JP2007507894A - 正孔輸送領域内の金属副層 - Google Patents
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Abstract
Description
a)アノードと、
b)アノードの上に配置され、少なくとも1つの正孔輸送材料を含む正孔輸送領域と、
c)正孔輸送領域内に配置され、元素の周期律表の第4族〜第16族から選択された少なくとも1つの金属を含み、該選択された金属が4.0eVより高い仕事関数を有する金属副層と、
d)正孔輸送領域に接触して形成され、正孔−電子の再結合に応答して光を生じる発光層と、
e)発光層の上に配置された電子輸送層と、
f)電子輸送層の上に配置されたカソードとを備える有機電場発光デバイスによって達成される。
上記のように、多層HTLまたはドープHTL(またはドープHIL)は実質上発光効率を改善することができるが、デバイス寿命を劣化させることがある。しかし、HTR内に高仕事関数金属(高仕事関数とは、仕事関数が4.0eVより高いことを意味する)の単一層を挿入することによって、安定動作を損なうことなく発光効率を改善できることが判明した。金属をHTL上に蒸着する場合、有機層と金属層との両方で電荷移動が発生することがあると考える。この電荷移動の結果、表面領域上の有機層の(真空エネルギーレベルから離れる)Ipのダウンシフトが生じる。次のHTLを表面上の金属層の単一層を有する以前のHTLの上部に蒸着すると、それに応じて2つのHTLの間に正孔注入障壁が形成される。この正孔注入障壁の高さは、2つのHTLの間の金属の仕事関数と、HTL中の有機材料の電子構造とに応じて、1eVを越える値から0.1eV未満の値の範囲内をとりうる。高仕事関数金属の単一層を2つのHTLの間に蒸着すると、0.4eV未満の障壁高さの正孔注入障壁を形成することができる。同じ正孔輸送材料を有する2つのHTLの間に0.4eV未満の正孔注入障壁を形成することによって、デバイスの安定動作を損なうことなく、正孔注入を減速し発光効率を増大することができる。図3Bに、図3AのHTR中に金属副層を有するOLEDの対応する電子エネルギーバンド図を示す。
本発明のOLEDは通常支持基板の上に提供され、そこではカソードまたはアノードの何れが基板に接触してもよい。基板に接触する電極を従来ボトム電極と呼ぶ。従来、ボトム電極はアノードであるが、本発明はその構成に制限されない。基板は、光放射の目指す方向に応じて光透過性または不透明の何れかでよい。光透過特性は、基板を通じてEL放射を見るため望ましい。透明なガラスまたはプラスチックは一般にこうした場合に利用する。トップ電極を通じてEL放射を見る適用業務の場合、ボトム支持体の透過特性は重要でないので、光透過性、光吸収性または光反射性でよい。この場合使用する電極は、ガラス、プラスチック、半導体材料、シリコン、セラミックス、及び回路基板材料を含むが、これらに制限されない。もちろん、こうしたデバイス構成では、光透過性トップ電極を提供することが必要である。
EL放射をアノード120を通じて見る場合、アノードは対象放射に対して透明または実質上透明であるべきである。本発明で使用する一般的な透明アノード材料はインジウム−スズ酸化物(ITO)、インジウム−亜鉛酸化物(IZO)及びスズ酸化物であるが、アルミニウムまたはインジウムでドープした亜鉛酸化物、マグネシウム−インジウム酸化物、及びニッケル−タングステン酸化物を含むがこれらに制限されない他の金属酸化物も使用できる。こうした酸化物に加えて、窒化ガリウムのような金属窒化物、セレン化亜鉛のような金属セレン化物、及び硫化亜鉛のような金属硫化物をアノードとして使用してもよい。EL放射をカソード電極だけを通じて見る適用業務では、アノードの透過特性は重要でないので、透明、不透明または反射性であるかにかかわらず、任意の導電性材料を使用してよい。この適用業務のための導体の例は、金、イリジウム、モリブデン、パラジウム、及びプラチナを含むが、これらに制限されない。透過性または他の、通常のアノード材料は、4.0eVより高いエネルギーで機能する用途を有する。望ましいアノード材料は一般に、気化、スパッタリング、化学蒸着、または電気化学手段といった何らかの適切な手段によって蒸着する。アノードは周知のフォトリソグラフィ処理を使用してパターン化してもよい。必要に応じて、他の層を蒸着する前にアノードを研磨し、表面粗度を減らして電気的短絡を最小化し又は反射率を向上してもよい。
HTR131中には少なくとも2つのHTLが存在する。好適には、2つのHTLは同じ正孔輸送材料を含む。各HTLは、芳香族第三級アミンのような少なくとも1つの正孔輸送化合物を含むが、ここで芳香族第三級アミンとは、少なくとも1つが芳香環の要素である炭素原子にだけ結合する少なくとも1つの三価窒素原子を含む化合物であると理解されている。1つの形態では、芳香族第三級アミンは、モノアリールアミン、ジアリールアミン、トリアリールアミン、またはポリマーアリールアミンといったアリールアミンでもよい。モノマートリアリールアミンの例は、米国特許第3,180,730号で、クリュプフェル(Klupfel)他によって例示されている。1つかそれ以上のビニル基によって置換され、かつ/または少なくとも1つの活性水素を含む基を備える他の適切なトリアリールアミンは、米国特許3,567,450号及び第3,658,520号でブラントリー(Brantly)他によって開示されている。
1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン
1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン
4,4’−ビス(ジフェニルアミノ)クアドリフェニル
ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)−フェニルメタン
N,N,N−トリ(p−トリル)アミン
4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−[4(ジ−p−トリルアミノ)−スチリル]スチルベン
N,N,N’,N’−テトラ−p−トリル−4−4’−ジアミノビフェニル
N,N,N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノビフェニル
N,N,N’,N’−テトラ−1−ナフチル−4,4’−ジアミノビフェニル
N,N,N’,N’−テトラ−2−ナフチル−4,4’−ジアミノビフェニル
N−フェニルカルバゾール
4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−(2−ナフチル)アミノ]ビフェニル
4,4”−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]p−テルフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(3−アセナフテニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
1,5−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ナフタレン
4,4’−ビス[N−(9−アンスリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4”−ビス[N−(1−アンスリル)−N−フェニルアミノ]−p−テルフェニル
4,4’−ビス[N−(2−フェナンスリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(8−フルオランテニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ピレニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ナフタセニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ペリレニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(1−コロレニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
2,6−ビス(ジ−p−トリルアミノ)ナフタレン
2,6−ビス[ジ−(1−ナフチル)アミノ]ナフタレン
2,6−ビス[N−(1−ナフチル)−N−(2−ナフチル)アミノ]ナフタレン
N,N,N’,N’−テトラ(2−ナフチル)−4−4”−ジアミノ−p−テルフェニル
4,4’−ビス{N−フェニル−N−[4−(1−ナフチル)−フェニル]アミノ}ビフェニル
4,4’−ビス「N−フェニル−N−(2−ピレニル)アミノ]ビフェニル
2,6−ビス[N,N−ジ(2−ナフチル)アミン]フルオレン
1,5−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ナフタレン
4,4’,4”−トリス[(3−メチルフェニル)フェニルアミノ]トリフェニルアニン
米国特許第4,769,292号及び第5,935,721号にさらに十分に記載されているように、OLED300中のLEL134は、この領域での電子−正孔の再結合の結果として電場発光が生じる発光または蛍光材料を含む。LELは単一の材料から構成してよいが、より一般的には、光放射が主としてドーパントから生じ任意の色でよい、ゲスト化合物(単数または複数)でドープしたホスト材料からなる。LEL中のホスト材料は、電子輸送材料、正孔輸送材料、または正孔−電子の再結合をサポートする別の材料または材料の組み合わせでもよい。ドーパントは普通高蛍光性染料から選択するが、例えば、国際公開第98/55561号、第00/18851号、第00/57676号、及び第00/70655号に記載のような遷移金属複合体のような燐光材料も有用である。通常、ホスト材料中に0.01〜10重量%のドーパントをコーティングする。例えばポリ(p−フェニレンビニレン)、PPVのようなポリフルオレン及びポリビニルアリーレンといったポリマー材料をホスト材料として使用してもよい。この場合、分子の小さいドーパントをポリマーのホスト中に分子分散してもよく、また少ない方の成分をホストのポリマー中に共重合することによってドーパントを追加してもよい。
CO−1:アルミニウムトリスオキシン[別名、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)]
CO−2:マグネシウムビスオキシン[別名、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム(II)]
CO−3:ビス[ベンゾ{f}−8−キノリノラト]亜鉛(II)
CO−4:ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)
CO−5:インジウムトリスオキシン[別名、トリス(8−キノリノラト)インジウム]
CO−6:アルミニウムトリス(5−メチルオキシン)[別名、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)]
