JP2007502363A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 片面または両面に緻密で硬質の耐摩耗性被膜を備えた被膜付き鋼ストリップにおいて、
   上記被膜は上記鋼ストリップ下地の表面に直接形成されており、該被膜の厚さは全厚で２５μｍ以下、該被膜の硬さは６００ＨＶ以上、該鋼ストリップ下地の引張強さは１２００ＭＰａ以上であることを特徴とする被膜付き鋼ストリップ。
2. 請求項１において、上記鋼ストリップ下地の厚さが０．０１５ｍｍ〜５．０ｍｍであることを特徴とする鋼ストリップ。
3. 請求項１または２において、上記鋼ストリップ下地が、焼入れ性を有する炭素鋼、焼入れ性を有するクロムステンレス鋼、析出硬化性ストリップ鋼のいずれかであることを特徴とする鋼ストリップ。
4. 請求項１から３までのいずれか１項において、上記被膜が実質的にＡｌ₂Ｏ₃から成ることを特徴とする鋼ストリップ。
5. 請求項１から３までのいずれか１項において、上記被膜がＡｌ₂Ｏ₃とＴｉＯ₂および／またはＺｒＯ₂との混合物から成り、主成分がＡｌ₂Ｏ₃であることを特徴とする鋼ストリップ。
6. 請求項１から３までのいずれか１項において、上記被膜が、上記被膜が実質的にクロムから成る金属被膜であることを特徴とする鋼ストリップ。
7. 請求項１から３までのいずれか１項において、上記被膜が遷移金属炭化物または遷移金属窒化物、望ましくはＴｉＮ、ＴｉＣ、またはＣｒＮ、またはこれらの混合物から成ることを特徴とする鋼ストリップ。
8. 請求項１から７までのいずれか１項において、上記被膜が１０層までの多層構造を持つことを特徴とする鋼ストリップ。
9. 請求項８において、個々の単独層が厚さ０．１〜１５μｍであることを特徴とする鋼ストリップ。
10. 請求項９において、上記被膜が、個々の単独層がＡｌ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂、またはＺｒＯ₂またはこれらの混合物のいずれかから成る多層構造を持つことを特徴とする鋼ストリップ。
11. 請求項１０において、上記被膜が厚さ２μｍ以下のニッケル層を少なくとも更に含み、該ニッケル層は上記鋼ストリップ下地には隣接していないことを特徴とする鋼ストリップ。
12. 請求項１から１１までのいずれか１項記載の被膜付き鋼ストリップの製造方法であって、ストリップ製造ラインに組み込んだ連続多段ロールプロセスにおいて、エッチチャンバをインラインで備えた電子ビーム蒸発法を用いて、２．５ｍ／分以上の速度で上記鋼ストリップを製造することを特徴とする鋼ストリップの製造方法。
13. 請求項１から１１までのいずれか１項記載の被膜付き鋼ストリップを含んで成り、製紙業および印刷業などに適したドクターブレードまたはコーターブレード。
14. 請求項１３において、掻き取り用および／または切り取り用の側部エッジも、主エッジと同じ被膜組成物で被覆されていることを特徴とするドクターブレードまたはコーターブレード。
15. 請求項１３または１４に記載のドクターブレードまたはコーターブレードの製造方法であって、上記ブレードを、ストリップ製造ラインに組み込んだ連続多段ロールプロセスにおいてエッチチャンバをインラインで備えた電子ビーム蒸発法を用いて２．５ｍ／分以上の速度で製造し、かつ、上記ブレードは最終的なドクターブレードまたはコーターブレードの幅のほぼ２倍に対応するストリップ幅を用いて製造することを特徴とするドクターブレードまたはコーターブレードの製造方法。