JPH0878381A

JPH0878381A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPH0878381A
Application number: JP6218088A
Authority: JP
Inventors: Shigenori Kitahara; 重徳北原; Shoji Terada; 尚司寺田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Priority date: 1993-08-18
Filing date: 1994-08-18
Publication date: 1996-03-22

Abstract

(57)【要約】【目的】洗浄処理槽内に供給される洗浄処理液中に気
泡が混入していても、洗浄処理液に浸漬される被洗浄体
が気泡によって汚染されることを防止する。【構成】処理槽３１の供給口３３の上方に位置する拡
散板５４の両側端部の上方に位置するように、整流板５
２の下面に気泡溜め部６１、６２を設ける。脱泡孔６５
を介してこれら気泡溜め部６１、６２と通ずる気泡抜き
管６６、６７を整流板５２の上方に設け、気泡抜き管６
６、６７の排出開口部６８を処理槽３１外部に配置す
る。供給口３３から供給される、洗浄処理液中の気泡
は、気泡溜め部６１、６２から気泡抜き管６６、６７を
通じて、処理槽３１外部へ排出されるので、ウエハＷは
気泡の影響を全く受けない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）表面のパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄処理装置が使用されており、
その中でもとりわけウエット洗浄装置は、前記コンタミ
ネーションを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能
でスループットが良好なため、幅広く普及している。

【０００３】かかるウエット洗浄装置においては、被洗
浄処理体であるウエハに対してアンモニア処理、フッ酸
処理、硫酸処理、塩酸処理などの薬液洗浄処理、並びに
純水等による水洗洗浄処理が行われるように構成されて
いる。そしてこれら各薬液洗浄処理や水洗洗浄処理は、
各種洗浄液が供給される洗浄装置の処理槽内にて行われ
るが、従来の洗浄装置は概ね図１４に示したように構成
されていた。

【０００４】即ち、処理槽１０１の底部に洗浄処理液の
供給口１０２、１０３が設けられ、さらにこれら各供給
口１０２、１０３の上方には、夫々円板状の拡散板１０
４が個別に配置されている。そしてこれら拡散板１０
４、１０４の上方には、流通孔１０６を複数有する整流
板１０７が水平に配置されており、被洗浄処理体である
ウエハＷは、前記整流板１０７の上方に位置するウエハ
保持具１０８上に所定枚数（例えば５０枚）整列され
る。

【０００５】そして、前記各供給口１０２、１０３から
供給される洗浄処理液は、前記拡散板１０４に突き当た
った後その周囲に拡散し、その後前記整流板１０７の流
通孔１０６を通過して処理槽１０１内に供給されるが、
オーバーフローした洗浄処理液は、処理槽１０１の前後
に設けられた受容外槽１０９から、フィルタ装置１１０
を介して、ポンプ１１１によって再び前記供給口１０
２、１０３へと循環供給されるように構成されている。

【０００６】ところで前記洗浄処理液は、その中に気泡
が発生することがあるが、例えば処理液としてフッ酸を
使用した場合、かかる気泡がゴミの温床となりウエハＷ
表面を汚染してしまうおそれがある。しかもそのような
気泡は前記各供給口１０２、１０３から上昇するにつれ
て液圧の低下に伴って大きくなるが、前記ウエハＷはウ
エハ保持具１０８に設けられた溝にその周縁部が受容さ
れて整列されているだけなので、かかる気泡によってウ
エハＷが振動し、その結果前記溝部と周縁部との接触部
からコンタネーションが発生するおそれがあり、問題が
ある。そのため従来は、前記したフィルタ装置１１０に
よって泡を捕獲するようにし、捕獲した気泡は、前記受
容外槽１０９に移送するようにしていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記洗浄
処理液は、ポンプ１１１によって相応の圧力、例えば２
［kgf/cm²］程度の圧力が加わっており、そのため発生
した気泡は、供給途中では極めて小さいものとなってい
る。従って、従来のようなフィルタ装置１１０では前記
洗浄処理液中の気泡を充分に捕獲することができなかっ
たのである。そのため前記従来の技術では、気泡による
上述の汚染が懸念されていた。

【０００８】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、処理槽内に混入した気泡を槽内の被処理体間を通
さずに槽外部へと移送するようにして、気泡によるウエ
ハの汚染を防止する洗浄装置を提供して、上記問題の解
決を図るものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１によれば、下方に洗浄処理液の供給口を有
する処理槽と、この処理槽内に供給される前記洗浄処理
液中に浸漬される被処理体と上記供給口との間に配置さ
れる複数の流通孔が穿設された整流手段とを有する洗浄
装置において、前記整流手段の下側に気泡溜め部を設
け、さらにこの気泡溜め部から前記洗浄処理液の液面外
方へと通ずる気泡排出流路を設けたことを特徴とする、
洗浄装置が提供される。

