JP2007330948A

JP2007330948A - 洗浄装置

Info

Publication number: JP2007330948A
Application number: JP2006169172A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiro Ota; 勝啓太田; Hirokazu Yamamoto; 洋和山本; Akiko Hashi; 亜紀子橋; Yoshio Yamamoto; 芳男山本; Mitsuo Ito; 美津夫伊藤; Haruki Sonoda; 治毅園田; Akinobu Ito; 昭宣伊藤; Kazuhiro Takishita; 和弘滝下; Yutaka Fujioka; 裕藤岡
Original assignee: Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd; SPC Electronics Corp; Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV
Current assignee: Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd; SPC Electronics Corp; HGST Netherlands BV
Priority date: 2006-06-19
Filing date: 2006-06-19
Publication date: 2007-12-27

Abstract

【課題】精密機械加工部品や電子部品基板、電子部品または磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリの全体または一部を洗浄対象物とする洗浄装置において、洗浄液の流れに乱れが生じると洗浄対象物から一旦、除去された汚染物質が洗浄対象物に再付着する。
【解決手段】ポンプ４により洗浄槽２内にて洗浄液を一方向に流す。その上流側に２枚の整流板２０を配置し、洗浄対象物より下流側にさらに整流板２２を配置する。各整流板の面内には複数の孔が配列される。上流側の整流板２０ｂの孔の径は下流側の整流板２２の孔の径より大きく設定する。これにより、整流板２０ｂと整流板２２とに挟まれる洗浄チェンバー２８における液流を擬似層流とすることができる。洗浄対象物から遊離した汚染物質は速やかに排出チェンバー２６へ移動し、フィルタ６により除去される。
【選択図】図１

Description

本発明は、精密機械加工部品や電子部品基板、電子部品または磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリ（Head Stack Assembly：ＨＳＡ）の全体又は一部洗浄に用いられる洗浄装置に関する。

例えばＨＳＡの構成部品に付着した塵埃や汚れを除去するために、純水等の液体を用いた洗浄が行われる。従来のバッチ式洗浄装置には、洗浄槽の底部に多数の小さな孔を有する整流板を備え、その上に洗浄対象物を保持したキャリアを載せ、洗浄液を洗浄槽の下方から上方へ流す構造のものがあった。そのような構造の洗浄装置は、例えば、下記特許文献１に開示されている。従来は、整流板には孔が一様に開けられていたが、特許文献１は、整流板内の洗浄対象物に対向する部分の孔を他の部分の孔より大きくし、洗浄対象物の位置に効率的に洗浄液を流通させることにより、洗浄液の所要量を減らしつつ洗浄効果を高める洗浄装置を開示している。

下記特許文献２，３も、洗浄液を上下に流動させる洗浄装置を開示している。特に、特許文献２の洗浄装置は、洗浄槽の底部に複数枚の整流板を配して、洗浄槽の下方から上方に向かう一様な層流を形成し、洗浄対象物を均一に洗浄しようとするものである。

また、下記特許文献４には、洗浄槽内にて洗浄液を水平方向に流通させる洗浄装置が開示されている。この洗浄装置は、洗浄槽の上流側及び下流側に配した整流板により層流を形成する。洗浄中の再汚染を防止するために、洗浄対象物は、洗浄液の汚れ度合いが高い下流側から汚れ度合いが低い上流側へ向けて洗浄槽内を移動される。
特開昭５８−４８４２３号公報特開平４−５６３２１号公報特開平１−５７７２１号公報特開平８−３３２４６５号公報特許第３０１２１８９号

特許文献１〜３に開示される洗浄装置のように、洗浄液を下方から上方へ流通させる構成では、洗浄槽の液面付近の洗浄液は、洗浄対象物から遊離した汚れによって底面付近の洗浄液より汚れ度合いが高い。そのため、洗浄した対象物を洗浄液から引き上げて洗浄槽から取り出す際に、洗浄対象物は汚染度の高い洗浄液の上層部を通過することとなり、洗浄対象物に汚れが再付着しやすいという問題があった。また、下から上へ洗浄液を流通させる構成では、重い汚染物質は洗浄液が排出される洗浄槽の上方まで到達しにくいため、洗浄槽内に滞留しやすく、洗浄対象物に再付着しやすいという問題があった。

