JP2007329081A - 荷電粒子線装置、及びそれを制御するためのプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、荷電粒子線を試料上に照射してその試料の画像を形成し、表示する荷電粒子線装置に関する。本発明では、試料の荷電粒子線の照射個所から得られる信号から試料の画像を形成する試料像形成し、形成された試料画像のパターン密度を算出する。そして、算出された試料画像のパターン密度により、試料からの二次電子検出をする検出器の入出力比とバイアス値を調整するブライトネス・コントラスト調整手段における調整処理を制御するようにしている。
【選択図】図6
Description
Pn=P−Ap・(p−p0)・・・(1a)
Bn=B−Ab・(b−b0)・・・(1b)
図4は、本発明の画像処理装置の一実施例である走査電子顕微鏡装置の構成概要のブロック図である。図4において、101は試料台、102は試料台上の撮影対象試料、103は検出器、104は陰極、105は走査コイル、106は電子レンズ、108は走査コイル制御回路、109はレンズ制御回路、110は画像処理プロセッサ、111は制御用計算機、112は表示装置、113は入力部、114は電子ビーム、115はROM、116はRAMである。
Claims (12)
- 荷電粒子線を試料上に照射してその試料の画像を形成し、表示する荷電粒子線装置であって、
荷電粒子源より放出された荷電粒子線を試料上で走査する走査偏向手段と、
前記試料の荷電粒子線の照射個所から得られる信号を検出する検出手段と、
前記検出手段により得られる信号から前記試料の画像を形成する試料像形成手段と、
前記試料像形成手段によって形成された試料画像のパターン密度を算出するパターン密度算出手段と、
前記検出手段の入出力比とバイアス値を調整するブライトネス・コントラスト調整手段と、
前記パターン密度算出手段によって算出された前記試料画像のパターン密度により、前記ブライトネス・コントラスト調整手段における調整処理を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 前記制御手段は、前記パターン密度の値によって前記ブライトネス・コントラスト調整手段における調整処理で用いる明るさ基準値を決定することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子線装置。
- 前記制御手段は、前記パターン密度の値によって前記ブライトネス・コントラスト調整手段における調整処理の実行の要否を決定することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子線装置。
- 前記パターン密度算出手段は、前記試料画像の高周波成分の量を算出し、この高周波成分の量から前記パターン密度を算出することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置。
- 前記パターン密度算出手段は、撮像対象となる試料の設計データから前記パターン密度を算出することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子線装置。
- 前記明るさ基準値は、明るい画素の基準値と暗い画素の基準値とからなり、
前記制御手段は、前記パターン密度の値が所定の閾値以上の場合には前記明るさ基準値を第1の組に設定し、前記パターン密度の値が前記所定の閾値未満の場合には前記明るさ基準値を第2の組に設定することを特徴とする請求項2に記載の荷電粒子線装置。 - 前記明るさ基準値は、明るい画素の基準値と暗い画素の基準値とからなり、
前記制御手段は、前記パターン密度の値が第1の閾値以上の場合には前記明るさ基準値を第1の組に設定し、前記パターン密度の値が第2の閾値以上前記第1の閾値未満の場合には前記明るさ基準値を第2の組に設定し、前記パターン密度の値が前記第2の閾値未満の場合には前記明るさ基準値を第3の組に設定することを特徴とする請求項2に記載の荷電粒子線装置。 - 前記明るさ基準値は、明るい画素の基準値と暗い画素の基準値とからなり、
前記制御手段は、前記パターン密度がn段階設定された閾値のどこに該当するかによって前記明るさ基準値を設定することを特徴とする請求項2に記載の荷電粒子線装置。 - さらに、前記試料画像のデータから前記試料上の構造の寸法を測定する測定手段を備えることを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載の荷電粒子線装置。
- さらに、前記試料の撮像を開始する前に、撮像対象のパターン密度を設定もしくは選択するための設定入力手段を備えることを特徴とする請求項1乃至9の何れか1項に記載の荷電粒子線装置。
- さらに、前記試料の撮像を開始する前に、ブライトネス・コントラスト調整における設定値や調整処理の要否の指示を入力するための設定入力手段を備えることを特徴とする請求項1乃至9の何れか1項に記載の荷電粒子線装置。
- 荷電粒子線を試料上に照射してその試料の画像を形成し、表示する荷電粒子線装置を制御するためのプログラムであって、
前記試料の荷電粒子線の照射個所から得られる検出信号から形成された試料画像のパターン密度を算出するためのプログラムコードと、
前記検出信号を検出する際に用いられる入出力比とバイアス値の調整処理を実行するためのプログラムコードと、
前記試料画像のパターン密度により、前記調整処理を制御するためのプログラムコードと、
を備えることを特徴とするプログラム。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009181863A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像信号処理方法及び装置、並びに荷電粒子線装置 |
JP2010182423A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームの焦点評価方法及び荷電粒子線装置 |
KR20160003798A (ko) * | 2013-04-27 | 2016-01-11 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 전자 빔 검사 동안 샘플을 적응적으로 스캐닝하는 방법 및 시스템 |
WO2018138875A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-08-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
CN113016052A (zh) * | 2018-11-01 | 2021-06-22 | 东京毅力科创株式会社 | 图像处理方法以及图像处理装置 |
JPWO2021156976A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | ||
KR20210154718A (ko) | 2020-06-12 | 2021-12-21 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자 빔 장치 |
JP7154671B1 (ja) | 2022-08-15 | 2022-10-18 | 株式会社Photo electron Soul | 電子線適用装置における検出データの作成方法および照射対象の画像合成方法、プログラム、記録媒体、並びに、電子線適用装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04328234A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡における自動輝度/コントラスト調整方式 |
JPH10172491A (ja) * | 1996-12-09 | 1998-06-26 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置の画像処理方法および装置 |
JP2001243907A (ja) * | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Shimadzu Corp | 自動コントラスト・ブライトネス調整装置 |
JP2005017159A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置における検査レシピ設定方法および欠陥検査方法 |