【００１０】また請求項２によれば、前記整流手段の流
通孔は被処理体の整列方向と同一方向に長い長孔形状を
有し、さらに前記整流手段よりも小さい一枚の板材によ
って構成された拡散板を、前記整流手段と前記供給口と
の間に備えたことを特徴とする、洗浄装置が提供され
る。

【００１１】かかる場合、請求項３に記載したように、
拡散板と整流手段とを、適宜の板材の辺又は面によって
一体化すれば好ましい。そして請求項４に記載したよう
に、前記拡散板は、その長辺が被処理体の整列方向と同
一方向に長い長方形であれば好ましい。

【００１２】また請求項５に記載したように、前記拡散
板の下面に、供給口の真上部分を中心としてガイド突条
を略放射状に設けてもよく、さらにその場合、請求項６
に記載したように、供給口は１カ所であってもよい。

【００１３】以上のように構成された各洗浄装置におい
て、請求項７に記載したように、前記整流手段に設けら
れる流通孔は、被処理体の整列方向と同一方向に長いス
リットとして形成してもよい。このスリットの幅は、請
求項８に記載したように、３mm以上、より好ましくは５
mm以上の方が良い結果が得られ、またスリット相互間の
並列間隔についても、請求項９に記載したように、３０
mm以上であることが好ましい。さらに請求項１０に記載
したように、スリットの縦断面形状は、上面側が広く開
口したテーパ形状としてもよい。

【００１４】また請求項１１、１２に記載したように、
整流手段の両側が、両側端部に向けて上方に傾斜した形
状を有していてもよい。

【００１５】請求項１３に記載したように、整流手段両
側の傾斜部分の下面に、被処理体の整列方向に沿った気
泡溜め構成板材を設け、前記傾斜部分とこの気泡溜め板
材とによって形成された縦断面略三角形の部分で、前記
気泡溜め部を構成するようにしてもよい。この場合、請
求項１４に記載したように、前記気泡溜め構成板材と処
理槽底部との間の空隙を、拡散板と処理槽底部との空隙
よりも大きく設定してもよい。なお整流手段における傾
斜部分の傾斜仰角は、５〜５０゜、より好ましくは１０
〜３５゜に設定すればよい。

【００１６】そして請求項１６に記載したように、以上
の各請求項１〜１５の洗浄装置において、処理槽内の底
部両側についても、両側端部に向けて上方に傾斜した形
状としてもよい。

【００１７】

【作用】請求項１によれば、供給口から処理槽内に供給
された洗浄処理液中に、仮に気泡が混入していても、そ
の浮力によってこれら気泡は拡散板の周縁部から上昇し
て気泡溜め部で溜められ、さらに気泡排出流路から、洗
浄処理液面外方へと排出される。従って、処理槽内に供
給された洗浄処理液中に気泡が混入していても、この処
理槽内にある被洗浄処理体に影響を与えない。

【００１８】また請求項２によれば、さらに拡散板が整
流手段よりも小さい単一の板材によって形成されてお
り、しかも流通孔は被処理体の整列方向と同一方向に長
い長孔形状を有しているので、拡散板の両側端部から上
昇する洗浄処理液の流速は均一化され、これらは長孔形
状の流通孔を通じて被洗浄処理体へと流れるので、洗浄
処理液の流れは均一化されて、循環効率が向上する。

【００１９】請求項３に記載したように、拡散板と整流
手段とを、適宜の板材の辺又は面によって一体化すれ
ば、整流手段自体と一体化する際の接合部分の面積が増
大し、例えば整流手段を拡散板によって支持する場合、
強度的にも好ましい。

【００２０】請求項４に記載したように、拡散板を長い
長方形とすれば、供給口から供給される洗浄処理液が、
拡散板に当接した後この拡散板によって両側方向に均等
に振り分けることが容易になる。

【００２１】また請求項５に記載したように、前記拡散
板の下面に、供給口の真上部分を中心としてガイド突条
を略放射状に設ければ、供給口から供給される洗浄処理
液はこのガイド突条に沿って略放射状に案内されて拡散
して均等に振り分けられ、その結果洗浄処理液流の流速
が均一化される。この場合、請求項６に記載したよう
に、供給口が１カ所であれば、前記洗浄処理液流の流速
の均一化が向上し、しかも供給口周りの配管が簡素化さ
れる。

【００２２】請求項７に記載したように、前記整流手段
に設けられる流通孔を、被処理体の整列方向と同一方向
に長いスリットとした場合には、各被処理体に対して洗
浄処理液流が均等に流れ、処理の均一化を向上させるこ
とができる。そして請求項８に記載したように、スリッ
トの幅を３mm以上、より好ましくは５mm以上とすれば、
気泡によるブリッジができない。また請求項９に記載し
たように、スリット相互間の並列間隔についても、３０
mm以上とすれば、特に被処理体が半導体ウエハ程度の大
きさを有する場合に有効であり、さらに請求項１０に記
載したように、スリットの縦断面形状は、上面側が広く
開口したテーパ形状とすれば、洗浄処理液がスリットか
ら拡散して被処理体に対して流れるので、処理の均一化
が向上するものである。

