JP2007508280A - 不斉還元反応に有用なオキサザボロリジン由来キラル化合物−ボラン錯体のinsituでの製法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】水素化ホウ素金属、ルイス塩基及び無機酸エステルを接触させた後、光学活性アミノアルコール及び必要に応じてハロゲン化物を添加する。得られる化合物は、不斉還元反応の触媒として有用な錯体である。その反応は、キラルアルコール又はキラルアミンを合成するために還元する基質、特にプロキラルなケトン又はエーテルオキシムを添加することにより行う。
【選択図】なし
Description
Spehar A.et al.,J.Org.Chem.,1969,34(12),pp.3923−3926 Abiko A.及びMasamune S.,Tetrahedron Letters,1992,33(38),pp. 5517−5518 Periasamy M.,ACS Symposium Series,2001,783,pp.65−78
1)以下を、式(I)で定義される水素化ホウ素金属の懸濁液に添加する:
MBH4 (I)
式中:
Mは特にナトリウム、カリウム、リチウム又は亜鉛イオンであり、好ましくはナトリウムイオンである:
R1−A−(R2)n (II)
式中:
R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、置換されていてもよい鎖状若しくは分岐状のアルキル、置換されていてもよいアリール、アルキルアリール又はC4−C7シクロアルキルであるか、あるいは
R1及びR2は、一緒に、C1−C7アルキル鎖、又は、置換されていてもよいC1−C7炭素環を形成し;
nは1又は2に等しく;
Aは窒素、酸素、硫黄又はリン原子である。
R3−X (III)
式中:
Xはスルフォニルオキシエステル基(−OS(O)2OR4)、スルフォネート(−OS(O)R5)又はスルファイト(−OS(O)OR5)であり;
R3、R4及びR5は、同一又は異なって、ハロゲン原子、アリール、複素環、ヘテロアリール、C1−7アルコキシ基、アルキル(C1−7)−チオ基、アルキル(C1−7)−アリール基又はC4−C7シクロアルキルで置換されていてもよい鎖状若しくは分岐状のC1−7アルキルであるか、あるいは
R4及びR5は、一緒に、C1−C7アルキル鎖、又は、置換されていてもよいC1−C7炭素環を形成する。
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8低級アルキル基、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル、又は、C1−15アリールアルキル基、好ましくはベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキルであってメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ型のもので置換されていてもよい;
R8及びR9は、一緒に、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、好ましくはトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
nは0、1、2又は3に等しく;
C1及び/又はC2及び/又はC3は不斉炭素原子である。
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8低級アルキル基、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル、又は、C1−15アリールアルキル基、例えばベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキル、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ型のもので置換されていてもよい;
R6及びR7は、一緒に、置換されていてもよいC1−6アルキレン基、例えばメチレン、ジメチレン、トリメチレン又はテトラメチレンを形成してもよく;
C1及び/又はC2は不斉炭素原子である。
ノレフェドリン(norephedrine);エフェドリン(ephedrine);2−アミノ−1−(2,5−ジメチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2,5−ジメトキシフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2,5−ジエトキシフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2,5−ジプロポキシフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−メトキシフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−エトキシフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−プロポキシフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−メチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(4−メトキシ−2−メチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−エトキシ−5−メチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2,4−ジメチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2,4,6−トリメチルフェニル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(1−ナフチル)−1−プロパノール;2−アミノ−1−(2−ナフチル)−1−プロパノール;2−アミノ−1,2−ジフェニルエタノール;2−アミノ−1,1−ジフェニル−1−プロパノール;2−アミノ−1,1−ジフェニル−3−メチル−1−ブタノール;2−アミノ−1,1−ジフェニル−4−メチル−1−プロパノール;2−アミノ−3−メチル−1−ブタノール;2−アミノ−4−メチル−1−ペンタノール;2−アミノ−1−プロパノール;2−アミノ−3−フェニル−1−プロパノール;2−アミノ−2−フェニル−1−エタノール;2−ピロリジニルメタノール;α,α−ジフェニル−2−ピロリジニルメタノール;2−ピペリジンメタノール;α,α−ジフェニル−2−ピペリジニルメタノール;2−アジリジニルメタノール;α,α−ジフェニル−2−アジリジニルメタノール;2−アゼチジニルメタノール;α,α−ジフェニル−2−アゼチジニルメタノール;2−アミノシクロペンタン−1−オール;2−アミノシクロヘキサン−1−オール;1−アミノインダン−2−オール;3−アミノ−2−ヒドロキシボルナン。
