JPH05166793A - 浸漬型基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 装置全体を高くせず、また、スループットを
低下させずに、処理液を基板処理槽内に良好に拡散して
供給できるようにして、汚染を発生させずに均一な処理
を可能にする。 【構成】 基板支持部材５に支持された基板Ｗを収容す
る基板処理槽４の下部に処理液を供給する処理液供給部
３を設け、処理済み液を基板処理槽４の上部開口からオ
ーバーフローによって排出するように構成し、基板支持
部材５の下方位置に、横断面形状が上下方向の両端側が
先鋭で全体として連続面の表面を有する流線形の第１お
よび第２の整流用格子部材６，７を水平方向に所定間隔
を隔てて設け、その第１および第２の整流用格子部材
６，７と処理液供給部３との間に、基板処理槽４内に供
給された処理液を水平方向に拡散分配する複数個の案内
板８を水平方向に所定間隔を隔てて設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板やセラミッ
クス基板といった各種の基板を、純水や薬液中に浸漬し
て洗浄処理やウェットエッチング処理などを行うため
に、基板支持部材に支持された基板を収容する基板処理
槽の下部に処理液を供給する処理液供給部を設け、処理
済み液を基板処理槽の上部開口からオーバーフローによ
って排出するように構成した浸漬型基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】この種の浸漬型基板処理装置としては、
従来、次のようなものがあった。

【０００３】Ａ．第１従来例 図４は第１従来例の全体概略縦断面図であり、排液管０
１を備えた排液槽０２内に、下部に処理液を供給する処
理液供給部０３を備えた基板処理槽０４が設けられ、そ
の基板処理槽０４内に、基板Ｗ…を支持する一対の棒状
の基板支持部材０５，０５が設けられ、その基板支持部
材０５，０５には、長手方向に微小ピッチで基板挿入溝
（図示せず）が形成され、基板Ｗ…の下側外縁所要部を
挿入して二点で支持できるように構成されている。

【０００４】基板支持部材０５，０５と処理液供給部０
３との間に、図５の要部の拡大断面図に示すように、水
平方向に所定間隔を隔てて通液孔０６を分散形成した拡
散板０７が設けられるとともに、その拡散板０７と処理
液供給部０３との間に、処理液供給部０３から供給され
た処理液を水平方向に拡散する邪魔板０８が設けられ、
処理液供給部０３から基板処理槽０４内に供給した処理
液を水平方向に拡散しながら上昇させ、基板Ｗ…の表面
に均一に処理液を流し、薬液から純水にあるいは純水か
ら薬液に置換するように構成されている。

【０００５】Ｂ．第２従来例 図６は第２従来例の全体概略縦断面図であり、排液管０
１１を備えた排液槽０１２内に、下部に処理液を供給す
る処理液供給部０１３を備えた基板処理槽０１４が設け
られ、その基板処理槽０１４内に、基板Ｗ…を支持する
一対の棒状の基板支持部材０１５，０１５が設けられ、
その基板支持部材０１５，０１５には、長手方向に微小
ピッチで基板挿入溝（図示せず）が形成され、基板Ｗ…
の下側外縁所要部を挿入して二点で支持できるように構
成されている。

【０００６】基板処理槽０１４の基板支持部材０１５，
０１５から処理液供給部０１３に至る下方側部分が、縦
断面形状において、20°程度の拡がり角度を持った上拡
がりの漏斗状に形成され、処理液供給部０１３から基板
処理槽０１４内に供給した処理液を、その粘性抵抗を利
用して水平方向に拡散しながら上昇させ、基板Ｗ…の表
面に均一に処理液を流し、薬液から純水にあるいは純水
から薬液に置換するように構成されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、第１お
よび第２の従来例のいずれの場合にも次のような欠点が
あった。

【０００８】ａ．第１従来例の欠点 処理液が通液孔０６…を通過するに伴い、基板処理槽０
４の下部の隅部分や邪魔板０８の上方部にデッドスペー
スによる負圧部分が生じたり、また、図５に示すよう
に、隣合う通液孔０６，０６…間にデッドスペースによ
る負圧部分が生じてカルマン渦が発生し、処理液の上昇
流に乱れを生じて処理が不均一になる欠点があった。こ
の現象は、流速が大きくなればなる程顕著になり、単位
時間当りの処理能力を向上できない欠点があった。