【００２３】また請求項１１、１２に記載したように、
整流手段の両側が、両側端部に向けて上方に傾斜した形
状を持たせれば、洗浄処理液流に乱流が発生しない。そ
して請求項１３に記載したように、傾斜部分の下面に、
被処理体の整列方向に沿った気泡溜め構成板材を設け、
前記傾斜部分とこの気泡溜め板材とによって形成された
縦断面略三角形の部分で、前記気泡溜め部を構成すれ
ば、少ない部材で効果的な気泡溜め部を形成することが
ができる。この場合、請求項１４に記載したように、前
記気泡溜め構成板材と処理槽底部との間の空隙を、拡散
板と処理槽底部との空隙よりも大きく設定すれば、洗浄
処理液流の均一な分布が容易になる。

【００２４】請求項１５に記載したように、整流手段に
おける傾斜部分の傾斜仰角を、５〜５０゜、より好まし
くは１０〜３５゜に設定すれば、被処理体に対する洗浄
処理液の流速を適切なものに設定できる。

【００２５】請求項１６に記載したように、処理槽内の
底部両側に、上方への傾斜部分を形成すれば、デッドス
ペースを少なくし、かつ洗浄に必要な処理槽内容積小さ
くすることができる。

【００２６】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明すると、本実施例は半導体ウエハ（以下、「ウエ
ハ」という）の洗浄装置において適用された例であり、
まずその洗浄装置について説明すると、この洗浄装置１
全体は、図１に示したように、洗浄処理前のウエハをキ
ャリア単位で収容する搬入部２と、ウエハの洗浄処理が
行われる洗浄処理部３と、洗浄処理後のウエハをカセッ
ト単位で取り出すための搬出部４の、３つのゾーンによ
って構成されている。

【００２７】前記搬入部２には、洗浄処理前のウエハが
所定枚数、例えば２５枚収納されたキャリア５を待機さ
せる待機部６と、キャリア５からのウエハの取り出し、
オリフラ合わせ及び枚葉検出等を行うローダ部７が設け
られており、さらに外部から搬送ロボットなどによって
搬入されるキャリア５の前記待機部６への搬送、及びこ
の待機部６と前記ローダ部７との間で、キャリア５の搬
送を行うための搬送アーム８が設けられている。

【００２８】前記洗浄処理部３には、その前面側（図１
における手前側）に３つのウエハ搬送装置１１、１２、
１３が配列されており、また前記洗浄処理部３の上方に
は、前記ウエハ搬送装置１１、１２、１３によってウエ
ハが取り出された後の空のキャリア５を、洗浄、乾燥処
理するキャリア洗浄・乾燥ライン１４が前記洗浄処理部
３に沿って設けられている。このキャリア洗浄・乾燥ラ
イン１４へのキャリアの供給は、前出ローダ部７と昇降
機構１５によって行われる。また前記洗浄処理部３の背
面側には、隔壁を介して薬液等の処理液を収容するタン
クや各種の配管群等を収容する配管領域１６が形成され
ている。

【００２９】一方、搬出部４においても、前記昇降機構
１５と同様な昇降機構（図示せず）が設けられており、
前記洗浄・乾燥ライン１４を経た空のキャリア５は、こ
の昇降機構によって搬出部４内の所定の受け取り位置に
セットされるように構成されている。

【００３０】前記洗浄処理部３には、前記ローダ部７側
から順に、前記ウエハ搬送装置１１のウエハチャック１
７を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽２１、ウ
エハ表面の有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の
不純物質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽２
２、前記薬液洗浄処理槽２２で洗浄されたウエハを例え
ば純水によって洗浄する２つの水洗洗浄処理槽２３、２
４、前記薬液洗浄処理槽２２における薬液とは異なった
薬液で洗浄処理する薬液洗浄処理槽２５、前記薬液洗浄
処理槽２５で洗浄されたウエハを例えば純水によって洗
浄する２つの水洗洗浄処理槽２６、２７、前記ウエハ搬
送装置１３のウエハチャック１９を洗浄、乾燥するチャ
ック洗浄・乾燥処理槽２８、及び前記不純物質が除去さ
れたウエハを、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）等で蒸気乾燥させるための乾燥処理槽２９が夫々配
設されている。また前記薬液洗浄処理槽２２、２５は夫
々の洗浄処理液がオーバーフローして循環し、この循環
時にそれぞれの洗浄処理液内に蓄積された不純物が除去
されるように構成されている。