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8低級アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル型のもの、又は、C1−15アリールアルキル基、例えばベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキル、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ型のもので置換されていてもよい;
R8、R11又はR8、R9又はR9、R11は、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、特にトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
C1及び/又はC2及び/又はC3は不斉炭素原子である。
β,β−ジフェニル−2−ピロリジニルエタノール;β,β−ジ(t−ブチル)−2−ピペリジニルエタノール;2−フェニル−4−ヒドロキシ−ピペリジン。
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル基、又は、C1−15アリールアルキル基、特にベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキル、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ基で置換されていてもよい;
R9及びR8は、一緒に、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、例えばトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
C1及び/又はC2及び/又はC3及び/又はC4は不斉炭素原子である。
M1−Y (X)
式中:
Yは、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素等のハロゲン原子であり;
M1は、ナトリウム、カリウム又はリチウムイオン、アンモニウム基及びホスフォニウム基から選択される。
R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12及びnは式(IV)で定義したものであり、C1及び/又はC2及び/又はC3は不斉炭素原子である。
R6、R7、R8、R11、R12並びにC1及び/又はC2は式(IVa)で定義したものである。
C1及び/又はC2は不斉炭素である。
R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は式(IVb)で定義したものであり、C1及び/又はC2及び/又はC3は不斉炭素原子である。
R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14は式(IV)で定義したものであり、C1及び/又はC2及び/又はC3及び/又はC4は不斉炭素原子である。
R15及びR16は異なっており、得られる第二アルコールのキラリティーは、アルコール基を保持する炭素原子によって定義される。
R15及びR16は、還元に不活性で、置換されていてもよい有機基であり、一緒に飽和又は不飽和環を形成してもよい。
アリールケトンとしては:
アセトフェノン;プロピオフェノン;ブチロフェノン;1−アセトナフトン;2−アセトナフトン;o−メトキシアセトフェノン;o−エトキシアセトフェノン;o−プロポキシアセトフェノン;o−ベンジルオキシアセトフェノン;p−tert−ブチルアセトフェノン;2−アセチルピリジン;p−シアノアセトフェノン;フェニルベンジルケトン;フェニルo−トリルメチルケトン;フェニルm−トリルメチルケトン;フェニルp−トリルメチルケトン;2−ブタノン;2−ペンタノン;2−ヘキサノン;2−ヘプタノン;2−オクタノン;シクロヘキシルメチルケトン;シクロヘキシルベンジルケトン;2−クロロアセトフェノン;2−ブロモアセトフェノン;2−ブロモ−3’−クロロアセトフェノン;2−クロロ−3’−クロロアセトフェノン;2−ブロモ−3’−ブロモアセトフェノン;2−ブロモ−3’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−3’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−3’−エチルアセトフェノン;2−ブロモ−3’−プロピルアセトフェノン;2−ブロモ−3’−プロポキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−ブトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−クロロアセトフェノン;2−ブロモ−4’−ブロモアセトフェノン;2−ブロモ−4’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−4’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−4’−エチルアセトフェノン;2−ブロモ−4’−プロピルアセトフェノン;2−ブロモ−4’−ブチルアセトフェノン;2−