【０００９】また、デッドスペースでの滞留による汚染
物質（パーティクル）等の濃縮による処理の不良が発生
するという欠点があった。

【００１０】ｂ．第２従来例の欠点 粘性抵抗を利用して水平方向に拡散しながら処理液を上
昇させるためには、漏斗状部分の拡がり角度を20°程度
よりも大きくできず、基板処理槽０１４を上下方向に長
く構成しなければならず、装置全体としての高さが大に
なるうえに、使用する薬液や純水などの処理液の量が多
くなって不経済になる欠点があった。また、流速も制限
されるため、スループットが大幅に低下する欠点があっ
た。

【００１１】また、第１および第２従来例のいずれにお
いても、基板支持部材０５，０１５が、横断面形状で円
形に構成されており、図５に示すように、基板支持部材
０５，０１５の上方側でデッドスペースによる負圧部分
が生じてカルマン渦が発生し、基板支持構成に起因して
処理液の上昇流に乱れを生じ、処理の不均一や汚染原因
となる欠点があった。

【００１２】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の浸漬型基板処理
装置は、装置全体を高くせずに、処理液を基板処理槽内
に良好に拡散して供給できるようにすることを目的と
し、そして、請求項２に係る発明の浸漬型基板処理装置
は、基板支持構成に起因する処理液の上昇流の乱れを防
止できるようにすることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
上述のような目的を達成するために、基板支持部材に支
持された基板を収容する基板処理槽の下部に処理液を供
給する処理液供給部を設け、処理済み液を基板処理槽の
上部開口からオーバーフローによって排出するように構
成した浸漬型基板処理装置において、基板支持部材の下
方位置に、横断面形状が上下方向の下端側が先鋭で全体
として連続面の表面を有する流線形の整流用格子部材を
水平方向に所定間隔を隔てて設け、その整流用格子部材
と処理液供給部との間に、基板処理槽内に供給された処
理液を水平方向に拡散分配する複数個の案内板を水平方
向に所定間隔を隔てて設けて構成する。請求項２に係る
発明の浸漬型基板処理装置は、上述のような目的を達成
するために、請求項１に係る発明の基板支持部材を、横
断面形状が上下方向の下端側が先鋭で全体として連続面
の表面を有する流線形の棒状部材で構成する。

【００１４】

【作用】請求項１に係る発明の浸漬型基板処理装置の構
成によれば、処理液供給部から基板処理槽内に供給され
た処理液を、案内板によって水平方向に拡散分配し、そ
の拡散分配された処理液を流線形の整流用格子部材を通
して整流するとともに負圧によるデッドスペースを生じ
させずに均一な状態で処理液を上昇させ、基板の表面に
均一に処理液を流すことができる。よって、均一な処理
を行うことができる。

【００１５】請求項２に係る発明の浸漬型基板処理装置
の構成によれば、処理液が基板支持部材の表面に沿って
流れるときに、その上方側で負圧によるデッドスペース
を生じさせずに均一な状態で処理液を上昇させ、基板の
表面に均一に処理液を流すことができる。よって、デッ
ドスペースに起因する汚染の発生を抑えることができ
る。

【００１６】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。

【００１７】図１は、浸漬型基板処理装置の実施例の全
体概略縦断面図であり、排液管１を備えた排液槽２内
に、下部に処理液を供給する処理液供給部３を備えた基
板処理槽４が設けられ、その基板処理槽４内に、基板Ｗ
…を支持する一対の棒状の基板支持部材５，５が設けら
れ、その基板支持部材５，５には、長手方向に微小ピッ
チで基板挿入溝（図示せず）が形成され、基板Ｗ…の下
側外縁所要部を挿入して二点で支持できるように構成さ
れている。

【００１８】基板支持部材５，５の下方位置に、横断面
形状が上下方向の両端側それぞれが先鋭で全体として連
続面の表面を有する流線形の第１の整流用格子部材６が
水平方向に所定間隔を隔てて設けられ、更に、その下方
に、図２の平面断面図（図１のＡ−Ａ線断面図）に示す
ように、第１の整流用格子部材６…と長手方向が水平方
向に直交する状態で、同様に横断面形状が上下方向の両
端側それぞれが先鋭で全体として連続面の表面を有する
流線形の第２の整流用格子部材７が水平方向に所定間隔
を隔てて設けられている。

【００１９】第２の整流用格子部材７…の下方位置にお
いて、基板処理槽４の側壁部分が、処理液供給部３から
上方側程拡がるように傾斜した傾斜壁に形成され、そし
て、第２の整流用格子部材７…と処理液供給部３との間
に、基板処理槽４内に供給された処理液を水平方向に拡
散分配する３個の案内板８が水平方向に所定間隔を隔て
て設けられている。