ここで、特許文献４に開示される洗浄装置のように、洗浄液を水平に流通させる構成では、上述の問題を回避することが可能である。しかし、洗浄槽内の洗浄液の流れが層流又はそれに近い状態でない場合には、やはり洗浄対象物から遊離した汚染物質が洗浄槽の下流側から速やかに排出されず、洗浄槽内に滞留し得るため、再付着の問題が起きやすい。例えば、特許文献４の実施例に示される洗浄装置のように、下流側の整流板の上端を越えて、洗浄槽の外側に設けた排出槽に洗浄液が流下する構成とした場合には、洗浄槽内の液面付近の流速が底面付近の流速より速くなり、この流速差に起因して上流に向かう逆流が生じるため、洗浄槽の汚染物質の濃度が高くなって再付着が問題となり得る。また、逆流による汚染濃度の上昇が実質的に下流側整流板から所定距離内に限定される場合には、洗浄対象物をより上流に置けば再付着の問題を回避可能であるが、洗浄槽の長さを大きくする必要があり、洗浄装置が大型化するという問題がある。同様に特許文献５にて、その請求項１や実施例に示されるような給液部の横幅が洗浄槽の横幅よりも大きく、またその給液部の底部の高さが洗浄槽の底部よりも低い構造では、洗浄槽内との段差により乱流が発生して、乱流発生部において洗浄槽の汚染物質の濃度が高くなって再付着が問題となり得る。

本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、簡易な構成であって、洗浄対象物への汚染物質の再付着が起こりにくい洗浄装置を提供することを目的とする。

本発明に係る洗浄装置は、例えば磁気ディスク装置のヘッドスタックアセンブリの全体又は一部を洗浄対象物とするものであって、水平方向に流れる洗浄液を貯留し、当該洗浄液に洗浄対象物が浸される洗浄槽と、洗浄槽の排出口から排出される洗浄液を、洗浄槽の供給口へ循環させるポンプと、排出口から供給口までの洗浄液の循環路に設けられ、当該洗浄液を濾過する濾過器と、を有し、洗浄槽は、洗浄対象物が置かれる位置よりも上流側に互いに間隔を置き対向して配置され、それぞれ洗浄液を流通させる複数の上流側流通孔が面内に配列された複数枚の上流側整流板と、当該洗浄対象物が置かれる位置よりも下流側に配置され、洗浄液を流通させる複数の下流側流通孔が、上流側流通孔の配列に応じた配置で面内に配列された下流側整流板と、を有し、上流側流通孔の開口面積は、下流側流通孔の開口面積より大きいこと、を特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の洗浄液は、純水に相当する動粘性係数を有し、上流側流通孔及び下流側流通孔の配列ピッチは、それぞれ１２ｍｍであり、上流側流通孔の開口は、直径５ｍｍの円形であり、下流側流通孔の開口は、直径２．４〜２．７ｍｍの円形であること、を特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の上流側流通孔及び下流側流通孔は、それぞれ正方形格子の格子点に配置されること、を特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の上流側整流板及び下流側整流板は、それぞれ洗浄液に対する耐食性を有するステンレス鋼であること、を特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の下流側整流板は、それぞれの一方面を互いに接した一対の要素板と、一方の前記要素板を他方の要素板に対してスライドさせ、両要素板それぞれに設けられた孔のオーバーラップ部分によって形成される下流側流通孔の面積を可変とするスライド機構と、を有することを特徴とする。

本発明に係る洗浄装置は、水平方向に流れる洗浄液を貯留し、当該洗浄液に前記洗浄対象物が浸される洗浄槽と、前記洗浄槽の排出口から排出される前記洗浄液を、前記洗浄槽の供給口へ循環させるポンプと、前記排出口から前記供給口までの前記洗浄液の循環路に設けられ、当該洗浄液を濾過する濾過器と、を有し、前記洗浄槽が、前記洗浄対象物が置かれる位置よりも上流側に互いに間隔を置き対向して配置され、それぞれ前記洗浄液を流通させる複数の上流側流通孔が面内に配列された複数枚の上流側整流板と、当該洗浄対象物が置かれる位置よりも下流側に配置され、前記洗浄液を流通させる複数の下流側流通孔が、前記上流側流通孔の配列に応じた配置で面内に配列された下流側整流板と、を有し、前記洗浄槽の前記上流側整流板より上流部分と前記上流側整流板及び前記下流側整流板の間の部分とは、それぞれの両側面及び底面の互いに対応する面同士が同一平面上にあることを特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の上流側流通孔の開口面積と下流側流通孔の開口面積の比が、上流側流通孔の開口面積：下流側流通孔の開口面積＝１０：１〜２：１までとすることを特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の上流側流通孔及び前記下流側流通孔は、それぞれ正方形格子の格子点に配置されることを特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の下流側整流板は、それぞれの一方面を互いに接した一対の要素板と、一方の要素板を他方の要素板に対してスライドさせ、両要素板それぞれに設けられた孔のオーバーラップ部分によって形成される下流側流通孔の面積を可変とするスライド機構とを有することを特徴とする。