ブロモ−4’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−プロポキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−ブトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’−クロロアセトフェノン;2−ブロモ−2’−ブロモアセトフェノン;2−ブロモ−2’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−2’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−2’−エチルアセトフェノン;2−ブロモ−2’−プロピルアセトフェノン;2−ブロモ−2’−ブチルアセトフェノン;2−ブロモ−2’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’−プロポキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’−ブトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’−フルオロ−3’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−メトキシ−2’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−2’,3’−ジメトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’−エトキシ−3’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’,3’−ジクロロアセトフェノン;2−ブロモ−2’−ブロモ−3’−クロロアセトフェノン;2−ブロモ−3’−クロロ−2’−フルオロアセトフェノン;シクロペンテノン;1,3−シクロペンタンジオン;シクロヘキセノン;4−シクロペンテン−1,3−ジオン;3−オキソピロリジン;3−オキソピペリジン;3−オキソキヌクリジン(oxoquinuclidine);2−ブロモ−3’−クロロ−2’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−3’−クロロ−2’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−3’−クロロ−2’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−クロロ−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−ブロモ−4’−クロロアセトフェノン;2−ブロモ−2’,4’−ジブロモアセトフェノン;2−ブロモ−2’−ブロモ−4’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−2’−ブロモ−4’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−クロロ−2’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−2’,4’−ジフルオロアセトフェノン;2−ブロモ−4’−クロロ−2’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−2’−フルオロ−4’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−2’−フルオロ−4’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−エトキシ−2’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−4’−クロロ−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−ブロモ−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−フルオロ−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−メチル−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−メトキシ−2’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−2’,4’−ジエトキシアセトフェノン;2−ブロモ−4’−クロロ−3’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−エトキシ−4’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−3’−エトキシ−4’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’,4’−ジエトキシアセトフェノン;2−ブロモ−5’−ブロモ−3’−クロロアセトフェノン;2−ブロモ−3’,5’−ジブロモアセトフェノン;2−ブロモ−5’−ブロモ−3’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−5’−ブロモ−3’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−クロロ−5’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’−ブロモ−5’−エトキシアセトフェノン;2−ブロモ−5’−エトキシ−3’−フルオロアセトフェノン;2−ブロモ−5’−エトキシ−3’−メチルアセトフェノン;2−ブロモ−5’−エトキシ−3’−メトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’,5’−ジメトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’,5’−ジエトキシアセトフェノン;2−ブロモ−3’,5’−ジクロロアセトフェノン;2−ブロモ−3’,5’−ジフルオロアセトフェノン;2−ブロモ−2’,6’−ジクロロアセトフェノン;2−ブロモ−2’,4’,6’−トリクロロアセトフェノン;2−ブロモ−3’,4’,5’−トリクロロアセトフェノン;4−ブロモアセチル−2−メチルチアゾール;4−ブロモアセチル−2−トリフルオロメチルチアゾール;1−ブロモフルオレノン。