CO−7:リチウムオキシン[別名、(8−キノリノラト)リチウム(I)]
CO−8:ガリウムオキシン[別名、トリス(8−キノリノラト)ガリウム(III)]
CO−9:ジルコニウムオキシン[別名、テトラ(8−キノリノラト)ジルコニウム(IV)]
本発明のOLED中のETLを形成する際使用する好適な薄膜形成材料は、一般に8−キノリノールまたは8−ヒドロキシキノリンとも呼ばれる、オキシン自体のキレートを含む金属キレート化オキシノイド化合物である。こうした化合物は電子の注入及び輸送を助け、高いレベルの性能を示し、容易に蒸着して薄膜を形成する。オキノイド化合物の例は以下である。
CO−1:アルミニウムトリスオキシン[別名、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)]
CO−2:マグネシウムビスオキシン[別名、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム(II)]
CO−3:ビス[ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜鉛(II)
CO−4:ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)
CO−5:インジウムトリスオキシン[別名、トリス(8−キノリノラト)インジウム]
CO−6:アルミニウムトリス(5−メチルオキシン)[別名、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)]
CO−7:リチウムオキシン[別名、(8−キノリノラト)リチウム(I)]
CO−8:ガリウムオキシン[別名、トリス(8−キノリノラト)ガリウム(III)]
CO−9:ジルコニウムオキシン[別名、テトラ(8−キノリノラト)ジルコニウム(IV)]
必ずしも必要ではないが、カソード140に接触するEILを提供するのが有用であることが多い。米国特許第6,013,384号に記載のように、EILは、ETLへの電子の注入を促進し、導電率を増大する役目を果たすことができ、結果としてOLEDの駆動電圧を下げることができる。EIL中で使用する適切な材料は、強還元剤をドーパントとして有するか、または低仕事関数金属(<3.0eV)をドーパントとして有し、n型ドープ有機層を形成する上記のETLである。n型ドープ有機層とは、層が導電性であり、電荷担体が主として電子であることを意味する。ドーパント材料からホスト材料への電子移動の結果である電荷移動錯体の形成によって導電性が提供される。代替無機電子注入材料もOLED中のEILを形成するため有用なことがある。無機EILは好適には、米国特許第5,677,572号に記載のような0.5〜1nmのLiF層といった低仕事関数金属または金属塩を含む。
光放射をアノードを通じてだけ見る場合、本発明で使用するカソード140はほぼあらゆる導電性材料から構成されるものでよい。望ましい材料は下にある有機層との良好な接触を保証する良好な膜形成特性を有し、低電圧での電子の注入を促進し、良好な安定性を有する。有用なカソード材料は低仕事関数金属(<4.0eV)または金属合金を含むことが多い。米国特許第4,885,221号に記載のように、1つの好適なカソード材料はMg:Ag合金から構成され、その際銀の割合は、米国特許第4,885,221号に記載のように1〜20%の範囲内である。カソード材料の別の適切な種類は、導電性金属の厚い層で上部を覆った有機層(例えば、ETL)に接触する(上記のような)薄い無機EILを備える二重層を含む。無機EILが好適には低仕事関数金属または金属塩を含む場合、厚い方の覆いとなる層は低仕事関数を有する必要はない。1つのこうしたカソードは、米国特許5,677,572号に記載のような、LiFの薄い層にAlの厚い層が続くものを含む。他の有用なカソード材料の組み合わせは、米国特許第5,059,861号、第5,059,862号、及び第6,140,763号に記載のものを含むが、これらに制限されない。
場合によっては、有機ELユニット中のLEL及びETLを必要に応じて、発光及び電子輸送の両方をサポートする機能を果たす単一層に一体化してもよく、有機EILを、電子注入及び電子輸送の両方をサポートする機能を果たすETLと呼んでもよい。また、当業技術分野では、放射ドーパントをHTLに追加してもよく、このHTLはホストの役目を果たしてもよいことが知られている。例えば、青色及び黄色の放射材料、シアン及び赤色の放射材料、または赤色、緑色、及び青色の放射材料を結合することによって白色放射OLEDを形成するため、多数のドーパントを1つかそれ以上の層に追加してもよい。白色放射デバイスは、例えば、米国特許出願第2002/0025419A1号、米国特許第5,683,823号、米国特許第5,503,910号、第5,405,709号、第5,283,182号、欧州特許第1 187 235号、及び第1 182 244号に記載されている。
上記で言及した有機材料は熱気化のような気相法を通じて適切に蒸着されるが、膜形成を改善するため、例えば必要に応じてバインダを加えた溶剤のような流体から蒸着してもよい。材料がポリマーである場合、溶剤蒸着は有用であるが、スパッタリングまたはドナーシートからの熱転写といった他の方法を使用してもよい。熱気化によって蒸着される材料は、例えば米国特許第6,237,529号に記載のようなタンタル材料から構成されることの多い気化「ボート」から気化してもよく、またまずドナーシートにコーティングしてから基板の近くで昇華させてもよい。材料が混合物である層は別個の気化ボートを利用してもよく、また材料を予備混合して単一のボートまたはドナーシートからコーティングしてもよい。フルカラーディスプレイの場合、LELの画素化が必要なことがある。このLELの画素化蒸着は、シャドーマスク、一体型シャドーマスク(米国特許第5,294,870号)、ドナーシートからの空間的に定義された熱染料転写(米国特許第5,688,551号、第5,851,709号、及び第6,066,357号)、及びインクジェット法(米国特許第6,066,357号)を使用して達成してもよい。
