JPH0878381A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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JPH0878381A
JPH0878381A JP6218088A JP21808894A JPH0878381A JP H0878381 A JPH0878381 A JP H0878381A JP 6218088 A JP6218088 A JP 6218088A JP 21808894 A JP21808894 A JP 21808894A JP H0878381 A JPH0878381 A JP H0878381A
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JP
Japan
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cleaning
bubble
cleaning device
plate
rectifying means
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Application number
JP6218088A
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English (en)
Inventor
Shigenori Kitahara
重徳 北原
Shoji Terada
尚司 寺田
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Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Kyushu Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Kyushu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄処理槽内に供給される洗浄処理液中に気
泡が混入していても、洗浄処理液に浸漬される被洗浄体
が気泡によって汚染されることを防止する。 【構成】 処理槽31の供給口33の上方に位置する拡
散板54の両側端部の上方に位置するように、整流板5
2の下面に気泡溜め部61、62を設ける。脱泡孔65
を介してこれら気泡溜め部61、62と通ずる気泡抜き
管66、67を整流板52の上方に設け、気泡抜き管6
6、67の排出開口部68を処理槽31外部に配置す
る。供給口33から供給される、洗浄処理液中の気泡
は、気泡溜め部61、62から気泡抜き管66、67を
通じて、処理槽31外部へ排出されるので、ウエハWは
気泡の影響を全く受けない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】例えばLSI等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)表面のパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄処理装置が使用されており、
その中でもとりわけウエット洗浄装置は、前記コンタミ
ネーションを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能
でスループットが良好なため、幅広く普及している。
【0003】かかるウエット洗浄装置においては、被洗
浄処理体であるウエハに対してアンモニア処理、フッ酸
処理、硫酸処理、塩酸処理などの薬液洗浄処理、並びに
純水等による水洗洗浄処理が行われるように構成されて
いる。そしてこれら各薬液洗浄処理や水洗洗浄処理は、
各種洗浄液が供給される洗浄装置の処理槽内にて行われ
るが、従来の洗浄装置は概ね図14に示したように構成
されていた。
【0004】即ち、処理槽101の底部に洗浄処理液の
供給口102、103が設けられ、さらにこれら各供給
口102、103の上方には、夫々円板状の拡散板10
4が個別に配置されている。そしてこれら拡散板10
4、104の上方には、流通孔106を複数有する整流
板107が水平に配置されており、被洗浄処理体である
ウエハWは、前記整流板107の上方に位置するウエハ
保持具108上に所定枚数(例えば50枚)整列され
る。
【0005】そして、前記各供給口102、103から
供給される洗浄処理液は、前記拡散板104に突き当た
った後その周囲に拡散し、その後前記整流板107の流
通孔106を通過して処理槽101内に供給されるが、
オーバーフローした洗浄処理液は、処理槽101の前後
に設けられた受容外槽109から、フィルタ装置110
を介して、ポンプ111によって再び前記供給口10
2、103へと循環供給されるように構成されている。
【0006】ところで前記洗浄処理液は、その中に気泡
が発生することがあるが、例えば処理液としてフッ酸を
使用した場合、かかる気泡がゴミの温床となりウエハW
表面を汚染してしまうおそれがある。しかもそのような