【００３１】これら各薬液洗浄処理槽２２、２５、並び
に水洗洗浄処理槽２３、２４、２６、２７は基本的に同
一構成を有しており、例えば薬液洗浄処理槽２２の構成
を図２、図３、図４に基づいて説明すると、この薬液洗
浄処理槽２２は、洗浄処理に使用される薬液を収容する
矩形状の処理槽３１と、この処理槽３１を形成する前後
壁間に渡されたウエハ保持具４１と、図４に示した整流
手段５１とによって構成されている。

【００３２】前記処理槽３１は、循環管路３２を通じて
別設のポンプ（図示せず）によって供給される薬液の供
給口３３をその底部２カ所に有している。

【００３３】一方前記ウエハ保持具４１は、３本の保持
棒４２、４３、４４によって構成されており、これら各
保持棒４２、４３、４４の表面には、被洗浄処理体であ
るウエハＷを保持するための保持溝４５が、一定間隔の
下で例えば５０本形成されており、前出ウエハチャック
１７によって把持された５０枚のウエハＷは、その各周
縁部がこれら各保持棒４２、４３、４４の各保持溝４５
内に受容されることによって、前記ウエハ保持具４１に
一括して保持されるように構成されている。

【００３４】また前記整流手段５１は、前記ウエハ保持
具４１の下方にて処理槽３１を上下に区画して水平に配
設された例えば石英製の整流板５２と、この整流板５２
と長手方向が同一の長さでかつ両側部のみが短く、支持
柱５３を介して前記整流板５２と平行に配設される拡散
板５４とによって構成されている。

【００３５】前記整流板５２には、その中央部長手方向
に、前記保持棒４２と略同一の長さを有する４本のスリ
ット５５、５６、５７、５８が形成され、さらにこの整
流板５２の両側端近傍には、多数の小孔５９が、一定間
隔、例えば前出保持溝４５と同一間隔でかつ各保持溝４
５相互間に位置するように穿設されている。即ち例えば
これら各小孔５９は直径約２．８mmで、各側に４９個ず
つ形成される。

【００３６】前記各スリット５５、５６、５７、５８は
同形同大であり、その幅は３mm以上、例えば５mmであ
り、またスリット５５、５６及びスリット５７、５８間
の間隔は夫々３５mm、スリット５６、５７間の間隔は３
０mm（いずれもスリットの中心からの距離）である。さ
らに前出３本の保持棒４２、４３、４４は、これら各ス
リット５５、５６、５７、５８相互の間の上方に位置す
るように設定されている。そして例えばスリット５５、
５６、５７、５８、並びに小孔５９及び整流板５２の両
側縁と処理槽３１の内壁との間の位置、寸法は、整流板
５２から処理槽３１の上部開口へ向かって洗浄液の平行
流が形成されるように選択される。さらにいえば整流板
５２の両側縁と処理槽３１の内壁との間の隙間を通る洗
浄液の流れのみで、スリット５５、５６、５７、５８を
通る洗浄液の流れと、平行流を形成するためのバランス
がとれる場合には、小孔５９を省略することも可能であ
る。

【００３７】なお本実施例においては、前記したように
スリット５５、５８がウエハ保持具４１の保持棒４２、
４４よりも外側に位置し、３本の保持棒４２、４３、４
４が、各スリット５５、５６、５７、５８の相互の間の
上方に位置するように位置していたが、これに代えて例
えば図５に示したように、スリット５５、５６がウエハ
保持具４１の保持棒４２’と保持棒４３’との間、また
スリット５７、５８が、ウエハ保持具４１の保持棒４
３’と保持棒４４’との間に位置するように設定しても
よい。さらにいずれの場合であっても、各スリット５
５、５６、５７、５８自体の断面形状も、図６に示した
ように、上に向かって広がるテーパ形状としてもよい。

【００３８】そして前記整流板５２の下面おける前記ス
リット５５と一端部の小孔５９列との間、及び前記スリ
ット５８と他端部の小孔５９列との間には、夫々気泡溜
め部６１、６２が長手方向に沿って形成されている。こ
れら各気泡溜め部６１、６２は夫々同一の構成を有し、
その整流板５２の下面から高さが５mm程度の長側板６
３、短側板６４が夫々垂下されて、これら各長側板６
３、短側板６４によってその四側が囲まれ、底面のみが
開口した形態を有している。そして前記各気泡溜め部６
１、６２のいわば天板を形成する整流板５２の一端部に
は、夫々脱泡孔６５が夫々設けられ、さらにこの整流板
５２の上面側には、これら各脱泡孔６５、６５の周縁部
から各々立ち上がる気泡抜き管６６、６７が設けられて
いる。