本発明に係る洗浄装置の前記洗浄槽の前記上流側整流板より上流部には、側面に穴の空いたパイプ状の給液部が設けられることを特徴とする。

本発明によれば、上流側整流板と下流側整流板との間の洗浄液の流れを、渦や淀みが好適に抑制された擬似層流とすることができる。これにより、洗浄対象物から遊離した汚染物質が速やかに下流側整流板の流通孔から排出され、洗浄対象物への再付着が抑制される。

以下、本発明の実施の形態（以下実施形態という）について、図面に基づいて説明する。

図１は、本発明の洗浄装置の構造を示す模式図である。本洗浄装置は、洗浄槽２、ポンプ４及びフィルタ６からなる洗浄液の循環回路を構成する。図１には、当該循環回路と、洗浄液の流れに沿った方向の洗浄槽２の垂直断面図とが示されている。図２は図１の立体図である。図３は液供給部に側面に穴の空いたパイプ状の給液部分を用いた本発明の洗浄装置の構造を示す模式図である。図４は図３の立体図である。

洗浄槽２には例えば、純水が洗浄液１０として溜められる。洗浄槽２の一方端には洗浄液１０の排出口１２が設けられ、他方端には洗浄液１０の供給口１４が設けられる。排出口１２にはポンプ４の吸入口が接続され、さらにポンプ４の送出口はフィルタ６を介して供給口１４に接続される。ちなみに排出口１２とポンプ４との間、ポンプ４とフィルタ６との間、及びフィルタ６と供給口１４との間はそれぞれパイプ１６で接続される。

ポンプ４は排出口１２から洗浄液を吸引し、フィルタ６へ向けて吐出する。フィルタ６は洗浄液の汚れを濾過し、フィルタ６を通過した洗浄液が供給口１４から洗浄槽２へ流入する。これにより、洗浄槽２内には、供給口１４が設けられた端部から排出口１２が設けられた端部へ向かう洗浄液１０の水平な流れが発生する。また、図３に示すように供給口１４が設けられた先に５３のようなパイプ状の水平に流れを作る供給口を設けることにより、更に水平で均一な流れを発生させることが可能である。

洗浄槽２内の洗浄液１０の流れの上流には、複数の整流板が配置される。例えば、本装置では上流側には２枚の整流板２０ａ，２０ｂが設けられる。また、洗浄槽２の下流側にも１枚の整流板２２が配置される。なお、上流側整流板２０ａ，２０ｂは、供給口１４よりは下流位置に配置され、整流板２０ｂは整流板２０ａの下流側に近接して配置される。また、下流側整流板２２は、排出口１２よりは上流位置に配置される。各整流板２０ａ，２０ｂ，２２は流れに垂直に配置される。

洗浄槽２は上流側整流板２０ａ，２０ｂと下流側整流板２２とによって、３つの空間に区切られる。ここでは、洗浄槽２内の空間のうち、整流板２０ａより上流側の空間を洗浄液の供給チェンバー２４、整流板２２より下流側の空間を洗浄液の排出チェンバー２６、及び、整流板２０ｂと整流板２２との間の空間を洗浄チェンバー２８と称する。ＨＳＡやその構成部品であるジンバル等の洗浄対象物は、洗浄チェンバー２８に浸積され、洗浄液で汚れを除去される。なお、洗浄チェンバー２８の外壁に超音波発生器３０を取り付けて、洗浄チェンバー２８内の洗浄液１０に超音波振動を与え、洗浄対象物からの汚れの遊離を促進させる構成としてもよい。また、本装置は、洗浄液１０を加熱する手段（図示せず）を備える。当該加熱手段により洗浄液１０を暖めることにより、洗浄対象物からの汚れの遊離が促進され得る。例えば、洗浄液１０は５０〜７５℃程度に加熱される。