気泡は前記各供給口102、103から上昇するにつれ
て液圧の低下に伴って大きくなるが、前記ウエハWはウ
エハ保持具108に設けられた溝にその周縁部が受容さ
れて整列されているだけなので、かかる気泡によってウ
エハWが振動し、その結果前記溝部と周縁部との接触部
からコンタネーションが発生するおそれがあり、問題が
ある。そのため従来は、前記したフィルタ装置110に
よって泡を捕獲するようにし、捕獲した気泡は、前記受
容外槽109に移送するようにしていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記洗浄
処理液は、ポンプ111によって相応の圧力、例えば2
[kgf/cm2]程度の圧力が加わっており、そのため発生
した気泡は、供給途中では極めて小さいものとなってい
る。従って、従来のようなフィルタ装置110では前記
洗浄処理液中の気泡を充分に捕獲することができなかっ
たのである。そのため前記従来の技術では、気泡による
上述の汚染が懸念されていた。
【0008】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、処理槽内に混入した気泡を槽内の被処理体間を通
さずに槽外部へと移送するようにして、気泡によるウエ
ハの汚染を防止する洗浄装置を提供して、上記問題の解
決を図るものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1によれば、下方に洗浄処理液の供給口を有
する処理槽と、この処理槽内に供給される前記洗浄処理
液中に浸漬される被処理体と上記供給口との間に配置さ
れる複数の流通孔が穿設された整流手段とを有する洗浄
装置において、前記整流手段の下側に気泡溜め部を設
け、さらにこの気泡溜め部から前記洗浄処理液の液面外
方へと通ずる気泡排出流路を設けたことを特徴とする、
洗浄装置が提供される。
【0010】また請求項2によれば、前記整流手段の流
通孔は被処理体の整列方向と同一方向に長い長孔形状を
有し、さらに前記整流手段よりも小さい一枚の板材によ
って構成された拡散板を、前記整流手段と前記供給口と
の間に備えたことを特徴とする、洗浄装置が提供され
る。
【0011】かかる場合、請求項3に記載したように、
拡散板と整流手段とを、適宜の板材の辺又は面によって
一体化すれば好ましい。そして請求項4に記載したよう
に、前記拡散板は、その長辺が被処理体の整列方向と同
一方向に長い長方形であれば好ましい。
【0012】また請求項5に記載したように、前記拡散
板の下面に、供給口の真上部分を中心としてガイド突条
を略放射状に設けてもよく、さらにその場合、請求項6
に記載したように、供給口は1カ所であってもよい。
【0013】以上のように構成された各洗浄装置におい
て、請求項7に記載したように、前記整流手段に設けら
れる流通孔は、被処理体の整列方向と同一方向に長いス
リットとして形成してもよい。このスリットの幅は、請
求項8に記載したように、3mm以上、より好ましくは5
mm以上の方が良い結果が得られ、またスリット相互間の
並列間隔についても、請求項9に記載したように、30
mm以上であることが好ましい。さらに請求項10に記載
したように、スリットの縦断面形状は、上面側が広く開
口したテーパ形状としてもよい。
【0014】また請求項11、12に記載したように、
整流手段の両側が、両側端部に向けて上方に傾斜した形
状を有していてもよい。
【0015】請求項13に記載したように、整流手段両
側の傾斜部分の下面に、被処理体の整列方向に沿った気
泡溜め構成板材を設け、前記傾斜部分とこの気泡溜め板
材とによって形成された縦断面略三角形の部分で、前記
気泡溜め部を構成するようにしてもよい。この場合、請
求項14に記載したように、前記気泡溜め構成板材と処
理槽底部との間の空隙を、拡散板と処理槽底部との空隙
よりも大きく設定してもよい。なお整流手段における傾
斜部分の傾斜仰角は、5〜50゜、より好ましくは10
〜35゜に設定すればよい。
【0016】そして請求項16に記載したように、以上
の各請求項1〜15の洗浄装置において、処理槽内の底
部両側についても、両側端部に向けて上方に傾斜した形
状としてもよい。
【0017】
【作用】請求項1によれば、供給口から処理槽内に供給
された洗浄処理液中に、仮に気泡が混入していても、そ
の浮力によってこれら気泡は拡散板の周縁部から上昇し
て気泡溜め部で溜められ、さらに気泡排出流路から、洗
浄処理液面外方へと排出される。従って、処理槽内に供
給された洗浄処理液中に気泡が混入していても、この処
理槽内にある被洗浄処理体に影響を与えない。
【0018】また請求項2によれば、さらに拡散板が整
流手段よりも小さい単一の板材によって形成されてお
り、しかも流通孔は被処理体の整列方向と同一方向に長
い長孔形状を有しているので、拡散板の両側端部から上
昇する洗浄処理液の流速は均一化され、これらは長孔形
状の流通孔を通じて被洗浄処理体へと流れるので、洗浄
処理液の流れは均一化されて、循環効率が向上する。
【0019】請求項3に記載したように、拡散板と整流