アゾリルフェニルケトン;1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1−オン−インダノン;1−シクロヘキシルエタン−1−オン;2−エーテル−1−アリールエタノン;2−(トリオルガノシリル)オキシアルキル;アリールエタノン;2−アシルチオフェン;2−アシルフラン;1−(2−チエニル)−3−クロロプロパノン;1−(2−フラニル)−3−クロロエタノン;1−(2−フラニル)−3−ブロモエタノン。
−式(VI)の化合物を、攪拌下、0.5〜10時間かけてゆっくりと添加する;
−温度は0℃〜75℃である;
−プロキラルなケトンの量は、反応で使用される式(IV)のアミノアルコールよりも10〜1000倍多い。
R17及びR18は異なっており、得られる第二アミンのキラリティーは、アミン基を保持する炭素原子によって定義される。
R17及びR18は還元に不活性なものであり、置換されていてもよい有機基であり、一緒に飽和又は不飽和環を形成してもよい。
R19はアルコキシ、アリールオキシ又はアリールアルコキシである。
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用せず
不斉還元:(R)−DPP20%
窒素下で100mLの四つ口フラスコに、NaBH40.33gを含むTHF5mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)1.44ml及びTHF5mlを添加する。
媒体を5℃に冷却し、硫酸ジメチル(Me2SO4)855μl(1.05当量)を30分かけて滴下する。
反応媒体を20℃で1時間維持する。
(R)−ジフェニルプロリノール0.43gを20ー Cで添加する。
混合物を20℃で1時間維持する。
上記媒体を40℃に加熱する。
3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン1.5gをTHF5gに溶かした溶液を、1時間30分かけてゆっくりと添加する。
導入を終えると、媒体を10℃に冷却する。
水9mLで加水分解し、20℃で1時間攪拌する。
デカンテーションをする。
有機相をリン酸(水5mL中の1.3g)で3回洗浄する。
有機相を水5mLで洗浄する。
有機相を飽和NaHCO3溶液5mLで洗浄する。
最後に有機相を水5mLで洗浄する。
有機相をMgSO4で乾かした後、減圧下、濃縮乾固する。
オレンジ色の油状物を得る。
収率:定量的
エナンチオマー過剰率:93.8%
化学的純度:98%
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用せず
不斉還元:(R)−DPP5%
窒素下で500mLのジャケット付反応器に、NaBH418.9g(0.501モル)を含むTHF200mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)85ml(0.521モル)及びTHF45mlを添加する。
媒体を40℃に加熱する。
硫酸ジメチル(Me2SO4)65.9g(0.521モル)を滴下する。
反応媒体を40℃で45分間維持する。
媒体を32℃に冷却する。
THF15mLに溶かした(R)−ジフェニルプロリノール5.08g(0.02モル)を添加する。
反応媒体を40℃に加熱して30分間攪拌する。
媒体を32℃に冷却する。
3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン70g(0.401モル)を2時間15分かけてゆっくりと添加する。
反応媒体を32℃で45分間攪拌する。
媒体を15℃に冷却し、水390mL中にK2CO389gを含む水溶液で加水分解を行う。
媒体を27℃に加熱して1時間30分攪拌する。
デカンテーションをし、異なる相を分離する。
生成物の相を減圧下、濃縮乾固する。
無色の透明な液状物を得る。
収率:95%
エナンチオマー過剰率:94.5%
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用
不斉還元:(R)−DPP5%
窒素下で500mLのジャケット付反応器に、NaBH411.4g(0.301モル)を含むTHF150mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)50.8ml(0.313モル)を添加する。
媒体を37℃に加熱した後、硫酸ジメチル(DMS)29.6mL(0.313モル)を45分かけて滴下する。
反応媒体を40℃で30分間維持する。
媒体を32℃に冷却し、LiCl1.33g(0.0313モル)を添加する。
反応媒体を30分間攪拌する。
THF55mL中の(R)−ジフェニルプロリノール3.5g(0.012モル)の溶液を添加し、混合物を30分間攪拌する。
3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン42g(0.24モル)を上記媒体(温度:32℃)に1時間かけてゆっくりと添加する。
反応媒体を30分間攪拌する。
反応媒体を室温に冷却し、水233mL中にK2CO353.2gを含む水溶液で加水分解を行う。
媒体を500mLの反応器に移す。
デカンテーションをし、水相を廃棄する。
生成物の相を減圧下、濃縮乾固する。
無色の透明な液状物を得る。
収率:94.5%
エナンチオマー過剰率:94%
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用せず
不斉還元:(R)−DPP1%
窒素下で500mLのジャケット付反応器に、NaBH418.2g(0.481モル)を含むTHF308mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)81.3ml(0.501モル)を添加する。