本装置は、この洗浄チェンバー２８に理想的には洗浄液の層流を形成し、洗浄対象物から遊離した汚れを速やかに洗浄チェンバー２８から排出チェンバー２６へ排出して、洗浄対象物に再付着する汚れを低減するように工夫されている。実際には完全な層流を実現することは難しいが、渦や淀みが好適に抑制され速度分布が一様であり実質的に層流とみなし得る擬似層流の実現は可能である。以下の説明にて、整流（まっすぐにされた（straightened）流れ、一様な（uniform）流れ）という表現は、擬似層流を意味する。

整流を形成するために、洗浄チェンバー２８の内壁は洗浄液１０の流れ方向に平行に構成される。例えば、洗浄槽２は直方体形状に構成される。

また、整流板２０ａ，２０ｂ，２２は洗浄チェンバー２８内の洗浄液の流れを整流とする役目を有する。各整流板には多数の孔が開けられている。例えば、多数の孔は整流板内に一定の間隔で二次元的に配列される。

供給チェンバー２４と洗浄チェンバー２８との間には２枚の上流側整流板２０が間隔を置いて配置される。一般的に、供給チェンバー２４内の洗浄液１０には、供給口１４からの流れに起因する渦や速度分布・圧力分布が生じる。複数の整流板２０を用いた構成は、整流板２０を１枚だけ用いた構成よりも、供給チェンバー２４から流入する洗浄液１０の流れに対し高い一様化作用を発揮する。複数の整流板２０は、供給チェンバー２４内の洗浄液１０の不均一な流れを段階的に緩和して整流板２０ｂから洗浄チェンバー２８へ整流を出力する。１番目の整流板２０ａに設けられる複数の孔の形状や面積は、供給チェンバー２４内の不均一な状態に対応して、不均一に設定され得る。一方、整流を出力する２番目の整流板２０ｂに設けられる複数の孔の形状や面積は、基本的に均一とされる。なお、２番目の整流板２０ｂにおいて、洗浄槽２の壁に近接する部分の孔は、洗浄液１０が壁から受ける抵抗等の影響を反映して、壁から離れた部分の孔とは異なる形状・面積とすることが好適である場合がある。

互いに隣接する整流板２０それぞれに開けられた孔は、両整流板２０での位置が相互にずれるように配置される。図５は、整流板２０ａ及び整流板２０ｂの模式的な断面図である。図５に示すように、整流板２０ａの孔４０ａの正面には整流板２０ｂの板材４２ｂが対向配置され、逆に整流板２０ｂの孔４０ｂの正面には整流板２０ａの板材４２ａが対向配置される。例えば、整流板２０ａ及び整流板２０ｂそれぞれの孔の配列は、二次元的に周期的な共通の配列パターンであって互いにずらして配置されたパターンとすることができる。隣接する２枚の整流板２０の孔の位置が一致しない当該構成は、整流板２０ａの孔４０ａを通過した洗浄液１０の流れが直接に整流板２０ｂの孔４０ｂを通過することを阻止する。これにより供給チェンバー２４の洗浄液１０の不均一な流れの影響が洗浄チェンバー２８に及びにくくなり、整流板２０ｂから出力される流れの一様性が向上する。

なお、供給チェンバー２４と洗浄チェンバー２８との間に３枚以上の整流板２０を設けた構成とすることもできる。図６は、供給チェンバー２４と洗浄チェンバー２８との間に配置される３枚の整流板２０の模式的な断面図である。図６には、互いに隣接する第１の整流板２０-1及び第２の整流板２０-2それぞれに開けられた孔４０-1，４０-2が相互にずれるように配置され、また互いに隣接する第２の整流板２０-2及び第３の整流板２０-3それぞれに開けられた孔４０-2，４０-3が相互にずれるように配置されることが示されている。

各整流板２０は、例えば数ｍｍ程度の比較的薄い厚みに形成される。さらに、整流板２０は、上述した比較的高温の洗浄液１０内にて劣化や水圧による変形を生じない材料で構成される。これらの観点から、本装置の整流板２０は耐食性を有したステンレス鋼で形成される。

