JP2007327143A - 還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法 - Google Patents
還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明の還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法は、ターゲット材としての金属タンタル及び炭素を含む反応ガスを使用してアークイオンプレーティング(AIP)式反応性蒸着法により、400〜600℃の雰囲気中において、前記金属タンタルの微粒子を前記反応ガスの粒子と共に前記黒鉛基材の表面に付着させて、前記表面に炭化タンタル微粒子を積層してなる前記被膜を形成すると共に、黒鉛基材の表面にTaC被膜を、その組成比(Ta/C)が0.8〜1.2となるように形成することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
図4に示す円筒型スリット型(φ100mm×t5mm)の形状寸法からなる黒鉛製ヒーターであって、黒鉛の特性として嵩密度が1.82(g/cm3 )、熱膨張係数が7.1(10−6/K)のものに対してAIP処理を行い、黒鉛製ヒーターの表面にTaC被膜を形成した。TaC被膜の組成比(Ta/C)の変更はCH4 ガスの流量及びアーク電流を調整することにより行い、TaC被膜の膜厚の変更は蒸着時間を調整することにより行った。AIP条件は、次の通りである。
(1)ターゲット材:金属Ta
(2)反応ガス :CH4
(3)熱処理温度 :400〜600℃
(4)ベース圧力 :1×10−5Torr
(5)蒸着圧力 :20mTorr
(6)蒸着電流 :200A
(7)蒸着電圧 :43V
(8)バイアス電圧:−20V
(9)蒸着時間 :25分(5μm)〜500分(100μm)
得られたTaC被膜の嵩密度は14.30g/cm3 以上であった。
実施例1、2、参考例1、2と同一の形状寸法及び特性からなる黒鉛製ヒーターに対してCVD処理を行い、ヒーターの表面にSiC被膜を30μmの厚みで形成した。得られた従来型製品としてのアンモニア雰囲気炉用ヒーターを使用して、実施例1と同様にして同一条件下にある半導体薄膜の成膜炉での成膜実験を繰り返し行い、断線した時点をもってヒーターの寿命とした。結果は、表1に併せて示す。表1からも明らかなように、従来型ヒーターの場合は50回の繰り返し使用で(延べ時間にして150時間の使用で)断線したのに対し、本発明に係るヒーターの場合は、500回繰り返し使用しても(延べ時間にして1500時間使用しても)、断線は起こらなかった。
次に、(Ta/C)=1(一定)の条件下で実施例1、2、参考例1、2と同様にAIP処理してTaC被膜の膜厚が表2のように異にして得られた製品としてのアンモニア雰囲気炉用ヒーター(4種類)をそれぞれ使用して、実施例1、2、参考例1、2と同様に1200℃のアンモニア雰囲気下にある半導体薄膜の成膜炉での成膜実験を順次、繰り返して行った。断線した時点をもってヒーターの寿命とした。その結果を、表2に併せて示す。
実施例1〜6、参考例1、2と同一の形状寸法及び特性からなる黒鉛製ヒーターに対してCVD処理を行い、ヒーターの表面にSiC被膜を100μmの厚みで形成した。得られた従来型製品としてのアンモニア雰囲気炉用ヒーターを使用して、実施例1〜6、参考例1、2と同様にして同一条件下にある半導体薄膜成膜炉での成膜実験を繰り返し行い、断線した時点をもってヒーターの寿命とした。結果は、表2に併せて示す。表2からも明らかなように、従来型ヒーターの場合は50回の繰り返し使用で(延べ時間にして150時間の使用で)断線したのに対し、本発明に係るヒーターの場合は、500回繰り返し使用しても(延べ時間にして1500時間使用しても)、断線は起こらなかった。
2 黒鉛基材
3 TaC被膜
4 洗浄部
5 チャンバ
6 回転テーブル
7 供給口
8 バイアス電源
9 排気口
10 ターゲット材(金属Ta)
11 アーク電源
12 陽極
Claims (1)
- ターゲット材としての金属タンタル及び炭素を含む反応ガスを使用してアークイオンプレーティング(AIP)式反応性蒸着法により黒鉛基材の表面に炭化タンタルの被膜を形成する還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法であって、400〜600℃の雰囲気中において、前記金属タンタルの微粒子を前記反応ガスの粒子と共に前記黒鉛基材の表面に付着させて、前記表面に炭化タンタル微粒子を積層してなる前記被膜を形成すると共に、前記被膜の組成比(Ta/C)が、0.8〜1.2となるように前記反応ガスの流量及びアーク放電電流を調節することを特徴とする還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法。
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---|---|---|---|---|
JP2007308370A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-11-29 | Toyo Tanso Kk | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 |
JP2007308369A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-11-29 | Toyo Tanso Kk | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5617914A (en) * | 1979-07-24 | 1981-02-20 | Inoue Japax Res Inc | Surface treated graphite material |
JPH04325681A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-16 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス焼結体の製造方法および製造装置 |
JPH06300130A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-28 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 硬質被覆材およびそれを被覆した摺動部材ならびにその製造方法 |
JPH08134629A (ja) * | 1994-09-16 | 1996-05-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超微粒積層膜と、それを有する工具用複合高硬度材料 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5617914A (en) * | 1979-07-24 | 1981-02-20 | Inoue Japax Res Inc | Surface treated graphite material |
JPH04325681A (ja) * | 1991-04-26 | 1992-11-16 | Ngk Insulators Ltd | セラミックス焼結体の製造方法および製造装置 |
JPH06300130A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-28 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 硬質被覆材およびそれを被覆した摺動部材ならびにその製造方法 |
JPH08134629A (ja) * | 1994-09-16 | 1996-05-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超微粒積層膜と、それを有する工具用複合高硬度材料 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007308370A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-11-29 | Toyo Tanso Kk | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 |
JP2007308369A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-11-29 | Toyo Tanso Kk | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 |
JP4641536B2 (ja) * | 2007-07-27 | 2011-03-02 | 東洋炭素株式会社 | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 |
JP4641535B2 (ja) * | 2007-07-27 | 2011-03-02 | 東洋炭素株式会社 | 還元性雰囲気炉用炭素複合材料及びその製造方法 |
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