媒体を37℃に加熱した後、硫酸ジメチル(DMS)47.4mL(0.501モル)を45分かけて添加する。
反応媒体を40℃で30分間維持する。
媒体を32℃に冷却する。
反応媒体を30分間攪拌する。
THF55mL中の(R)−ジフェニルプロリノール1.02g(0.004モル)の溶液を添加し、混合物を30分間攪拌する。
3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン70g(0.401モル)を2時間00分かけてゆっくりと添加する。
反応媒体を40℃で30分間攪拌する。
媒体を20℃に冷却し、水350mL中にK2CO370gを含む水溶液を用いて15℃で加水分解を行う。
THFを70℃で大気圧下、次いで減圧下に除去する。
トルエン280mLを添加し、混合物を30℃に冷却する。
デカンテーションをし、異なる相を分離する。
有機相を水210mLで洗浄する。
デカンテーションをし、異なる相を分離する。
有機相をMgSO4で乾かした後、減圧下で濃縮乾固する。
無色の透明な液状物を得る。
収率:95%
エナンチオマー過剰率:86.1%
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用
不斉還元:(R)−DPP2%
窒素下で500mLのジャケット付反応器に、NaBH418.2g(0.481モル)を含むTHF150mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)81.3ml(0.501モル)を添加する。
媒体を37℃に加熱した後、硫酸ジメチル(DMS)47.4mL(0.501モル)を45分かけて滴下する。
反応媒体を40℃で30分間維持する。
媒体を32℃に冷却し、LiCl3.4g(0.0802モル)を添加する。
反応媒体を30分間攪拌する。
THF55mL中の(R)−ジフェニルプロリノール2.03g(0.018モル)の溶液を添加し、混合物を30分間攪拌する。
3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン70g(0.4モル)を上記媒体(温度:32℃)に1時間かけてゆっくりと添加する。
反応媒体を30分間攪拌する。
反応媒体を室温に冷却し、水388mL中にK2CO388.7gを含む水溶液で加水分解を行う。
媒体を500mLの反応器に移す。
デカンテーションをし、水相を廃棄する。
生成物の相を減圧下、濃縮乾固する。
無色の透明な液状物を得る。
収率:97%
エナンチオマー過剰率:92.3%
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用せず
不斉還元:(R)−DPP2%
窒素下で100mL四つ口フラスコに、NaBH41.82g(0.0481モル)を含むTHF24mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)8.13ml(0.0501モル)を添加する。
媒体を40℃に加熱する。
硫酸ジメチル(Me2SO4)6.32g(0.0501モル)を滴下する。
反応媒体を40℃で45分間維持する。
媒体を32℃に冷却する。
THF4mLに溶かした(R)−ジフェニルプロリノール203.1mg(0.0008モル)を添加する。
反応媒体を40℃に加熱し、30分間攪拌する。
媒体を32℃に冷却する。
この反応工程では、3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン7g(0.0401モル)に対して実施例4と同じ手順を用いる。
無色の透明な液状物を得る。
収率:95%
エナンチオマー過剰率:90.6%
in situでのHCBS−BH 3 錯体の製造:LiClを使用
不斉還元:(R)−DPP1%
窒素下で100mLの四つ口反応器に、NaBH41.82g(0.0481モル)を含むTHF25mlを投入する。
20℃で攪拌下、ジエチルアニリン(DEA)8.13ml(0.0501モル)を添加する。
媒体を40℃に加熱する。
硫酸ジメチル(Me2SO4)6.32g(0.0501モル)を滴下する。
反応媒体を40℃で45分間維持する。
LiCl339.8mg(0.008モル)を反応媒体に添加する。
THF6mLに溶かした(R)−ジフェニルプロリノール203.1mg(0.0008モル)を添加する。
反応媒体を40℃に加熱し、30分間攪拌する。
この還元反応は実施例5と同じ手順を用い、3−クロロ−1−(2−チエニル)プロパノン7g(0.0401モル)に対して40℃で行う。
無色の透明な液状物を得る。
収率:95%
エナンチオマー過剰率:90.9%
各実験の結果を以下の表1にまとめる。
Claims (22)
- 以下の工程からなることを特徴とする、オキサザボロリジン(oxazaborolidine)由来キラル化合物−ボラン錯体をin situで製造する方法:
1)以下を、式(I)で定義される水素化ホウ素金属の懸濁液に添加する:
MBH4 (I)
式中:
Mは特にナトリウム、カリウム、リチウム又は亜鉛イオンであり、好ましくはナトリウムイオンである:
a) 下記一般式(II)のルイス塩基:
R1−A−(R2)n (II)
式中:
R1及びR2は、同一又は異なって、置換されていてもよい鎖状若しくは分岐状のアルキル、置換されていてもよいアリール、アルキルアリール又はC4−C7シクロアルキルであるか、あるいは
R1及びR2は、一緒に、C1−C7アルキル鎖、又は、置換されていてもよいC1−C7炭素環を形成し;
nは1又は2に等しく;
Aは窒素、酸素、硫黄又はリン原子である;及び
b) 下記一般式(III)の無機酸エステル:
R3−X (III)
式中:
Xはスルフォニルオキシエステル基(−OS(O)2OR4)、スルフォネート(−OS(O)R5)又はスルファイト(−OS(O)OR5)であり;
R3、R4及びR5は、同一又は異なって、ハロゲン原子、アリール、複素環、ヘテロアリール、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアリール基又はC4−C7シクロアルキルで置換されていてもよい鎖状若しくは分岐状のアルキルであるか、あるいは、