整流板２０ｂに開けられる一様な孔の大きさは、洗浄液１０の粘性に応じて定められる。本装置における洗浄液１０は、純水又はそれと同程度の粘性を有する液体である。純水の動粘性係数は０．００４７８ｃｍ^２／ｇであり、これに対応して、整流板２０ｂには例えば、直径５ｍｍの円形孔が配列される。例えば、孔を正方形格子の各交点に配置する配列パターンにおいて、孔の配列ピッチは、中心間隔で１２ｍｍに設定される。整流板２０ａに開けられる孔の大きさ・配列パターンは、整流板２０ｂと同様とすることができる。

上述した複数の整流板２０によって、供給チェンバー２４から洗浄チェンバー２８に流入する洗浄液１０の流れが一様化される。整流板２０から出力された整流は、洗浄チェンバー２８を下流へ流れ、洗浄チェンバー２８と排出チェンバー２６との境界を構成する下流側整流板２２に到達する。

下流側整流板２２には既に述べたように多数の孔が開けられている。洗浄液１０が洗浄チェンバー２８側での一様性を維持しつつ排出チェンバー２６へ排出されるように、整流板２２に設けられる複数の孔の形状や面積は、基本的に均一とされる。なお、整流板２２においても、整流板２０ｂの場合と同様の理由により、洗浄槽２の壁に近接する部分の孔を壁から離れた部分の孔とは異なる形状・面積とすることが好適である場合がある。また、整流板２２も整流板２０と同様のステンレス鋼で形成される。

整流板２２に開けられる一様な孔の大きさも、整流板２０ｂと同様、洗浄液１０の粘性に応じて定められる。本装置においては、上述の整流板２０ｂの直径５ｍｍの円形孔に対応して、整流板２２には例えば、直径３ｍｍの円形孔が配列される。例えば、孔を正方形格子の各交点に配置する配列パターンにおいて、孔の配列ピッチは、中心間隔で１２ｍｍに設定される。なお、整流板２２の円形孔の直径は２．４〜２．７ｍｍの範囲で調整することができる。

整流板２２に到達した洗浄液１０が整流板２２の孔を通過する際には、流速が増加する。その結果、孔の洗浄チェンバー２８側での近傍領域にはベルヌーイ効果による負圧が作用し、当該近傍領域の洗浄液１０が孔に引き込まれる。本装置では、整流板２２の開口率は、整流板２０の開口率より小さく設定され、整流板２２近傍でのベルヌーイ効果が強められる。整流板２２に突き当たった流れは逆流や淀みを生じ、洗浄チェンバー２８内の整流を損ない易い。本装置では、整流板２２の近傍での孔への洗浄液１０の引き込みを強化することで、この問題を回避し、洗浄チェンバー２８の下流側に流れ着いた汚れが効果的に排出チェンバー２６へ排出される。

上述したように、整流板２０，２２の孔のサイズは、洗浄液として用いる液体の粘性を考慮して設定される。図７は、液体の動粘性係数と整流板に設ける円形孔の好適な径との関係を示すグラフであり、特性５０は上流側整流板２０に関する関係、特性５２は下流側整流板２２に関する関係を示している。純水の動粘性係数は上述のように０．００４７８ｃｍ^２／ｇであり、これに対応して、上流側整流板２０ｂ、下流側整流板２２の孔の径はそれぞれ５ｍｍ，３ｍｍとした。ここで、動粘性係数がベンゾールに相当する０．００７５ｃｍ^２／ｇである場合には、各整流板の好適な孔の径は、それぞれ８ｍｍ，４ｍｍとなり、また、動粘性係数がアルコールに相当する０．０１５１ｃｍ^２／ｇである場合には、各整流板の好適な孔の径は、それぞれ１６ｍｍ，８ｍｍとなる。なお、動粘性係数に応じて好適な孔の径を変化させる場合には、孔の配列ピッチを調節して、整流板に占める孔の面積の割合は基本的に変えないようにする。

また、本洗浄装置において、上流側の供給チェンバー２４の各側面と洗浄チェンバー２８の各側面とは共通の平面で構成され、上流側の供給チェンバー２４の底面と洗浄チェンバー２８の底面とは共通の平面で構成される。つまり、上流側の供給チェンバー２４の横幅が洗浄チェンバー２８の横幅と同等であり、またその供給チェンバー２４の底部の高さが洗浄チェンバー２８の底部と同じ高さに構成される。このように洗浄槽が直方体である場合は、上流側流通孔の開口面積と下流側流通孔の開口面積の比が上流側流通孔の開口面積：下流側流通孔の開口面積＝１０：１〜２：１までとする。

