JP2007335808A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リング状のゲート電極を持つMOSFETにおいて、リング状ゲート電極1とゲートコンタクト用パッド部6とを接続するゲート引き出し配線5は、ドレイン領域2及びソース領域3以外の領域、即ち、素子分離領域10の上にて配置される。また、リング状ゲート電極1の折れ曲がり部1a〜1dを全て素子分離領域10の上に形成する。
【選択図】図1
Description
BJTよりも微細加工が可能であり、チップ上での占有面積が小さい。
電流−電圧特性がBJTでは指数特性であるが、MOSFETでは2乗特性となる。このため、2f1±f2、2f2±f1という隣接高調波が現れない。
MOSFETのディメンジョン(ゲート幅、ゲート長)の最適化により、高利得及び高効率が得られる。これによってモジュールの段数を低減することができるので、LSIの小型化及び低価格化が可能となる。
MOSFETを高周波LSI回路に適用するには、高利得を得るためにトランスコンダクタンスgmを大きくする必要がある。
よって、トランスコンダクタンスgmは、以下のように表される。
ここで、μnは電子の移動度、Coxは単位面積当たりのゲート酸化膜容量、W、Lは各々ゲート幅、ゲート長を表す。電流を一定とした場合、トランスコンダクタンスgmを大きくするためには、W/Lの比を大きくしなければならない。
遮断周波数fTは、電流利得が1となる周波数を示し、デバイスの高周波特性を表す指標のひとつである。動作周波数の10倍程度のマージンが必要となる。
遮断周波数fTはトランスコンダクタンスgmに比例し、ゲート−ソース間容量Cgsと,ドレイン−ゲート容量Cdgとの和に反比例する。
MOSFETを高周波LSIに適用する場合、微弱な入力信号がノイズに埋もれないように、FETそのもののノイズを低減する必要がある。
この式はFukuiの式として知られており、Kは定数である。
最大発振周波数fmaxとは、電力利得が0となる周波数であり、式(5)のように表すことができる。
・(Rds・2πfT・Cgd+Cgs(Ri+Rs)) (5)
前記式(5)から判るように、最大発振周波数fmaxは、ゲート抵抗Rg、ソース抵抗Rsが小さいほど大きい。また、前記式(5)では表されていないが、最大発振周波数fmaxは、ソースインダクタンスLsが小さいほど大きいことも知られている。
図1は、本発明の第1の実施形態の半導体装置としてのMOSFETのユニットセルのレイアウト構成を模式的に示す平面図である。図2は、前記図1のユニットセルに第1層配線を付加した図を示す。図3は前記図2に示したユニットセル構造を例として、MOSFET全体のセルアレイ構造を示す平面図であり、このようなMOSFETは例えば高周波信号の増幅用FETとして機能する。図3は多数個のユニットセルが横及び縦に規則的に形成配置されており、そのうちの1ユニットセルのみが図1に示される。
図7は、本発明の第2の実施形態におけるMOSFETのユニットセルUにおけるレイアウトを模式的に示す平面図であり、図8は図7に第1層配線を付加した図である。図7は、本実施形態に係るMOSFETのセルアレイ構造を示すために本実施形態に係るユニットセルUの構造を例として描かれた平面図である。
1a〜1d 折れ曲がり部
2 ドレイン領域(第1の拡散領域)
2a、2b ドレインコンタクト
3 ソース領域
3a〜3d ソースコンタクト
4 基板コンタクト部(基板コンタクト用半導体領域)
4a、4b 基板コンタクト
5 ゲート引き出し配線
6 ゲートコンタクト用パッド部
6a、6b ゲートコンタクト
7 ソースコンタクト配線
8 ゲートコンタクト配線
9 ドレインコンタクト配線
10 素子分離領域
11 ソースコンタクト配線兼基板コンタクト配線
13 基板コンタクト配線
S 半導体基板
U ユニットセル
Claims (21)
- 半導体基板上に形成された複数個のユニットセルを備えた半導体装置であって、
前記各ユニットセルは、
リング状のゲート電極と、
前記リング状ゲート電極の内方の領域に形成され、ドレイン領域又はソース領域となる第1の活性領域と、
前記リング状ゲート電極の外方の領域に形成され、ソース領又はドレイン領域域となる第2の活性領域と、
前記第2の活性領域に隣接する領域に設けられた素子分離領域と、
前記素子分離領域の上に設けられたゲートコンタクト用パッド部と、
前記リング状ゲート電極と前記ゲートコンタクト用パッド部とを接続するゲート引き出し配線とを備え、
前記ゲート引き出し配線の全ては、前記素子分離領域の上に配置されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1記載の半導体装置において、
前記第1の活性領域の上に形成されたドレイン又はソースコンタクトと、
前記第2の活性領域の上に形成されたソース又はドレインコンタクトと、
前記ゲートコンタクト用パッド部の上に形成されたゲートコンタクトとを備えた
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1記載の半導体装置において、
前記リング状ゲート電極は、完全に閉じた閉リング状に形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1記載の半導体装置において、
前記リング状ゲート電極は、前記素子分離領域の上で分断されて、開リング状に形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1〜4の何れか1項に記載の半導体装置において、
前記ユニットセルは、
前記第1及び第2の活性領域の導電型とは逆導電型の基板コンタクト用半導体領域と、