手段とを、適宜の板材の辺又は面によって一体化すれ
ば、整流手段自体と一体化する際の接合部分の面積が増
大し、例えば整流手段を拡散板によって支持する場合、
強度的にも好ましい。
【0020】請求項4に記載したように、拡散板を長い
長方形とすれば、供給口から供給される洗浄処理液が、
拡散板に当接した後この拡散板によって両側方向に均等
に振り分けることが容易になる。
【0021】また請求項5に記載したように、前記拡散
板の下面に、供給口の真上部分を中心としてガイド突条
を略放射状に設ければ、供給口から供給される洗浄処理
液はこのガイド突条に沿って略放射状に案内されて拡散
して均等に振り分けられ、その結果洗浄処理液流の流速
が均一化される。この場合、請求項6に記載したよう
に、供給口が1カ所であれば、前記洗浄処理液流の流速
の均一化が向上し、しかも供給口周りの配管が簡素化さ
れる。
【0022】請求項7に記載したように、前記整流手段
に設けられる流通孔を、被処理体の整列方向と同一方向
に長いスリットとした場合には、各被処理体に対して洗
浄処理液流が均等に流れ、処理の均一化を向上させるこ
とができる。そして請求項8に記載したように、スリッ
トの幅を3mm以上、より好ましくは5mm以上とすれば、
気泡によるブリッジができない。また請求項9に記載し
たように、スリット相互間の並列間隔についても、30
mm以上とすれば、特に被処理体が半導体ウエハ程度の大
きさを有する場合に有効であり、さらに請求項10に記
載したように、スリットの縦断面形状は、上面側が広く
開口したテーパ形状とすれば、洗浄処理液がスリットか
ら拡散して被処理体に対して流れるので、処理の均一化
が向上するものである。
【0023】また請求項11、12に記載したように、
整流手段の両側が、両側端部に向けて上方に傾斜した形
状を持たせれば、洗浄処理液流に乱流が発生しない。そ
して請求項13に記載したように、傾斜部分の下面に、
被処理体の整列方向に沿った気泡溜め構成板材を設け、
前記傾斜部分とこの気泡溜め板材とによって形成された
縦断面略三角形の部分で、前記気泡溜め部を構成すれ
ば、少ない部材で効果的な気泡溜め部を形成することが
ができる。この場合、請求項14に記載したように、前
記気泡溜め構成板材と処理槽底部との間の空隙を、拡散
板と処理槽底部との空隙よりも大きく設定すれば、洗浄
処理液流の均一な分布が容易になる。
【0024】請求項15に記載したように、整流手段に
おける傾斜部分の傾斜仰角を、5〜50゜、より好まし
くは10〜35゜に設定すれば、被処理体に対する洗浄
処理液の流速を適切なものに設定できる。
【0025】請求項16に記載したように、処理槽内の
底部両側に、上方への傾斜部分を形成すれば、デッドス
ペースを少なくし、かつ洗浄に必要な処理槽内容積小さ
くすることができる。
【0026】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明すると、本実施例は半導体ウエハ(以下、「ウエ
ハ」という)の洗浄装置において適用された例であり、
まずその洗浄装置について説明すると、この洗浄装置1
全体は、図1に示したように、洗浄処理前のウエハをキ
ャリア単位で収容する搬入部2と、ウエハの洗浄処理が
行われる洗浄処理部3と、洗浄処理後のウエハをカセッ
ト単位で取り出すための搬出部4の、3つのゾーンによ
って構成されている。
【0027】前記搬入部2には、洗浄処理前のウエハが
所定枚数、例えば25枚収納されたキャリア5を待機さ
せる待機部6と、キャリア5からのウエハの取り出し、
オリフラ合わせ及び枚葉検出等を行うローダ部7が設け
られており、さらに外部から搬送ロボットなどによって
搬入されるキャリア5の前記待機部6への搬送、及びこ
の待機部6と前記ローダ部7との間で、キャリア5の搬
送を行うための搬送アーム8が設けられている。
【0028】前記洗浄処理部3には、その前面側(図1
における手前側)に3つのウエハ搬送装置11、12、
13が配列されており、また前記洗浄処理部3の上方に
は、前記ウエハ搬送装置11、12、13によってウエ
ハが取り出された後の空のキャリア5を、洗浄、乾燥処
理するキャリア洗浄・乾燥ライン14が前記洗浄処理部
3に沿って設けられている。このキャリア洗浄・乾燥ラ
イン14へのキャリアの供給は、前出ローダ部7と昇降
機構15によって行われる。また前記洗浄処理部3の背
面側には、隔壁を介して薬液等の処理液を収容するタン
クや各種の配管群等を収容する配管領域16が形成され
ている。
【0029】一方、搬出部4においても、前記昇降機構
15と同様な昇降機構(図示せず)が設けられており、
前記洗浄・乾燥ライン14を経た空のキャリア5は、こ
の昇降機構によって搬出部4内の所定の受け取り位置に
セットされるように構成されている。
【0030】前記洗浄処理部3には、前記ローダ部7側
から順に、前記ウエハ搬送装置11のウエハチャック1
7を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽21、ウ