JP2005026192A (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム装置 |
JP2005207899A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線を用いた検査方法および検査装置 |
JP2005292691A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 動画像表示装置および動画像表示方法 |
JP2005327578A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線の調整方法、及び荷電粒子線装置 |
-
2006
- 2006-06-09 JP JP2006161062A patent/JP4917359B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04328234A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-17 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡における自動輝度/コントラスト調整方式 |
JPH10172491A (ja) * | 1996-12-09 | 1998-06-26 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置の画像処理方法および装置 |
JP2001243907A (ja) * | 2000-03-01 | 2001-09-07 | Shimadzu Corp | 自動コントラスト・ブライトネス調整装置 |
JP2005017159A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置における検査レシピ設定方法および欠陥検査方法 |
JP2005026192A (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビーム装置 |
JP2005207899A (ja) * | 2004-01-23 | 2005-08-04 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線を用いた検査方法および検査装置 |
JP2005292691A (ja) * | 2004-04-05 | 2005-10-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 動画像表示装置および動画像表示方法 |
JP2005327578A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線の調整方法、及び荷電粒子線装置 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009181863A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像信号処理方法及び装置、並びに荷電粒子線装置 |
JP2010182423A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームの焦点評価方法及び荷電粒子線装置 |
KR102094573B1 (ko) * | 2013-04-27 | 2020-03-27 | 케이엘에이 코포레이션 | 전자 빔 검사 동안 샘플을 적응적으로 스캐닝하는 방법 및 시스템 |
KR20160003798A (ko) * | 2013-04-27 | 2016-01-11 | 케이엘에이-텐코 코포레이션 | 전자 빔 검사 동안 샘플을 적응적으로 스캐닝하는 방법 및 시스템 |
JP2016527658A (ja) * | 2013-04-27 | 2016-09-08 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 電子ビーム検査中に試料を適応的に走査する方法及びシステム |
US9734987B2 (en) | 2013-04-27 | 2017-08-15 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for adaptively scanning a sample during electron beam inspection |
TWI608553B (zh) * | 2013-04-27 | 2017-12-11 | 克萊譚克公司 | 於電子束檢測期間適應性掃描一樣本之方法及系統 |
US10991542B2 (en) | 2017-01-27 | 2021-04-27 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device |
JPWO2018138875A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2019-11-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
WO2018138875A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2018-08-02 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US20190362931A1 (en) * | 2017-01-27 | 2019-11-28 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged Particle Beam Device |
CN113016052A (zh) * | 2018-11-01 | 2021-06-22 | 东京毅力科创株式会社 | 图像处理方法以及图像处理装置 |
JP7329081B2 (ja) | 2020-02-05 | 2023-08-17 | 株式会社日立ハイテク | 計測システム、および荷電粒子線装置のパラメータ設定方法 |
JPWO2021156976A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | ||
WO2021156976A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 株式会社日立ハイテク | 計測システム、および荷電粒子線装置のパラメータ設定方法 |
TWI765483B (zh) * | 2020-02-05 | 2022-05-21 | 日商日立全球先端科技股份有限公司 | 計測系統及帶電粒子線裝置之參數設定方法 |
KR20210154718A (ko) | 2020-06-12 | 2021-12-21 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자 빔 장치 |
US11501950B2 (en) | 2020-06-12 | 2022-11-15 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device |
JP7154671B1 (ja) | 2022-08-15 | 2022-10-18 | 株式会社Photo electron Soul | 電子線適用装置における検出データの作成方法および照射対象の画像合成方法、プログラム、記録媒体、並びに、電子線適用装置 |
WO2024038824A1 (ja) * | 2022-08-15 | 2024-02-22 | 株式会社Photo electron Soul | 電子線適用装置における検出データの作成方法および照射対象の画像合成方法、プログラム、記録媒体、並びに、電子線適用装置 |
JP2024025993A (ja) * | 2022-08-15 | 2024-02-28 | 株式会社Photo electron Soul | 電子線適用装置における検出データの作成方法および照射対象の画像合成方法、プログラム、記録媒体、並びに、電子線適用装置 |
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