【００２０】基板処理槽４の傾斜壁部分４ａ，４ａそれ
ぞれとそれに隣合う案内板８との相対角度、および、案
内板８，８どうしの相対角度のいずれもが20°以下に設
定されていて、処理液供給部３から供給された処理液
が、傾斜壁部分４ａ，４ａおよび案内板８との間での粘
性抵抗を利用して水平方向に良好に拡散分配されるよう
になっている。

【００２１】また、基板支持部材５，５それぞれが、第
１および第２の整流用格子部材６，７と同様に、横断面
形状が上下方向の両端側それぞれが先鋭で全体として連
続面の表面を有する流線形の棒状部材で構成されてい
る。

【００２２】以上の構成により、図３の動作説明に供す
る要部の拡大図に示すように、処理液供給部３から供給
された処理液を、案内板８…で水平方向に拡散分配し、
その拡散分配された処理液を、第２の整流用格子部材７
…および第１の整流用格子部材６…に通し、それぞれの
下方側、すなわち、上流側では、水平方向への拡がりを
抑制するとともに、それぞれの上方側、すなわち、下流
側において負圧によるデッドスペースを生じさせずに均
一に上昇するようになっている。

【００２３】更に、基板支持部材５，５それぞれにおい
ても、その下方側、すなわち、上流側では、水平方向へ
の拡がりを抑制するとともに、その上方側、すなわち、
下流側において負圧によるデッドスペースを生じさせず
に均一に上昇させ、処理液を基板Ｗ…の表面に均一に流
して処理し、そして、処理済み液を基板処理槽４の上部
開口からオーバーフローによって排液槽２に排出すると
ともに排液管１から外部に排出するようになっている。

【００２４】上記実施例では、案内板８を三個設けた
が、二個あるいは四個設けるものでも良い。

【００２５】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る発
明の浸漬型基板処理装置によれば、処理液供給部から基
板処理槽内に供給された処理液を、案内板によって水平
方向に拡散分配するから、案内板どうし、および、案内
板とそれに隣合う基板処理槽の処理液供給部に連なる傾
斜壁との相対角度それぞれとして、粘性抵抗を利用して
拡散できるに足る角度に設定することができ、処理液供
給部に連なる両傾斜壁どうしの相対角度を大きくでき、
前述した第２従来例のように装置全体を高くせずに、処
理液を基板処理槽内に良好に拡散して供給でき、使用す
る薬液や純水などの処理液の量を減少できて経済的であ
る。

【００２６】しかも、案内板によって拡散分配された処
理液を流線形の整流用格子部材を通し、前述した第１従
来例のような負圧によるデッドスペースを生じさせずに
均一な状態で処理液を上昇させるから、汚染を発生させ
ずに均一な処理が可能であり、また、流速が大きくても
基板の表面に均一かつ良好に処理液を流すことができ、
単位時間当りの処理能力を向上できる。

【００２７】また、請求項２に係る発明の浸漬型基板処
理装置によれば、基板支持部材の表面に沿って流れると
きにも、処理液を負圧によるデッドスペースを生じさせ
ずに均一な状態で上昇させることができるから、基板支
持構成に起因する処理液の上昇流の乱れを防止でき、基
板の表面により一層均一かつ良好に処理液を流すことが
でき、汚染を発生させずに均一な処理が可能であり、単
位時間当りの処理能力を一層向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る浸漬型基板処理装置の実施例の全
体概略縦断面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。

【図３】動作説明に供する要部の拡大図である。

【図４】第１従来例の全体概略縦断面図である。

【図５】図４の要部の拡大断面図である。

【図６】第２従来例の全体概略縦断面図である。

【符号の説明】

３…処理液供給部 ４…基板処理槽 ５…基板支持部材 ６…第１の整流用格子部材 ７…第２の整流用格子部材 ８…案内板 Ｗ…基板

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板支持部材に支持された基板を収容す
   る基板処理槽の下部に処理液を供給する処理液供給部を
   設け、処理済み液を前記基板処理槽の上部開口からオー
   バーフローによって排出するように構成した浸漬型基板
   処理装置において、 前記基板支持部材の下方位置に、横断面形状が上下方向
   の下端側が先鋭で全体として連続面の表面を有する流線
   形の整流用格子部材を水平方向に所定間隔を隔てて設
   け、その整流用格子部材と前記処理液供給部との間に、
   前記基板処理槽内に供給された処理液を水平方向に拡散
   分配する複数個の案内板を水平方向に所定間隔を隔てて
   設けたことを特徴とする浸漬型基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板支持部材を、横断
   面形状が上下方向の下端側が先鋭で全体として連続面の
   表面を有する流線形の棒状部材で構成した浸漬型基板処
   理装置。