エハ表面の有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の
不純物質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽2
2、前記薬液洗浄処理槽22で洗浄されたウエハを例え
ば純水によって洗浄する2つの水洗洗浄処理槽23、2
4、前記薬液洗浄処理槽22における薬液とは異なった
薬液で洗浄処理する薬液洗浄処理槽25、前記薬液洗浄
処理槽25で洗浄されたウエハを例えば純水によって洗
浄する2つの水洗洗浄処理槽26、27、前記ウエハ搬
送装置13のウエハチャック19を洗浄、乾燥するチャ
ック洗浄・乾燥処理槽28、及び前記不純物質が除去さ
れたウエハを、例えばIPA(イソプロピルアルコー
ル)等で蒸気乾燥させるための乾燥処理槽29が夫々配
設されている。また前記薬液洗浄処理槽22、25は夫
々の洗浄処理液がオーバーフローして循環し、この循環
時にそれぞれの洗浄処理液内に蓄積された不純物が除去
されるように構成されている。
【0031】これら各薬液洗浄処理槽22、25、並び
に水洗洗浄処理槽23、24、26、27は基本的に同
一構成を有しており、例えば薬液洗浄処理槽22の構成
を図2、図3、図4に基づいて説明すると、この薬液洗
浄処理槽22は、洗浄処理に使用される薬液を収容する
矩形状の処理槽31と、この処理槽31を形成する前後
壁間に渡されたウエハ保持具41と、図4に示した整流
手段51とによって構成されている。
【0032】前記処理槽31は、循環管路32を通じて
別設のポンプ(図示せず)によって供給される薬液の供
給口33をその底部2カ所に有している。
【0033】一方前記ウエハ保持具41は、3本の保持
棒42、43、44によって構成されており、これら各
保持棒42、43、44の表面には、被洗浄処理体であ
るウエハWを保持するための保持溝45が、一定間隔の
下で例えば50本形成されており、前出ウエハチャック
17によって把持された50枚のウエハWは、その各周
縁部がこれら各保持棒42、43、44の各保持溝45
内に受容されることによって、前記ウエハ保持具41に
一括して保持されるように構成されている。
【0034】また前記整流手段51は、前記ウエハ保持
具41の下方にて処理槽31を上下に区画して水平に配
設された例えば石英製の整流板52と、この整流板52
と長手方向が同一の長さでかつ両側部のみが短く、支持
柱53を介して前記整流板52と平行に配設される拡散
板54とによって構成されている。
【0035】前記整流板52には、その中央部長手方向
に、前記保持棒42と略同一の長さを有する4本のスリ
ット55、56、57、58が形成され、さらにこの整
流板52の両側端近傍には、多数の小孔59が、一定間
隔、例えば前出保持溝45と同一間隔でかつ各保持溝4
5相互間に位置するように穿設されている。即ち例えば
これら各小孔59は直径約2.8mmで、各側に49個ず
つ形成される。
【0036】前記各スリット55、56、57、58は
同形同大であり、その幅は3mm以上、例えば5mmであ
り、またスリット55、56及びスリット57、58間
の間隔は夫々35mm、スリット56、57間の間隔は3
0mm(いずれもスリットの中心からの距離)である。さ
らに前出3本の保持棒42、43、44は、これら各ス
リット55、56、57、58相互の間の上方に位置す
るように設定されている。そして例えばスリット55、
56、57、58、並びに小孔59及び整流板52の両
側縁と処理槽31の内壁との間の位置、寸法は、整流板
52から処理槽31の上部開口へ向かって洗浄液の平行
流が形成されるように選択される。さらにいえば整流板
52の両側縁と処理槽31の内壁との間の隙間を通る洗
浄液の流れのみで、スリット55、56、57、58を
通る洗浄液の流れと、平行流を形成するためのバランス
がとれる場合には、小孔59を省略することも可能であ
る。
【0037】なお本実施例においては、前記したように
スリット55、58がウエハ保持具41の保持棒42、
44よりも外側に位置し、3本の保持棒42、43、4
4が、各スリット55、56、57、58の相互の間の
上方に位置するように位置していたが、これに代えて例
えば図5に示したように、スリット55、56がウエハ
保持具41の保持棒42’と保持棒43’との間、また
スリット57、58が、ウエハ保持具41の保持棒4
3’と保持棒44’との間に位置するように設定しても
よい。さらにいずれの場合であっても、各スリット5
5、56、57、58自体の断面形状も、図6に示した
ように、上に向かって広がるテーパ形状としてもよい。
【0038】そして前記整流板52の下面おける前記ス
リット55と一端部の小孔59列との間、及び前記スリ
ット58と他端部の小孔59列との間には、夫々気泡溜
め部61、62が長手方向に沿って形成されている。こ
れら各気泡溜め部61、62は夫々同一の構成を有し、
その整流板52の下面から高さが5mm程度の長側板6
3、短側板64が夫々垂下されて、これら各長側板6
3、短側板64によってその四側が囲まれ、底面のみが