大部分のOLEDは湿気または酸素、またはそれらの両方の影響を受けやすいので、一般に、アルミナ、ボーキサイト、硫酸カルシウム、粘土、シリカゲル、ゼオライト、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫化物、または金属ハロゲン化物、及び過塩素酸塩といった乾燥剤と共に、窒素またはアルゴンといった不活性雰囲気中に密閉する。カプセル化及び乾燥の方法は、米国特許第6,226,890号に記載のものを含むが、これらに制限されない。さらに、カプセル化のためのSiOx、テフロン(登録商標)、及び交互の無機/ポリマー層といった障壁層も当業技術分野で周知である。
本発明のOLEDデバイスは、望ましい場合その特性を向上するため様々な周知の光学作用を利用してもよい。これは、光透過を最大にするため層厚さを最適化すること、誘電体ミラー構造を提供すること、反射性電極を光吸収性電極によって置き換えること、ディスプレイの上に防眩性または反射防止性コーティングを提供すること、ディスプレイの上に偏光媒体を提供すること、またはディスプレイの上に着色、中性、または色変換フィルタを提供することを含む。フィルタ、偏光体、及び防眩性または反射防止性コーティングは特に、カバーの上またはカバーの一部として提供してもよい。
ITO:インジウム−スズ酸化物:ガラス基板上に透明なアノードを形成する際使用する。
CFx:ポリマー化フルオロカーボン層:ITOの上部に正孔注入層を形成する際使用する。
CuPc:銅フタロシアニン:正孔輸送領域で正孔輸送層(または正孔注入層と呼ぶ)を形成する際使用する。
NPB:N,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン:正孔輸送層を形成する際使用する。
TPD:4,4’−ビス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)ビフェニル:正孔輸送層を形成する際使用する。
Alq:トリス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(III):電子輸送層を形成する際、または正孔輸送領域中の有機副層を形成する際使用する。
TBADN:2−(1,1−ジメチエチル)−9,10−ビス(2−ナフタレニル)アントラセン:発光層を形成する際ホスト材料として使用する、また正孔輸送領域中の有機副層を形成する際使用する。
TBP:2,5,8,11−テトラ−t−ブチルペリレン:発光層中のドーパント材料として使用する。
Li:リチウム:正孔輸送領域中の金属副層を形成する際使用する、また電子輸送特性を改善するためETL中のドーパントとして使用する。
Ag:銀:HTR中の金属副層を形成する際またはマグネシウムを備えるカソードを形成する際使用する。
Mg:Ag:体積比10:0.5のマグネシウム:銀:カソードを形成する際使用する。
従来のOLEDの準備は以下の通りである。透明なITO導電層でコーティングした〜1.1mm厚のガラス基板を市販のガラス洗浄工具を使用して清掃及び乾燥した。ITOの厚さは約42nmであり、ITOのシート抵抗は約68Ω/スクエアである。次いで、ITOの表面を酸化性プラズマで処理し、表面をアノードとして調整した。RFプラズマ処理チャンバ内でCHF3ガスを分解することによって、1nm厚のCFxの層を、清掃したITOの表面にHILとして蒸着した。そして、基板を真空蒸着チャンバ(TROVATO MFG.INC)内に移動し、基板の上部に他の全ての層を蒸着した。約10-6トールの真空下で加熱したボートから気化することによって、以下の層を以下の順序で蒸着した。
(1)HTR、75nm厚、NPBからなる1つのみのHTLを有する。
(2)LEL、20nm厚、Alqからなる。
(3)ETL、40nm厚、同様にAlqからなる。
(4)カソード、約210nm厚、Mg:Agからなる。
OLEDを、75nm厚のHTRが、1つが37.5nm厚のNPB層からなるHTL1であり、もう1つが37.5nm厚のTPD層からなるHTL2である2つのHTLによって置き換えられるステップ1以外は例1に記載した方法で構成した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(37.5)/TPD(37.5)/Alq(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表1に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT70(70℃)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図4に示す。