前記基板コンタクト用半導体領域の上に形成された基板コンタクトとを更に備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項2に記載の半導体装置において、
前記第1の活性領域の面積は、この第1の活性領域の上に1つのドレイン又はソースコンタクトのみを形成して引き出せる程度に小さい面積である
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1〜6の何れか1項に記載の半導体装置において、
前記リング状ゲート電極には、折れ曲がり部位が存在する
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項7記載の半導体装置において、
前記リング状ゲート電極の折れ曲がり部位は、前記素子分離領域上に位置する
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項2に記載の半導体装置において、
前記第2の活性領域に形成されるソース又はドレインコンタクトの個数は、4つ以上である
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1〜9の何れか1項に記載の半導体装置において、
前記第2の活性領域の面積は、前記第1の活性領域よりも広い面積に設定されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項2記載の半導体装置において、
前記ゲートコンタクト用パッド部の面積は、前記ゲートコンタクトが複数個形成できる広い面積に設定されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項2記載の半導体装置において、
前記ゲートコンタクト用パッド部の面積は、前記ゲートコンタクトが1個のみ形成できる狭い面積に設定されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項1〜12の何れか1項に記載の半導体装置において、
前記各ユニットセル内に形成された前記リング状ゲート電極、ゲート引き出し配線、並びに第1及び第2の活性領域は、
前記半導体基板上において、前記リング状ゲート電極の中心点に関して回転対称になるように形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項2記載の半導体装置において、
前記複数のユニットセルの各々では、
前記ゲートコンタクト用パッド部は、前記第1の活性領域を挟んで互いに対向する位置に各々形成されると共に、
前記ゲート引き出し配線は、前記リング状ゲート電極と前記2つのゲートコンタクト用パッド部とを接続する2本のゲート引き出し配線から成り、
前記複数のユニットセルの各々は、規則的に配置されて、半導体装置の全体として対称性を有している
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項14記載の半導体装置において、
前記第1の活性領域を挟んで互いに対向する位置であって且つ前記2つのゲートコンタクト用パッド部の位置とは異なる位置に各々形成され、前記第1及び第2の活性領域の導電型とは逆導電型の基板コンタクト用半導体領域と、
前記基板コンタクト用半導体領域の上に形成された基板コンタクトとを更に備えた
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項14又は15記載の半導体装置において、
前記各ユニットセル内に形成された前記リング状ゲート電極、ゲート引き出し配線、並びに第1及び第2の活性領域は、
前記半導体基板上において、前記リング状ゲート電極の中心点に関して回転対称になるように形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項14又は15記載の半導体装置において、
前記複数のユニットセルのうち1つのユニットセルは、
このユニットセルに隣接する他のユニットセルを90°回転した形状で配置されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項14〜17の何れか1項に記載の半導体装置において、
前記第2の活性領域に形成されたソース又はドレインコンタクト同士を接続するソース又はドレインコンタクト配線を更に備え、
前記ソース又はドレインコンタクト配線は、前記第1の活性領域に形成されたドレイン又はソースコンタクト及びその周囲並びに前記ゲートコンタクト用パッド部に形成されたゲートコンタクト及びその周囲を除く領域に亘って形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項15記載の半導体装置において、
前記第2の活性領域に形成されたソース又はドレインコンタクトと前記基板コンタクト用半導体領域に形成された基板コンタクトとを接続するソース又はドレインコンタクト配線兼基板コンタクト配線を更に備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記請求項14記載の半導体装置において、
前記複数個のユニットセルのうち半導体装置の周辺部に位置するユニットセルのみに設けられ、前記第1及び第2の活性領域領域の導電型とは逆導電型の基板コンタクト用半導体領域と、
前記基板コンタクト用半導体領域の上に形成された基板コンタクトと、
前記各基板コンタクト同士を接続する基板コンタクト配線とを更に備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜20の何れか1項に記載の半導体装置において、
半導体基板上に形成された複数個のユニットセルは、高周波信号増幅用FETとして機能する
ことを特徴とする半導体装置。
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