開口した形態を有している。そして前記各気泡溜め部6
1、62のいわば天板を形成する整流板52の一端部に
は、夫々脱泡孔65が夫々設けられ、さらにこの整流板
52の上面側には、これら各脱泡孔65、65の周縁部
から各々立ち上がる気泡抜き管66、67が設けられて
いる。
【0039】前記各気泡抜き管66、67は左右対称に
構成されており、その各排出開口部68は、処理槽31
の両側外方にて、下向けに位置している。なおこれら排
出開口部68は、例えば既述した従来一般的に処理槽外
部に設けられている受容外槽に向けてもよく、また直接
この洗浄装置1の排液系へと通ずるように位置させても
よい。
【0040】前出拡散板54の前後端部には、夫々返し
板71、71が夫々垂下されており、またこの拡散板5
4の左右の各側端部は、図2、図3に示したように、こ
れら左右の各側端部の上方に前記各気泡溜め部61、6
2が位置するように構成されている。
【0041】一方この洗浄装置1の排気系は図7に示し
たように構成されている。即ち例えば各チャック洗浄・
乾燥処理槽21、薬液洗浄処理槽22、前記薬液洗浄処
理槽22、水洗洗浄処理槽23、24、・・・という各
洗浄処理槽毎にその下方内部空間が、空間A、B、C、
D・・・というように仕切られ、これら各空間A、B、
C、Dの各背面側に、夫々長方形の排気口81が形成さ
れている。そしてこれら各排気口81と洗浄装置1の背
面板82との間には、例えばダクトなどによって構成さ
れる集合排気部83が形成され、各排気口81はこのこ
の集合排気部83内に通じている。そしてこの集合排気
部83は、洗浄装置1全体の集中排気装置(図示せず)
へと通じている。
【0042】前記各排気口81には、図8に示したよう
なプッシュ型ダンパ84が集合排気部83内に設けられ
ている。即ちこのプッシュ型ダンパ84は、前記排気口
81を覆う形態の長方形のダンパ部85、このダンパ部
85にその一端が固着され、その他端は背面板82から
気密に突出しているシャフト86、背面板82における
集合排気部83側に固着されてその内部に前記シャフト
86を摺動自在に挿通させている支持部87、前記シャ
フト86の前記突出端部に設けられたノブ88によって
構成されている。
【0043】そして前記ダンパ部85の排気口81側端
面には、該排気口81の周縁部に密着する気密シール材
89が設けられており、前記ノブ88の操作によって前
記シャフト86は任意の位置で停止・固定自在となるよ
うに構成されている。従って例えば前記排気口81を閉
鎖する際は、図9に示したようにノブ88を操作して前
記ダンパ部85を排気口81側に押圧させればよく、ま
た逆に前記排気口81を開放するには、前記ノブ88を
操作して前記ダンパ部85を引き戻すようにすればよ
い。以上のような構成、作用によって排気口81の開度
は、0〜100%の間の任意の値に自在に設定すること
が可能となっている。
【0044】本実施例が適用された洗浄装置1は以上の
ように構成されており、次にその作用について図2、図
3に基づいて説明すると、供給口32から適宜の圧力を
もって供給された洗浄処理用の薬液は、まず拡散板52
によってその周囲へと拡散されようとするが、この拡散
板52の前後端部には、夫々返し板71、71が垂下し
ているので、拡散板52の前後端部への拡散は阻止さ
れ、拡散板52の左右両側への拡散へと方向づけられ、
薬液は拡散板52の左右両側端部から上昇する。
【0045】そしてこの拡散板52左右両側端部の上方
には、夫々気泡溜め部61、62が位置しているから、
薬液中に気泡が混入していた場合、この気泡はこれら気
泡溜部61、62内に溜められる。またこれら気泡溜め
部61、62の一端部には、夫々脱泡孔65が設けら
れ、さらにこれら各脱泡孔65は、夫々気泡抜き管6
6、67と通じているから、次々と気泡溜め部61、6
2内に溜まってある程度大きくなった気泡は、前記各脱
泡孔65から気泡抜き管66、67を通じて、処理槽3
1外部へと放出されるのである。従って、ウエハWの洗
浄処理に使用される薬液中に気泡が混入していても、整
流板52によって区画された上方の洗浄空間内にこれら
気泡が侵入することはなく、気泡によるウエハWに対す
る汚染、振動等が発生するおそれはないものである。
【0046】さらにまた前記気泡溜め部61、62を形
成している長側板61をかいくぐった薬液流は、前出長
側板63によって整流され、この長側板61によってさ
らに均一、整流化されている。従って、スリット55、
56、57、58側へと流れる薬液流は、スリット5
5、56、57、58を通じて各ウエハW間へと均一に
上昇し、各ウエハWに対する均一な洗浄処理が実施され
る。
【0047】従来の拡散板は小さい円板形であってしか
も、各供給口の各上方に個別に設けられており、そのた
め供給口に近い部分と、離れた部分とでは流速に差が生
じ、その結果、各ウエハW間の流れを均一にすることは
困難で、循環効率(比抵抗回復特性)もあまり良くなか
ったが、前記拡散板54は一枚の板材で構成され、その
左右両側端部から拡散するようにしているので、薬液流