【００３９】前記各気泡抜き管６６、６７は左右対称に
構成されており、その各排出開口部６８は、処理槽３１
の両側外方にて、下向けに位置している。なおこれら排
出開口部６８は、例えば既述した従来一般的に処理槽外
部に設けられている受容外槽に向けてもよく、また直接
この洗浄装置１の排液系へと通ずるように位置させても
よい。

【００４０】前出拡散板５４の前後端部には、夫々返し
板７１、７１が夫々垂下されており、またこの拡散板５
４の左右の各側端部は、図２、図３に示したように、こ
れら左右の各側端部の上方に前記各気泡溜め部６１、６
２が位置するように構成されている。

【００４１】一方この洗浄装置１の排気系は図７に示し
たように構成されている。即ち例えば各チャック洗浄・
乾燥処理槽２１、薬液洗浄処理槽２２、前記薬液洗浄処
理槽２２、水洗洗浄処理槽２３、２４、・・・という各
洗浄処理槽毎にその下方内部空間が、空間Ａ、Ｂ、Ｃ、
Ｄ・・・というように仕切られ、これら各空間Ａ、Ｂ、
Ｃ、Ｄの各背面側に、夫々長方形の排気口８１が形成さ
れている。そしてこれら各排気口８１と洗浄装置１の背
面板８２との間には、例えばダクトなどによって構成さ
れる集合排気部８３が形成され、各排気口８１はこのこ
の集合排気部８３内に通じている。そしてこの集合排気
部８３は、洗浄装置１全体の集中排気装置（図示せず）
へと通じている。

【００４２】前記各排気口８１には、図８に示したよう
なプッシュ型ダンパ８４が集合排気部８３内に設けられ
ている。即ちこのプッシュ型ダンパ８４は、前記排気口
８１を覆う形態の長方形のダンパ部８５、このダンパ部
８５にその一端が固着され、その他端は背面板８２から
気密に突出しているシャフト８６、背面板８２における
集合排気部８３側に固着されてその内部に前記シャフト
８６を摺動自在に挿通させている支持部８７、前記シャ
フト８６の前記突出端部に設けられたノブ８８によって
構成されている。

【００４３】そして前記ダンパ部８５の排気口８１側端
面には、該排気口８１の周縁部に密着する気密シール材
８９が設けられており、前記ノブ８８の操作によって前
記シャフト８６は任意の位置で停止・固定自在となるよ
うに構成されている。従って例えば前記排気口８１を閉
鎖する際は、図９に示したようにノブ８８を操作して前
記ダンパ部８５を排気口８１側に押圧させればよく、ま
た逆に前記排気口８１を開放するには、前記ノブ８８を
操作して前記ダンパ部８５を引き戻すようにすればよ
い。以上のような構成、作用によって排気口８１の開度
は、０〜１００％の間の任意の値に自在に設定すること
が可能となっている。

【００４４】本実施例が適用された洗浄装置１は以上の
ように構成されており、次にその作用について図２、図
３に基づいて説明すると、供給口３２から適宜の圧力を
もって供給された洗浄処理用の薬液は、まず拡散板５２
によってその周囲へと拡散されようとするが、この拡散
板５２の前後端部には、夫々返し板７１、７１が垂下し
ているので、拡散板５２の前後端部への拡散は阻止さ
れ、拡散板５２の左右両側への拡散へと方向づけられ、
薬液は拡散板５２の左右両側端部から上昇する。

【００４５】そしてこの拡散板５２左右両側端部の上方
には、夫々気泡溜め部６１、６２が位置しているから、
薬液中に気泡が混入していた場合、この気泡はこれら気
泡溜部６１、６２内に溜められる。またこれら気泡溜め
部６１、６２の一端部には、夫々脱泡孔６５が設けら
れ、さらにこれら各脱泡孔６５は、夫々気泡抜き管６
６、６７と通じているから、次々と気泡溜め部６１、６
２内に溜まってある程度大きくなった気泡は、前記各脱
泡孔６５から気泡抜き管６６、６７を通じて、処理槽３
１外部へと放出されるのである。従って、ウエハＷの洗
浄処理に使用される薬液中に気泡が混入していても、整
流板５２によって区画された上方の洗浄空間内にこれら
気泡が侵入することはなく、気泡によるウエハＷに対す
る汚染、振動等が発生するおそれはないものである。

【００４６】さらにまた前記気泡溜め部６１、６２を形
成している長側板６１をかいくぐった薬液流は、前出長
側板６３によって整流され、この長側板６１によってさ
らに均一、整流化されている。従って、スリット５５、
５６、５７、５８側へと流れる薬液流は、スリット５
５、５６、５７、５８を通じて各ウエハＷ間へと均一に
上昇し、各ウエハＷに対する均一な洗浄処理が実施され
る。