なお、好適な条件の決定に際しては、洗浄槽２にインクを滴下することにより、流れを可視化し、これを観察することによって流れの一様性の程度を判断した。

また、整流を生じさせる条件設定を容易とするために、下流側整流板２２を、流通孔の面積を可変な構造としてもよい。この下流側整流板２２は、互いに一方面を接した２枚の要素板と、一方の要素板を他方の要素板に対してスライドさせる機構とを含んで構成される。各要素板には、互いに同じ位置に複数の孔が設けられ、一方の要素板を他方に対してスライドさせることによって、両要素板の孔のオーバーラップ部分の面積を変化させることができる。この両要素板の孔のオーバーラップ部分が下流側整流板２２の流通孔となる。この下流側整流板２２を用いて、上流側整流板２０ｂの孔径５ｍｍに対して、好適な一様流を実現する下流側整流板２２の流通孔の面積を求め、その面積に基づいて下流側整流板２２の円形孔の径を定めた。

本洗浄装置を用いて、特開２００５−１３５５０１号公報に記載の磁気ディスク装置の部品であるジンバルの洗浄を行い、本装置の洗浄能力を確かめた。洗浄前に、ジンバルの先端に搭載されているスライダ上に、汚染物質のモデルとして、平均粒径１μｍのステンレス鋼の粒子を付着させた。このジンバル１００個をキャリアに収納して、洗浄チェンバー２８内の洗浄液にキャリアごと漬け、洗浄処理を施した。なお、キャリアは、例えば、二次元配列された複数のセルを有し、各セルは洗浄液が流通可能に構成され、洗浄対象物であるジンバルはキャリアの各セルに個別に収納される。光学式顕微鏡で計測した結果、洗浄前に各スライダに付着していた粒子数は１０〜１５個であったものが、洗浄後においては０〜１個となり、温泉物質の再付着が抑制された良好な洗浄効果が確認された。

また、本洗浄装置は、複数の洗浄槽２を含んだ構成とすることもできる。図８は、複数の洗浄槽２を並列に配置した洗浄装置の模式的な平面図である。この構成では、例えば、３個の洗浄槽２-1〜２-3が一列に並べられ、その列の一方側にローダ４４、他方側に乾燥機４６及びアンローダ４８が配置される。例えば、ローダ４４は、洗浄処理待ちの洗浄対象物を順番にピックアップし、空いている洗浄槽２に浸す。アンローダ４８は、洗浄が終わった洗浄対象物を洗浄槽２から引き上げ、乾燥機４６へ移動させる。乾燥機４６は乾燥した空気を送風する等の方法により、洗浄が終わった洗浄対象物を乾燥させる。乾燥機４６にて乾燥が完了した洗浄対象物は、アンローダ４８により後段処理に移動される。この構成により、複数の洗浄槽２を用いて並列に洗浄を行うことができる。また、ローダ４４、アンローダ４８を用いて、洗浄対象物を洗浄槽２-1〜２-3に順番に移動させる構成として、各洗浄槽２毎に異なる洗浄液で順次洗浄を行ったり、界面活性剤等を含んだ洗浄液での洗浄後に純水を用いたリンス処理を行うといったことも可能である。

例としてあげたＨＳＡ又はその構成部品を洗浄する際に用いられるＨＳＡ用洗浄装置の構造を示す模式図である。図１に示す洗浄装置の斜視図である。液供給部にパイプ状のものを用いた模式図。図３の立体図。２枚構成の上流側整流板の模式的な断面図である。３枚構成の上流側整流板の模式的な断面図である。液体の動粘性係数と整流板に設ける円形孔の好適な径との関係を示すグラフである。複数の洗浄槽を並列に配置した洗浄装置の模式的な平面図である。

符号の説明

２洗浄槽、４ポンプ、６フィルタ、１０洗浄液、１２排出口、１４供給口、２０上流側整流板、２２下流側整流板、２４供給チェンバー、２６排出チェンバー、２８洗浄チェンバー、３０超音波発生器、５３パイプ状の液供給部。