は整流化され、供給口33からの距離の影響を受けず、
均一な薬液流が実現されている。従ってスリット55、
56、57、58から上昇する薬液の流速は均一化され
ており、循環効率も向上し、前記したウエハWの均一な
洗浄処理が可能となっている。
【0048】なお図2に示したように、前記拡散板54
の左右両側端部から上昇した薬液流は、気泡溜め部6
1、62を境として左右に分流されているので、例えば
外側の長側板61の高さを適宜調整したり、また小孔5
9の数、大きさを適宜調整することによって、スリット
55、56、57、58側へと流れる薬液の流速を適切
なものに調整することも可能である。
【0049】一方排気系について言えば、図7に示した
ように、本実施例が適用された洗浄装置1においては、
各洗浄処理槽の排気に関しては、プッシュ型ダンパ84
が採用され、しかも各排気口81は、各洗浄処理槽の背
面側と背面板82との間に形成されたいわばダクト構成
による集合排気部83と通じているので、洗浄装置1の
スペースを有効に使用することが可能になっている。
【0050】即ち従来この種の排気系については、各洗
浄処理槽毎の排気がバタフライ型ダンパによって行われ
ていたため、バタフライバルブの回動スペースとは別に
集合排気部を各洗浄処理槽の下方に設ける必要があり、
その結果、例えば各洗浄処理槽のメンテナンススペース
が殆ど確保できないというが問題が生じていた。しかし
ながら前記プッシュ型ダンパ84は、集合排気部83の
中に設けることができるので、上記のスペースの問題は
改善され、その結果、各洗浄処理槽下方に必要なメンテ
ナンススペースを確保することが可能になっている。な
お既述の如く、前記プッシュ型ダンパ84のダンパ部8
5は長方形であったが、もちろん排気口の形状に合わせ
た各種の形状、例えば円形、正方形等の形状に合わせる
ことが可能であり、設計上の自由度も高いものである。
【0051】次に他の実施例について説明すると、図1
0は他の実施例における処理槽91の下部の断面を模式
的に示しており、本実施例における整流板92は、図示
の如くその両側に、所定の傾斜仰角θ1をもって上方に
傾斜した傾斜部92a、92bを有している。なおその
他、前出実施例と同一の番号をもって引用される部材
は、前出実施例と同一の部材構成を有している。そして
これら傾斜部92a、92bの傾斜仰角θ1は、例えば
15〜30゜に設定されている。また処理槽91の底部
両側も、傾斜仰角θ2をもって傾斜部91a、91bが
夫々設定されている。この傾斜仰角θ2の大きさは、前
記整流板92の傾斜仰角θ1と同一でもよいが、好まし
くは、θ2>θ1の関係を有するように設定する。
【0052】また前記傾斜部の92a、92bの下面に
は、気泡溜め部構成材93、93が夫々固着されてお
り、この気泡溜め部構成材93、93の中央側(供給口
33側)と傾斜部と92a、92bとによって形成され
る縦断面が略三角形の部分が、各々気泡溜め部94、9
4を形成している。そしてこれら気泡溜め部94、94
に溜まってある程度大きく成長した気泡は、前出実施例
と同様、脱泡孔(図示せず)から、気泡抜き管(図示せ
ず)を通じて、処理槽91外部へと排気されるようにな
っている。
【0053】また本実施例においては、前記整流板92
の傾斜部92a、92bの気泡溜め部構成材93、93
下端から処理槽91の傾斜部91a、91bまでの距離
Lが、拡散板54の両側端部から処理槽91の傾斜部9
1a、91bまでの距離Mよりも長く設定されている。
【0054】以上のように構成された実施例において
も、供給口33から供給される薬液中に気泡が混入して
いる場合、拡散板54によって両側に振り分けられて夫
々気泡溜部94内に集積され、その後脱泡孔(図示せ
ず)から、気泡抜き管(図示せず)を通じて、処理槽9
1外部へと排気される。そのうえこれら気泡溜部94、
94は、整流板92の傾斜部92a、92bに気泡溜め
部構成材93を取り付けるだけでよいので、前出実施例
における処理槽31の場合よりも構成が簡素化されてい
る。
【0055】しかもこの実施例では、既述の如く整流板
92の両側に傾斜部92a、92bが形成されているの
で、乱流が発生せず、薬液の流れを整流化して均一にウ
エハWへと流出させることが可能になっており、洗浄処
理の均一化がいっそう向上している。
【0056】また整流板92の傾斜部92a、92bの
気泡溜め部構成材93、93下端から処理槽91の傾斜
部91a、91bまでの距離Lが、拡散板54の両側端
部から処理槽91の傾斜部91a、91bまでの距離M
よりも長く設定されているので、流体のコンダクタンス
の関係から、拡散板54による拡散(両側への振り分
け)に伴う薬液のウエハWへの流れを均等に制御してい
る。従って、この点からも洗浄処理の均一化が図れる。
【0057】その他処理槽91自体の底部の両側にも傾
斜部91a、91bが形成されているので、デッドスペ
ースや澱みの発生する部分が減少しており、真に必要な
処理槽91内容積が小さくなっている。従って、必要と
する薬液の量が節約でき、ランニングコストもより低廉
にものとなっている。