【００４７】従来の拡散板は小さい円板形であってしか
も、各供給口の各上方に個別に設けられており、そのた
め供給口に近い部分と、離れた部分とでは流速に差が生
じ、その結果、各ウエハＷ間の流れを均一にすることは
困難で、循環効率（比抵抗回復特性）もあまり良くなか
ったが、前記拡散板５４は一枚の板材で構成され、その
左右両側端部から拡散するようにしているので、薬液流
は整流化され、供給口３３からの距離の影響を受けず、
均一な薬液流が実現されている。従ってスリット５５、
５６、５７、５８から上昇する薬液の流速は均一化され
ており、循環効率も向上し、前記したウエハＷの均一な
洗浄処理が可能となっている。

【００４８】なお図２に示したように、前記拡散板５４
の左右両側端部から上昇した薬液流は、気泡溜め部６
１、６２を境として左右に分流されているので、例えば
外側の長側板６１の高さを適宜調整したり、また小孔５
９の数、大きさを適宜調整することによって、スリット
５５、５６、５７、５８側へと流れる薬液の流速を適切
なものに調整することも可能である。

【００４９】一方排気系について言えば、図７に示した
ように、本実施例が適用された洗浄装置１においては、
各洗浄処理槽の排気に関しては、プッシュ型ダンパ８４
が採用され、しかも各排気口８１は、各洗浄処理槽の背
面側と背面板８２との間に形成されたいわばダクト構成
による集合排気部８３と通じているので、洗浄装置１の
スペースを有効に使用することが可能になっている。

【００５０】即ち従来この種の排気系については、各洗
浄処理槽毎の排気がバタフライ型ダンパによって行われ
ていたため、バタフライバルブの回動スペースとは別に
集合排気部を各洗浄処理槽の下方に設ける必要があり、
その結果、例えば各洗浄処理槽のメンテナンススペース
が殆ど確保できないというが問題が生じていた。しかし
ながら前記プッシュ型ダンパ８４は、集合排気部８３の
中に設けることができるので、上記のスペースの問題は
改善され、その結果、各洗浄処理槽下方に必要なメンテ
ナンススペースを確保することが可能になっている。な
お既述の如く、前記プッシュ型ダンパ８４のダンパ部８
５は長方形であったが、もちろん排気口の形状に合わせ
た各種の形状、例えば円形、正方形等の形状に合わせる
ことが可能であり、設計上の自由度も高いものである。

【００５１】次に他の実施例について説明すると、図１
０は他の実施例における処理槽９１の下部の断面を模式
的に示しており、本実施例における整流板９２は、図示
の如くその両側に、所定の傾斜仰角θ₁をもって上方に
傾斜した傾斜部９２ａ、９２ｂを有している。なおその
他、前出実施例と同一の番号をもって引用される部材
は、前出実施例と同一の部材構成を有している。そして
これら傾斜部９２ａ、９２ｂの傾斜仰角θ₁は、例えば
１５〜３０゜に設定されている。また処理槽９１の底部
両側も、傾斜仰角θ₂をもって傾斜部９１ａ、９１ｂが
夫々設定されている。この傾斜仰角θ₂の大きさは、前
記整流板９２の傾斜仰角θ₁と同一でもよいが、好まし
くは、θ₂＞θ₁の関係を有するように設定する。

【００５２】また前記傾斜部の９２ａ、９２ｂの下面に
は、気泡溜め部構成材９３、９３が夫々固着されてお
り、この気泡溜め部構成材９３、９３の中央側（供給口
３３側）と傾斜部と９２ａ、９２ｂとによって形成され
る縦断面が略三角形の部分が、各々気泡溜め部９４、９
４を形成している。そしてこれら気泡溜め部９４、９４
に溜まってある程度大きく成長した気泡は、前出実施例
と同様、脱泡孔（図示せず）から、気泡抜き管（図示せ
ず）を通じて、処理槽９１外部へと排気されるようにな
っている。

【００５３】また本実施例においては、前記整流板９２
の傾斜部９２ａ、９２ｂの気泡溜め部構成材９３、９３
下端から処理槽９１の傾斜部９１ａ、９１ｂまでの距離
Ｌが、拡散板５４の両側端部から処理槽９１の傾斜部９
１ａ、９１ｂまでの距離Ｍよりも長く設定されている。

【００５４】以上のように構成された実施例において
も、供給口３３から供給される薬液中に気泡が混入して
いる場合、拡散板５４によって両側に振り分けられて夫
々気泡溜部９４内に集積され、その後脱泡孔（図示せ
ず）から、気泡抜き管（図示せず）を通じて、処理槽９
１外部へと排気される。そのうえこれら気泡溜部９４、
９４は、整流板９２の傾斜部９２ａ、９２ｂに気泡溜め
部構成材９３を取り付けるだけでよいので、前出実施例
における処理槽３１の場合よりも構成が簡素化されてい
る。