OLEDを、75nm厚のHTRが、1つが25nmのCuPc層からなるHTL1であり、1つが25nm厚のNPB層からなるHTL2であり、もう1つが25nm厚のTPD層からなるHTL3である3つのHTLによって置き換えられるステップ1以外は例1に記載した方法で構成した。完成したデバイス構造をITO/CFx/CuPc(25)NPB(25)/TPD(25)/Alq(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表1に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT70(70℃)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図4に示す。
OLEDを、HTRの厚さが75nmから100nmに変更されるステップ1と、LELが2容量%のTBPでドープした20nm厚のTBADNによって置き換えられるステップ2以外は例1に記載した方法で構成した。このデバイスは、電気的に駆動されると青色を放射する。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(100)/TBADN:TBP(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表2に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT70(70℃)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図5に示す。
OLEDを、100nm厚のHTRが、1つが50nm厚のNPB層からなるHTL1であり、1つが2nm厚のTBDAN層からなる有機副層であり、もう1つが50nm厚のNPB層からなるHTL2である3つの層によって置き換えられるステップ1以外は例1に記載した方法で構成した。別言すれば、2nm厚のTBADN有機副層をNPB材料からなるHTR中に挿入した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(50)/TBADN(2)/NPB(50)/TBADN:TBP(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表2に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT70(70℃)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図5に示す。
OLEDを、100nm厚のHTRが、1つが50nm厚のNPB層からなるHTL1であり、1つが2nm厚のAlq層からなる有機副層であり、もう1つが50nm厚のNPB層からなるHTL2である3つの層によって置き換えられるステップ1以外は例1に記載した方法で構成した。別言すれば、2nm厚のAlq有機副層をNPB材料からなるHTR中に挿入した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(50)/Alq(2)/NPB(50)/TBADN:TBP(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表2に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT70(70℃)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図5に示す。
別の従来のOLEDを例1に記載の方法で構成した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(75)/Alq(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表3に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT90(RT)(室温で試験した90%輝度残存時間)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図4に示す。
OLEDを、75nm厚のHTRが、1つが55nm厚のNPB層からなるHTL1であり、1つが0.05nm厚のLiからなる金属副層であり、もう1つが20nm厚のNPB層からなるHTL2である3つの層によって置き換えられるステップ1以外は例1に記載した方法で構成した。別言すれば、0.05nm厚のLi副層をNPB材料からなるHTR中に挿入した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(55)/Li(0.05)/NPB(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表3に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT90(RT)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図6に示す。
OLEDを、75nm厚のHTRが、1つが55nm厚のNPB層からなるHTL1であり、1つが0.05nm厚のAgからなる金属副層であり、もう1つが20nm厚のNPB層からなるHTL2である3つの層によって置き換えられるステップ1以外は例1に記載した方法で構成した。別言すれば、0.05nm厚のAg副層をNPB材料からなるHTR中に挿入した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(55)/Ag(0.05)/NPB(20)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表3に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT90(RT)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図6に示す。
