、リング溝の上下面との間で絶えず摺動を
繰り返し、摩耗する。近年、エンジンの高出力化などの
高性能化に伴い、ピストンリングに要求される条件はま
すます過酷なものとなっている、有鉛ガソリンを使用す
るエンジンでは、燃焼により硬質の鉛化合物が生成さ
れ、ディーゼルエンジンでは、カーボンなどの残渣が生
成される。これらの生成物がリング溝内に堆積し、この
堆積物がリング上下面の摩耗を促進する。従来、リング
上下面の摩耗を防止するために、硬質クロムめっきを施
したものが提案されているが、クロムめっきはリング上
下面に均一な厚さでかつ平坦なめっき層を形成すること
は難しく、めっき後に仕上げ加工を施す必要がある。ま
た、クロムめっき層の高度はHmv800〜1000程
度であり、耐摩耗性が十分でない場合があり、さらに優
れた耐摩耗性を有するピストンリングが望まれている。 (問題を解決するための手段)この発明は、第1図に示
すように、ピストンリングの少なくとも上下摺動面に、
金属クロムとCrN窒化クロムからなるピストンリン
グ母材表面側からCrN窒化クロムからなる最外層ある
いCrN窒化クロムとCrN窒化クロムからなる最外
層まで、窒素の比率が母材表面側から被膜層の表面に向
かって連続的又は断続的に変化している皮膜層が形成さ
れているピストンリングを提供することで問題点を解決
する。 (作用)本発明のピストンリングの皮膜層は、窒化ガス
の存在する減圧雰囲気の中でクロムをターゲット材とし
てスパッタリングを行うことによって得ることができ
る。スパッタリング法は、イオンプレーティング法に比
べて膜厚の制御がやり易く、しかも均一な膜厚が得られ
るなどの利点がある。窒素ガス雰囲気中で、金属クロム
をターゲット材にしてスパッタリングを行うと、ターゲ
ット材のクロムは原子状になり、クロム原子の一部は窒
素と反応して窒化クロムとなる。本発明のような、金属
クロムと窒化クロムからなるピストンリング母材側層は
真空容器内の窒素ガスの分圧を適当に選んで形成するこ
とができる。窒化クロムは、硬質で耐摩耗性に優れてい
るので、最外層の構成物質とする。但し窒化クロムは柔
軟性に欠け、また、熱膨張率もピストンリング母材と異
なるため、運転中に剥離を生ずるおそれがある。金属ク
ロムは、硬度は低いが熱膨張率がピストン母材に近く、
熱応力の影響を受けにくいため、密着性は良く、しかも
柔軟性にも富むため、窒化クロムと適当に混合して母材
側構成物質として剥離防止を図る。また、真空容器内に
窒素ガスを導入する前にスパッタリングを行うと、ピス
トンリング母材に純金属クロム膜が形成される。下地層
が所定の厚さになった所で徐々に窒素ガスを導入してス
パッタリングを続けると、クロムの一部は窒化クロムに
転換する。このようにすると、ピストンリングの母材に
近い方は、密着性の良い金属クロムが形成され皮膜層の
剥離が防止される。摺動面に近い方は耐摩耗性に優れて
いる窒化クロムが多くなる。また、複合皮膜層内の窒化
クロムの量は連続的に増加し、そして遂には全体が窒化
クロムとなる。さらに窒化クロム層の中でも母材から最
も離れた側ではCrNとCrNあるいはCrNからな
る層が生成する。第1表に、母材温度を400℃とし、
種々の窒素ガス分圧でスパッタリングを行ったとき、形
成される皮膜の組織と硬度の関係を示した。窒素ガスの分圧が低いときは転換の割合は少なく、窒素
ガス分圧が次第に高くなるにつれて、金属クロムの代わ
りに単体の窒化クロムが増加し、硬度も大きくなり、さ
らに皮膜層の最表面はCrNとCrNあるいはCrN
からなる層が生成するることがわかる。 (実施例) 実施例1 本発明に使用したマグネトロン型ハイレートスパッタリ
ング装置の概要を第2図に示す。母材1を母材保持具2
で保持し、ヒーター3で母材1を所定の温度に加熱す
る。母材1の上方には、ターゲット源の金属5が設置し
てある。真空容器4の側壁には窒素ガス供給口9とプラ
ズマ用アルゴンガスの導入管8が設けてある。真空容器
4内は図示しない真空ポンプにより減圧されるようにな
っている。真空容器4内にアルゴンガスを導入し1×1
−2torr程度に減圧してボンバードにより、母材
1の表面のクリーニングを行う。次にアルゴンガスを導
入し、1×10−3torr程度に減圧して、スパッタ
リングを開始する。次に窒素ガス供給口9より窒素ガス
を徐々に導入し、スパッタリングを続ける。スパッタリ
ングされたターゲット源の金属5は、容器内の窒素と一
部反応して、母材1に金属窒化物の複合皮膜を形成す
る。呼び径×幅×厚さが、φ77mm×1.5×3.1
のSKD−61材のピストンリングを適当な間隔で並べ
て母材1として、初めは、窒素ガスを導入せずにスパッ
タリングを行って金属クロムの下地層を形成した。2分
経過後から徐々に窒素ガスを導入して以下の条件で反応
性スパッタリングを実施した。 母材温度: 400℃ スパッタ電力:1KW 窒素ガス分圧:0から3.0×10−3torrまで変
化させる アルゴンガス分圧:1×10−3torr ターゲット材:金属クロム 処理時間:10分 母材バイアス:−100V 上記の処理をピストンリングの上下摺動面に行い、厚さ
がそれぞれ6μmであり、最外層がCrNからなる皮膜
層を形成した。 実施例2 窒素ガス分圧を1.5×10−3torrまで変化させ
た他は実施例1と同じ方法を行い最外層がCrNとC
rNからなる皮膜層を形成した。本実施例1、2により
得られたピストンリングと、比較のため、従来の硬質ク
ロムめっきを施したピストンリングを水冷4サイクル4
気筒、1300ccのエンジンに組み込み7500回
転、全負荷で5時間の実機試験を行い、ピストンリング
上下面の摩耗量を測定した。 (発明の効果)測定の結果、本発明によるピストンリン
グは、従来の硬質クロムめっきを施したものに比べて、
摩耗量は約1/5であった。また、スパッタリングによ
り得られた複合皮膜層の表面は平坦で、仕上げ加工は不
要であった。このように、ピストンリング母材表面側が
金属クロムからなり、最外層が窒化クロムからなる皮膜
層を有する本発明のピストンリングは、密着性、耐摩耗
性に優れたピストンリングとして、エンジンの耐久性を
向上させる上で顕著な効果を示すことが理解できる。
【図面の簡単な説明】 第1図に、本発明のピストンリングを示す。 図中 1…ピストンリング 2…複合皮膜層 第2図に、本発明の実施例のマグネトロン型ハイレート
スパッタリング装置の概要を示す。 図中 1…母材(ピストンリング) 2…母材保持具 4…真空容器 5…ターゲット源 6…水冷銅パイプ 7…シャッター 8…アルゴンガス導入口 9…窒素ガス導入口