【００５５】しかもこの実施例では、既述の如く整流板
９２の両側に傾斜部９２ａ、９２ｂが形成されているの
で、乱流が発生せず、薬液の流れを整流化して均一にウ
エハＷへと流出させることが可能になっており、洗浄処
理の均一化がいっそう向上している。

【００５６】また整流板９２の傾斜部９２ａ、９２ｂの
気泡溜め部構成材９３、９３下端から処理槽９１の傾斜
部９１ａ、９１ｂまでの距離Ｌが、拡散板５４の両側端
部から処理槽９１の傾斜部９１ａ、９１ｂまでの距離Ｍ
よりも長く設定されているので、流体のコンダクタンス
の関係から、拡散板５４による拡散（両側への振り分
け）に伴う薬液のウエハＷへの流れを均等に制御してい
る。従って、この点からも洗浄処理の均一化が図れる。

【００５７】その他処理槽９１自体の底部の両側にも傾
斜部９１ａ、９１ｂが形成されているので、デッドスペ
ースや澱みの発生する部分が減少しており、真に必要な
処理槽９１内容積が小さくなっている。従って、必要と
する薬液の量が節約でき、ランニングコストもより低廉
にものとなっている。

【００５８】なお前出各実施例で用いた拡散板５４は、
その裏面が平坦に成形されたものであったが、これに代
えて図１１に示した拡散板９６を用いてもよい。この拡
散板９６の大きさは前出拡散板５４と同一であるが、そ
の裏面には図１１に示したガイド突条９７が設けられて
いる。より詳述すると、前出２つの供給口３３の真上に
位置する部分９８ａ、９８ｂを中心として、略放射状に
図１２に示したガイド突条９７を拡散板９６の裏面に固
着した構成を有している。本実施例においては、このガ
イド突条９７を、石英等の断面正方形（１辺が約３mm）
の角材によって構成している。

【００５９】かかる構成の拡散板９６を用いれば、供給
口から供給された洗浄処理液が、拡散板９６に突き当た
って拡散する場合、ガイド突条９７によって案内される
ので、整流効果が大きい。しかも気泡が混入していた場
合、これをガイド突条９７に沿った形、即ち略放射状に
均等に分散させることが可能である。従って、気泡混入
に伴って拡散する場合の流速が、区々になることを防止
でき、より一層ウエハＷに対して均一に流すことが可能
である。

【００６０】もちろんかかるガイド突条９７の形状は、
前記したように断面正方形に限らず、図１３に示したよ
うに、断面が略三角形の角材を用いたガイド突条９９と
してもよい。いずれにしても、供給口から出た洗浄処理
液を案内して均等に分散できるものであれば、その形状
を問わないものである。

【００６１】なお上記実施例はウエハの洗浄装置におけ
る洗浄処理槽に適用した例であったが、本発明はこれに
限らず、例えばＬＣＤガラス基板等の洗浄処理槽に対し
ても適用可能である。

【００６２】

【発明の効果】請求項１によれば、供給口から処理槽内
に供給された洗浄処理液中に、気泡が混入していても、
これら気泡は気泡溜め部から気泡排出流路を通じて、洗
浄処理液外方へと排出されるので、処理槽内にある被洗
浄処理体が気泡によって汚染するおそれはない。請求項
２によれば、前記効果に加えて、被洗浄処理体間に流れ
る洗浄処理液の循環効率を向上させて、これを均一化す
ることが可能であるから、洗浄処理効率が向上し、均一
な洗浄処理も可能となる。請求項３によれば、整流手段
における流通孔面積が増大しても、その強度を十分に保
つことが可能である。請求項４によれば、洗浄処理液流
を両側方向に均等に振り分けることが容易になり、洗浄
処理の均一化に寄与する。請求項５によれば、流速に影
響を与える気泡を均等に振り分けることができるので、
洗浄処理液流の流速が均一化され、洗浄処理の均一化が
向上する。請求項６によれば、洗浄処理液流の流速の均
一化がさらに向上し、しかも供給口周りの配管が簡素化
される。請求項７によれば、各被処理体に対して洗浄処
理液流が均等に流れ、処理の均一化を向上させることが
でき、特に請求項８に記載したように、スリットの幅を
３mm以上、より好ましくは５mm以上とした場合には、気
泡によるブリッジも発生せず、巨大な気泡成長による悪
影響を防止できる。請求項９によれば、被処理体が半導
体ウエハ程度の大きさを有する場合に有効である。請求
項１０によれば、洗浄処理液がスリットから拡散して被
処理体に対して流れるので、処理の均一化が向上するも
のである。請求項１１、１２によれば、洗浄処理液流に
乱流が発生せず、処理の均一化が向上する。請求項１３
によれば、前記したように乱流を防止すると共に、少な
い部材で効果的な気泡溜め部を形成することができる。
請求項１４によれば、さらに洗浄処理液流の均一な分布
が容易になる。請求項１５によれば、被処理体に対する
洗浄処理液の流速を適切なものに設定できる。請求項１
６によれば、デッドスペースを少なくし、かつ洗浄に必
要な処理槽内容積小さくできるので、真に必要な洗浄処
理液の量を低減させて、ランニングコストを抑えること
が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例が好適に使用されるウエハの洗
浄装置の斜視図である。