OLEDを、LELの厚さが20nmから25nmに変更されるステップ2と、ETLが、導電率を改善するため1.2容量%のLiでドープした35nm厚のAlqによって置き換えられるステップ3以外は例7に記載した方法で構成した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(75)/Alq(25)/Alq:Li(35)/Mg:Agとして示す。表4に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT90(RT)(室温で試験した90%輝度残存時間)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図7に示す。
OLEDを、75nm厚のHTRが、1つが70nm厚のNPB層からなるHTL1であり、1つが0.05nm厚のAgからなる金属副層であり、もう1つが5nm厚のNPB層からなるHTL2である3つの層によって置き換えられるステップ1以外は例10に記載した方法で構成した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(70)/Ag(0.05)/NPB(5)/Alq(25)/Alq:Li(35)/Mg:Agとして示す。表4に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT90(RT)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図7に示す。
OLEDを、75nm厚のHTRが、1つが65nm厚のNPB層からなるHTL1であり、1つが0.05nm厚のAgからなる金属副層であり、もう1つが10nm厚のNPB層からなるHTL2である3つの層によって置き換えられるステップ1以外は例10に記載した方法で構成した。完成したデバイス構造をITO/CFx/NPB(65)/Ag(0.05)/NPB(10)/Alq(40)/Mg:Agとして示す。表4に、デバイスを20mA/cm2の電流密度で測定した時のデバイスのEL性能、すなわち駆動電圧、輝度、発光効率、電力効率、CIEx、CIEy、及びT90(RT)を示す。正規化輝度と動作時間との関係を図7に示す。
200 多層HTLを有するOLED(先行技術)
300 OLED(本発明)
120 アノード
131 正孔輸送領域、HTR
131.1 第1の正孔輸送層、HTL1
131.2 第2の正孔輸送層、HTL2
131.n 第nの正孔輸送層、HTLn
134 発光層、LEL
138 電子輸送層、ETL
140 カソード
332 金属副層
Claims (11)
- 有機電場発光デバイスであって、
a)アノードと、
b)前記アノードの上に配置され、少なくとも1つの正孔輸送材料を含む正孔輸送領域と、
c)前記正孔輸送領域内に配置され、元素の周期律表の第4族〜第16族から選択された少なくとも1つの金属を含み、該選択された金属が4.0eVより高い仕事関数を有する金属副層と、
d)前記正孔輸送領域に接触して形成され、正孔−電子の再結合に応答して光を生じる発光層と、
e)前記発光層の上に配置された電子輸送層と、
f)前記電子輸送層の上に配置されたカソードとを備える有機電場発光デバイス。 - 前記金属副層の厚さが10nm未満である、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記金属副層の厚さが1nm未満である、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記金属副層と前記発光層との間の距離が2nm〜30nmの範囲内である、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記金属副層と前記発光層との間の距離が5nm〜20nmの範囲内である、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記金属副層が、Al、Ti、V、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、AuまたはPbを含む少なくとも1つの金属を含む、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記金属副層が、Al、Ni、Cu、Zn、Ga、Mo、Pd、Ag、In、Sn、PtまたはAuを含む少なくとも1つの金属を含む、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記金属副層が、Al、Cu、Ag、またはAuを含む少なくとも1つの金属を含む、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記正孔輸送領域が、芳香族第三級アミンを含む少なくとも1つの正孔輸送材料を含む、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記正孔輸送領域が、多環式芳香族化合物を含む少なくとも1つの正孔輸送材料を含む、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
- 前記正孔輸送領域が、NPBまたはTNBから選択される少なくとも1つの正孔輸送材料を含む、請求項1に記載の有機電場発光デバイス。
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