R4及びR5は、一緒に、C1−C7アルキル鎖、又は、置換されていてもよいC1−C7炭素環を形成する:
2) その後、工程1で得られた生成物に、下記一般式(IV)の光学活性アミノアルコールを添加する:
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8低級アルキル基、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル、又は、C1−15アリールアルキル基、好ましくはベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキルであってメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ型のもので置換されていてもよい;
R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、同一又は異なって、独立して、水素原子、C1−8低級アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル型のもの、C6−12アリール基、特にフェニル、1−ナフチル若しくは2−ナフチル型のもの、又は、C7−12アリールアルキル基、特にベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジル型のもの、等の有機基であり、R6とR7が異なる場合には、前記アリール又はアリールアルキル基はC1−5アルキル又は上述したようなで置換されていてもよい;
R6及びR7、又は、R7及びR11、又は、R8及びR9、又は、R10及びR11は、一緒に、置換されていてもよいC3−6低級アルキレン基、好ましくはメチレン、ジメチレン、トリメチレン又はテトラメチレン基を形成してもよく;
R8及びR9は、一緒に、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、好ましくはトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
nは0、1、2又は3に等しく;
C1及び/又はC2及び/又はC3は不斉炭素原子である。 - 式(II)の前記化合物が、鎖状若しくは環状エーテル、好ましくはテトラヒドロフラン若しくはテトラヒドロピラン;第二若しくは第三アミン、好ましくはN,N−ジメチルアミン、N,N−ジエチルアミン、アニリン、N,N−ジエチルアニリン若しくはN−エチル−N−イソプロピルアニリン;鎖状若しくは環状チオエーテル、好ましくはジメチルスルフィド;アミノエーテル、好ましくはモルホリン;又は、ホスフィン、好ましくはトリフェニルホスフィンであり、式(II)の化合物は特に好ましくはN,N−ジエチルアニリン(DEA)である、請求項1記載の方法。
- 一般式(III)の前記化合物は、硫酸ジアルキル、硫酸ビスアリールオキシアルキルエステル、ビスアルコキシスルフォニルオキシアルカン、ジオキサチオランジオキサイド、特に好ましくは硫酸ジメチル(Me2SO4)である、請求項1又は2記載の方法。
- ルイス塩基及び無機エステルの量は、水素化ホウ素金属に対して1〜2当量である、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法。
- 工程1)において化合物(I)、(II)及び(III)を順序にかかわらず0℃〜75℃の温度で接触させ、得られた反応媒体を0.5〜4時間のあいだ室温で攪拌する、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法。
- 工程2)において、以下を、工程1)で得られた生成物に添加する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法:
式(X)で定義されるハロゲン化物:
M1−Y (X)
式中:
M1は、ナトリウム、カリウム又はリチウムイオン、アンモニウム基及びホスフォニウム基から選択され;
Yは、塩素、臭素、フッ素又はヨウ素等のハロゲン原子である;
及び、次いで、式(IV)の光学活性アミノアルコール。 - M1は、テトラアルキルアンモニウム、ピリジニウム、アルキルピペリジニウム、アルキルピペラジニウム、アルキルピロリジニウム及びテトラアルキルアニリニウム基から選択されるアンモニウム基である、請求項6記載の方法。
- M1は、アリールホスフォニウム及びアルキルアリールホスフォニウム基から選択されるホスフォニウム基である、請求項6記載の方法。
- 式(X)のハロゲン化物は塩化リウチムである、請求項6記載の方法。
- nがゼロに等しい場合に、式(IV)の化合物が、より好ましくは一般式(IVa)に該当するものである、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法:
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8低級アルキル基、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル、又は、C1−15アリールアルキル基、例えばベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキル、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ型のもので置換されていてもよい;
R7、R8及びR11は、同一又は異なって、独立して、水素原子、C1−8低級アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル型のもの、C6−12アリール基、例えばフェニル、1−ナフチル若しくは2−ナフチル、又は、C7−12アリールアルキル基、好ましくはベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、R7とR8が異なる場合には、前記アリール又はアリールアルキル基は置換されていてもよい;
R6及びR7は、一緒に、置換されていてもよいC1−6アルキレン基、例えばメチレン、ジメチレン、トリメチレン又はテトラメチレンを形成してもよく;