【0058】なお前出各実施例で用いた拡散板54は、
その裏面が平坦に成形されたものであったが、これに代
えて図11に示した拡散板96を用いてもよい。この拡
散板96の大きさは前出拡散板54と同一であるが、そ
の裏面には図11に示したガイド突条97が設けられて
いる。より詳述すると、前出2つの供給口33の真上に
位置する部分98a、98bを中心として、略放射状に
図12に示したガイド突条97を拡散板96の裏面に固
着した構成を有している。本実施例においては、このガ
イド突条97を、石英等の断面正方形(1辺が約3mm)
の角材によって構成している。
【0059】かかる構成の拡散板96を用いれば、供給
口から供給された洗浄処理液が、拡散板96に突き当た
って拡散する場合、ガイド突条97によって案内される
ので、整流効果が大きい。しかも気泡が混入していた場
合、これをガイド突条97に沿った形、即ち略放射状に
均等に分散させることが可能である。従って、気泡混入
に伴って拡散する場合の流速が、区々になることを防止
でき、より一層ウエハWに対して均一に流すことが可能
である。
【0060】もちろんかかるガイド突条97の形状は、
前記したように断面正方形に限らず、図13に示したよ
うに、断面が略三角形の角材を用いたガイド突条99と
してもよい。いずれにしても、供給口から出た洗浄処理
液を案内して均等に分散できるものであれば、その形状
を問わないものである。
【0061】なお上記実施例はウエハの洗浄装置におけ
る洗浄処理槽に適用した例であったが、本発明はこれに
限らず、例えばLCDガラス基板等の洗浄処理槽に対し
ても適用可能である。
【0062】
【発明の効果】請求項1によれば、供給口から処理槽内
に供給された洗浄処理液中に、気泡が混入していても、
これら気泡は気泡溜め部から気泡排出流路を通じて、洗
浄処理液外方へと排出されるので、処理槽内にある被洗
浄処理体が気泡によって汚染するおそれはない。請求項
2によれば、前記効果に加えて、被洗浄処理体間に流れ
る洗浄処理液の循環効率を向上させて、これを均一化す
ることが可能であるから、洗浄処理効率が向上し、均一
な洗浄処理も可能となる。請求項3によれば、整流手段
における流通孔面積が増大しても、その強度を十分に保
つことが可能である。請求項4によれば、洗浄処理液流
を両側方向に均等に振り分けることが容易になり、洗浄
処理の均一化に寄与する。請求項5によれば、流速に影
響を与える気泡を均等に振り分けることができるので、
洗浄処理液流の流速が均一化され、洗浄処理の均一化が
向上する。請求項6によれば、洗浄処理液流の流速の均
一化がさらに向上し、しかも供給口周りの配管が簡素化
される。請求項7によれば、各被処理体に対して洗浄処
理液流が均等に流れ、処理の均一化を向上させることが
でき、特に請求項8に記載したように、スリットの幅を
3mm以上、より好ましくは5mm以上とした場合には、気
泡によるブリッジも発生せず、巨大な気泡成長による悪
影響を防止できる。請求項9によれば、被処理体が半導
体ウエハ程度の大きさを有する場合に有効である。請求
項10によれば、洗浄処理液がスリットから拡散して被
処理体に対して流れるので、処理の均一化が向上するも
のである。請求項11、12によれば、洗浄処理液流に
乱流が発生せず、処理の均一化が向上する。請求項13
によれば、前記したように乱流を防止すると共に、少な
い部材で効果的な気泡溜め部を形成することができる。
請求項14によれば、さらに洗浄処理液流の均一な分布
が容易になる。請求項15によれば、被処理体に対する
洗浄処理液の流速を適切なものに設定できる。請求項1
6によれば、デッドスペースを少なくし、かつ洗浄に必
要な処理槽内容積小さくできるので、真に必要な洗浄処
理液の量を低減させて、ランニングコストを抑えること
が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例が好適に使用されるウエハの洗
浄装置の斜視図である。
【図2】実施例の断面説明図である。
【図3】実施例の要部斜視図である。
【図4】実施例における整流手段の斜視図である。
【図5】スリットの配置を変えた他の整流手段の要部断
面説明図である。
【図6】スリットの形状をテーパ状にした他の整流手段
の要部断面説明図である。
【図7】本発明の実施例が好適に使用されるウエハの洗
浄装置における排気系の説明図である。
【図8】図7の排気系に使用されたプッシュ型ダンパが
開放状態にあるときの断面説明図である。
【図9】図7の排気系に使用されたプッシュ型ダンパが
閉鎖状態にあるときの断面説明図である。
【図10】他の実施例にかかる処理槽の下部の断面を模
式的に示した説明図である。
【図11】拡散板の他の例を示す底面図である。
【図12】図9の拡散板の側面説明図である。
【図13】拡散板の他の変形例の側面説明図である。
【図14】従来の洗浄装置における処理槽の説明図であ
る。
【符号の説明】
1 洗浄装置 31 処理槽 33 供給口 41 ウエハ保持具 52 整流板 54 拡散板 55、56、57、58 スリット 61、62 気泡溜め部 65 脱泡孔 66、67 気泡抜き管 68 排出開口部 W ウエハ