Claims

水平方向に流れる洗浄液を貯留し、当該洗浄液に洗浄対象物が浸される洗浄槽と、
前記洗浄槽の排出口から排出される前記洗浄液を、前記洗浄槽の供給口へ循環させるポンプと、
前記排出口から前記供給口までの前記洗浄液の循環路に設けられ、当該洗浄液を濾過する濾過器と、を有し、
前記洗浄槽は、
前記洗浄対象物が置かれる位置よりも上流側に互いに間隔を置き対向して配置され、それぞれ前記洗浄液を流通させる複数の上流側流通孔が面内に配列された複数枚の上流側整流板と、
当該洗浄対象物が置かれる位置よりも下流側に配置され、前記洗浄液を流通させる複数の下流側流通孔が、前記上流側流通孔の配列に応じた配置で面内に配列された下流側整流板と、を有し、
前記上流側流通孔の開口面積は、前記下流側流通孔の開口面積より大きいこと、
を特徴とする洗浄装置。
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記洗浄液は、純水に相当する動粘性係数を有し、
前記上流側流通孔及び前記下流側流通孔の配列ピッチは、それぞれ１２ｍｍであり、
前記上流側流通孔の開口は、直径５．０ｍｍの円形であり、
前記下流側流通孔の開口は、直径２．４〜２．７ｍｍの円形であること、
を特徴とする洗浄装置。
請求項２に記載の洗浄装置において、
前記上流側流通孔及び前記下流側流通孔は、それぞれ正方形格子の格子点に配置されること、を特徴とする洗浄装置。
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記上流側整流板及び前記下流側整流板は、それぞれ前記洗浄液に対する耐食性を有するステンレス鋼であること、を特徴とする洗浄装置。
請求項１に記載の洗浄装置において、
前記下流側整流板は、
それぞれの一方面を互いに接した一対の要素板と、
一方の前記要素板を他方の前記要素板に対してスライドさせ、前記両要素板それぞれに設けられた孔のオーバーラップ部分によって形成される前記下流側流通孔の面積を可変とするスライド機構と、を有することを特徴とする洗浄装置。
水平方向に流れる洗浄液を貯留し、当該洗浄液に前記洗浄対象物が浸される洗浄槽と、
前記洗浄槽の排出口から排出される前記洗浄液を、前記洗浄槽の供給口へ循環させるポンプと、
前記排出口から前記供給口までの前記洗浄液の循環路に設けられ、当該洗浄液を濾過する濾過器と、を有し、
前記洗浄槽は、
前記洗浄対象物が置かれる位置よりも上流側に互いに間隔を置き対向して配置され、それぞれ前記洗浄液を流通させる複数の上流側流通孔が面内に配列された複数枚の上流側整流板と、
当該洗浄対象物が置かれる位置よりも下流側に配置され、前記洗浄液を流通させる複数の下流側流通孔が、前記上流側流通孔の配列に応じた配置で面内に配列された下流側整流板と、を有し、
前記洗浄槽の前記上流側整流板より上流部分と前記上流側整流板及び前記下流側整流板の間の部分とは、それぞれの両側面及び底面の互いに対応する面同士が同一平面上にあること、
を特徴とする洗浄装置。
請求項６に記載の洗浄装置において、
前記洗浄槽内での前記洗浄液の流れ方向は水平方向であり、
前記下流側整流板の上流側での前記洗浄液の液面に対する下流側での前記洗浄液の液面の高さの低下量は、前記洗浄液に応じた所定値以下であること、
を特徴とする洗浄装置。
請求項６に記載の洗浄装置において、
前記上流側流通孔及び前記下流側流通孔は、それぞれ正方形格子の格子点に配置されること、を特徴とする洗浄装置。
請求項６に記載の洗浄装置において、
前記下流側整流板は、
それぞれの一方面を互いに接した一対の要素板と、
一方の前記要素板を他方の前記要素板に対してスライドさせ、前記両要素板それぞれに設けられた孔のオーバーラップ部分によって形成される前記下流側流通孔の面積を可変とするスライド機構と、
を有することを特徴とする洗浄装置。
請求項６に記載の洗浄装置において、
前記洗浄槽の前記上流側整流板より上流部には、側面に穴の空いたパイプ状の給液部が設けられることを特徴とする洗浄装置。