R8及びR11は、一緒に、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、例えばトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
C1及び/又はC2は不斉炭素原子である。 - 式(IVa)の前記光学活性体が、(S)−又は(R)−β,β−ジフェニル−2−ピロリジニルメタノールである、請求項10記載の方法。
- nが1に等しい場合に、式(IV)の化合物が、より好ましくは一般式(IVb)に該当するものである、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法:
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8低級アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル型のもの、又は、C1−15アリールアルキル基、例えばベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキル、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ型のもので置換されていてもよい;
R6、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、同一又は異なって、独立して、水素原子、C1−8低級アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル型のもの、C6−12アリール基、特にフェニル、1−ナフチル若しくは2−ナフチル、又は、C7−12アリールアルキル基、特にベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、R7とR8が異なる場合には、前記アリール又はアリールアルキル基は置換されていてもよい;
R6及びR7は、一緒に、置換されていてもよいC3−6低級アルキレン基、好ましくはメチレン、ジメチレン、トリメチレン又はテトラメチレンを形成してもよく;
R8、R11又はR8、R9又はR9、R11は、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、特にトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
C1及び/又はC2及び/又はC3は不斉炭素原子である。 - 式(IVb)の前記光学活性体が、(S)−若しくは(R)−β,β−ジフェニル−2−ピロリジニルエタノール、(S)−若しくは(R)−β,β−ジ(t−ブチル)−2−ピペリジニルエタノール、又は、(S)−若しくは(R)−2−フェニル−4−ヒドロキシ−ピペリジンである、請求項12記載の方法。
- nが2に等しい場合に、式(V)の化合物が、より好ましくは一般式(IVc)に該当するものである、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法:
R6は、水素原子、鎖状若しくは分岐状のC1−8アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル基、又は、C1−15アリールアルキル基、特にベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、これらは、C1−5アルコキシ又はアルキル、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はペントキシ基で置換されていてもよい;
R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14は、同一又は異なって、独立して、水素原子、C1−8低級アルキル基、特にメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル若しくはペンチル基、C6−12アリール基、特にフェニル、1−ナフチル若しくは2−ナフチル基、又は、C7−12アリールアルキル基、例えばベンジル、フェニルエチル若しくはメチルベンジルであり、R7とR8が異なる場合には、前記アリール又はアリールアルキル基はC1−5アルキル又は上述したようなで置換されていてもよい;
R6及びR7は、一緒に、置換されていてもよいC3−6低級アルキレン基、特にメチレン、ジメチレン、トリメチレン又はテトラメチレン基を形成してもよく;
R9及びR8は、一緒に、ベンゼン環で置換又は縮合されていてもよいアルキレン基、例えばトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、o−フェニレンメチレン又はo−フェニレンジメチレンを形成してもよく;
C1及び/又はC2及び/又はC3及び/又はC4は不斉炭素原子である。 - 反応で使用される式(IV)の化合物の量は、水素化ホウ素金属に対して0.005〜0.2当量である、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法。
- 式(IV)の化合物は光学活性なα,α−ジフェニルピロリジン−2−イルメタノールである、先行する請求項のうちいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1〜16のいずれか1項に記載の錯体のin situでの製造に続いて、還元するケトンの導入を含むことを特徴とする、キラルアルコールの合成方法。
- 式(VI)の化合物の不斉還元は、以下の操作条件下で行う、請求項17〜19のいずれか1項に記載の方法:
−式(VI)の化合物を、攪拌下、0.5〜10時間かけてゆっくりと添加する;
−温度は0℃〜75℃である;
−プロキラルなケトンの量は、反応で使用される式(IV)のアミノアルコールよりも10〜1000倍多い。 - 式(VI)の化合物は1−(2−チエニル)−3−クロロプロパノンであり、光学活性化合物α,α−ジフェニルピロリジン−2−イルメタノールよりも50〜100倍多い量で添加される、請求項20記載の方法。
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