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下方に洗浄処理液の供給口を有する処理
    槽と、この処理槽内に供給される前記洗浄処理液中に浸
    漬される被処理体と前記供給口との間に配置される複数
    の流通孔が穿設された整流手段とを有する洗浄装置にお
    いて、 前記整流手段の下側に気泡溜め部を設け、さらにこの気
    泡溜め部から前記洗浄処理液の液面外方へと通ずる気泡
    排出流路を設けたことを特徴とする、洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記整流手段の流通孔は被処理体の整列
    方向と同一方向に長い長孔形状を有し、さらに前記整流
    手段よりも小さい枚の板材によって構成された拡散板
    を、前記整流手段と前記供給口との間に備えたことを特
    徴とする、請求項1に記載の洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記拡散板と整流手段とは、板材の辺又
    は面によって一体化されていることを特徴とする、請求
    項2に記載の洗浄装置。
  4. 【請求項4】 前記拡散板は、その長辺が被処理体の整
    列方向と同一方向に長い長方形であることを特徴とす
    る、請求項2又は3に記載の洗浄装置。
  5. 【請求項5】 前記拡散板の下面に、供給口の真上部分
    を中心としてガイド突条が略放射状に設けられているこ
    とを特徴とする、請求項2、3又は4に記載の洗浄装
    置。
  6. 【請求項6】 供給口は1カ所であることを特徴とす
    る、請求項5に記載の洗浄装置。
  7. 【請求項7】 前記整流手段の流通孔は被処理体の整列
    方向と同一方向に長いスリットであることを特徴とす
    る、請求項1、2、3、4、5又は6に記載の洗浄装
    置。
  8. 【請求項8】 スリットの幅は、3mm以上であることを
    特徴とする、請求項7に記載の洗浄装置。
  9. 【請求項9】 スリット相互間の並列間隔は、30mm以
    上であることを特徴とする、請求項7又は8に記載の洗
    浄装置。
  10. 【請求項10】 スリットの縦断面形状は、上面側が広
    く開口したテーパ形状であることを特徴とする、請求項
    7、8又は9に記載の洗浄装置。
  11. 【請求項11】 整流手段の両側が、上方に傾斜した形
    状を有することを特徴とする、請求項1に記載の洗浄装
    置。
  12. 【請求項12】 整流手段の両側が、上方に傾斜した形
    状を有することを特徴とする、請求項2、3、4、5、
    6、7、8、9又は10に記載の洗浄装置。
  13. 【請求項13】 整流手段両側の傾斜部分の下面に、被
    処理体の整列方向に沿った気泡溜め構成板材を設け、前
    記傾斜部分とこの気泡溜め板材とによって形成された縦
    断面略三角形の部分で前記気泡溜め部が構成されたこと
    を特徴とする、請求項12に記載の洗浄装置。
  14. 【請求項14】 前記気泡溜め構成板材と処理槽底部と
    の間の空隙が、拡散板と処理槽底部との空隙よりも大き
    いことを特徴とする、請求項13に記載の洗浄装置。
  15. 【請求項15】 傾斜部分の傾斜仰角は5〜50゜であ
    ることを特徴とする、請求項11、12、13又は14
    に記載の洗浄装置。
  16. 【請求項16】 処理槽内底部両側が、上方に傾斜した
    形状を有することを特徴とする、請求項1、2、3、
    4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、1
    4又は15に記載の洗浄装置。
JP6218088A 1993-08-18 1994-08-18 洗浄装置 Withdrawn JPH0878381A (ja)

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JP5-226496 1993-08-18
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6413355B1 (en) 1996-09-27 2002-07-02 Tokyo Electron Limited Apparatus for and method of cleaning objects to be processed
KR100911598B1 (ko) * 2008-01-09 2009-08-07 주식회사 실트론 버블 발생유닛 및 이를 포함하는 웨이퍼 에칭 장치
JP6458123B1 (ja) * 2017-11-24 2019-01-23 オリエント技研株式会社 基板処理装置及び基板処理方法

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