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)ピストンリングの少なくとも上下摺動面に、金属
    クロムとCrN窒化クロムからなるピストンリング母
    材表面側からCrN窒化クロムからなる最外層まで、窒
    素の比率が母材表面側から前記被膜層の表面に向かって
    連続的又は断続的に変化している皮膜層が形成されてい
    ることを特徴とするピストンリング。 (2)ピストンリングの少なくとも上下摺動面に、金属
    クロムとCrN窒化クロムからなるピストンリング母
    材表面側からCrN窒化クロムとCrN窒化クロムか
    らなる最外層まで、窒素の比率が母材表面側から前記被
    膜層の表面に向かって連続的又は断続的に変化している
    皮膜層が形成されていることを特徴とするピストンリン
    グ。
JP31889093A 1993-11-12 1993-11-12 ピストンリング Expired - Lifetime JP2500147B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006005288A1 (de) * 2004-07-03 2006-01-19 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Verfahren zur erzeugung einer beschichtung auf einem kolbenring sowie kolbenring
JP2007063673A (ja) * 1997-11-06 2007-03-15 Dowa Holdings Co Ltd 窒素含有Cr被膜とその製造方法およびこの被膜を有する機械部材

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007063673A (ja) * 1997-11-06 2007-03-15 Dowa Holdings Co Ltd 窒素含有Cr被膜とその製造方法およびこの被膜を有する機械部材
WO2006005288A1 (de) * 2004-07-03 2006-01-19 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Verfahren zur erzeugung einer beschichtung auf einem kolbenring sowie kolbenring

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JP2500147B2 (ja) 1996-05-29

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