【図２】実施例の断面説明図である。

【図３】実施例の要部斜視図である。

【図４】実施例における整流手段の斜視図である。

【図５】スリットの配置を変えた他の整流手段の要部断
面説明図である。

【図６】スリットの形状をテーパ状にした他の整流手段
の要部断面説明図である。

【図７】本発明の実施例が好適に使用されるウエハの洗
浄装置における排気系の説明図である。

【図８】図７の排気系に使用されたプッシュ型ダンパが
開放状態にあるときの断面説明図である。

【図９】図７の排気系に使用されたプッシュ型ダンパが
閉鎖状態にあるときの断面説明図である。

【図１０】他の実施例にかかる処理槽の下部の断面を模
式的に示した説明図である。

【図１１】拡散板の他の例を示す底面図である。

【図１２】図９の拡散板の側面説明図である。

【図１３】拡散板の他の変形例の側面説明図である。

【図１４】従来の洗浄装置における処理槽の説明図であ
る。

【符号の説明】

１洗浄装置３１処理槽３３供給口４１ウエハ保持具５２整流板５４拡散板５５、５６、５７、５８スリット６１、６２気泡溜め部６５脱泡孔６６、６７気泡抜き管６８排出開口部Ｗウエハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下方に洗浄処理液の供給口を有する処理
槽と、この処理槽内に供給される前記洗浄処理液中に浸
漬される被処理体と前記供給口との間に配置される複数
の流通孔が穿設された整流手段とを有する洗浄装置にお
いて、前記整流手段の下側に気泡溜め部を設け、さらにこの気
泡溜め部から前記洗浄処理液の液面外方へと通ずる気泡
排出流路を設けたことを特徴とする、洗浄装置。
【請求項２】前記整流手段の流通孔は被処理体の整列
方向と同一方向に長い長孔形状を有し、さらに前記整流
手段よりも小さい枚の板材によって構成された拡散板
を、前記整流手段と前記供給口との間に備えたことを特
徴とする、請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】前記拡散板と整流手段とは、板材の辺又
は面によって一体化されていることを特徴とする、請求
項２に記載の洗浄装置。
【請求項４】前記拡散板は、その長辺が被処理体の整
列方向と同一方向に長い長方形であることを特徴とす
る、請求項２又は３に記載の洗浄装置。
【請求項５】前記拡散板の下面に、供給口の真上部分
を中心としてガイド突条が略放射状に設けられているこ
とを特徴とする、請求項２、３又は４に記載の洗浄装
置。
【請求項６】供給口は１カ所であることを特徴とす
る、請求項５に記載の洗浄装置。
【請求項７】前記整流手段の流通孔は被処理体の整列
方向と同一方向に長いスリットであることを特徴とす
る、請求項１、２、３、４、５又は６に記載の洗浄装
置。
【請求項８】スリットの幅は、３mm以上であることを
特徴とする、請求項７に記載の洗浄装置。
【請求項９】スリット相互間の並列間隔は、３０mm以
上であることを特徴とする、請求項７又は８に記載の洗
浄装置。
【請求項１０】スリットの縦断面形状は、上面側が広
く開口したテーパ形状であることを特徴とする、請求項
７、８又は９に記載の洗浄装置。
【請求項１１】整流手段の両側が、上方に傾斜した形
状を有することを特徴とする、請求項１に記載の洗浄装
置。
【請求項１２】整流手段の両側が、上方に傾斜した形
状を有することを特徴とする、請求項２、３、４、５、
６、７、８、９又は１０に記載の洗浄装置。
【請求項１３】整流手段両側の傾斜部分の下面に、被
処理体の整列方向に沿った気泡溜め構成板材を設け、前
記傾斜部分とこの気泡溜め板材とによって形成された縦
断面略三角形の部分で前記気泡溜め部が構成されたこと
を特徴とする、請求項１２に記載の洗浄装置。
【請求項１４】前記気泡溜め構成板材と処理槽底部と
の間の空隙が、拡散板と処理槽底部との空隙よりも大き
いことを特徴とする、請求項１３に記載の洗浄装置。
【請求項１５】傾斜部分の傾斜仰角は５〜５０゜であ
ることを特徴とする、請求項１１、１２、１３又は１４
に記載の洗浄装置。
【請求項１６】処理槽内底部両側が、上方に傾斜した
形状を有することを特徴とする、請求項１、２、３、
４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１
４又は１５に記載の洗浄装置。