JP2007324465A - 半導体パッケージおよびその製造方法、半導体パッケージ集合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】赤外線センサ1は、素子基板2、蓋基板3およびリム基板4を備える。素子基板2の表面には赤外線検出素子5と引出電極6を設け、引出電極6には、赤外線検出素子5からの信号を取り出すPAD開口部6aを形成する。蓋基板3を、リム基板4を介して素子基板2に接合して、赤外線検出素子5と蓋基板3との間に空間8を形成し、赤外線検出素子5をこの空間8に封止する。蓋基板3には、ワイヤやバンプによって回路基板と接続する取出電極10を形成する。リム基板4には、貫通孔11を形成し、導体材料で充填して接続電極12を形成する。接続電極12は、半導体素子基板2のPAD開口部6aと蓋基板3の取出電極10とを接続する。
【選択図】図1
Description
(1)貫通孔11を形成したリム基板4と、貫通孔11に導体材料を充填して形成した接続電極12とによって、赤外線検出素子5を形成した素子基板2と蓋基板3との間に空間8を形成して赤外線検出素子5をその空間8に封止した。したがって、赤外線検出素子5を封止するための領域とは別に、赤外線検出素子5の信号を外部へ取り出すための電極を設けるための領域を素子基板2上に設ける必要がないので、赤外線センサ1を小型化することができる。
(1)素子基板2に形成された機能性素子は赤外線検出素子4であったが、基板上に形成される機能性素子であれば実施形態に限定されない。たとえば、圧力センサ素子や加速度検出素子、ジャイロ素子、CCD(Charge Coupled Device )でもよい。この場合、蓋基板は赤外線を透過する必要がないので、蓋基板を、赤外線の透過性を有しないものとしてもよい。
3 蓋基板 4 リム基板
5 赤外線検出素子 6 引出電極
6a PAD開口部 7 絶縁層
9,11 貫通孔 10 取出電極
12 接続電極 90,90A 赤外線センサ集合体
100 半導体パッケージ 101 機能性素子
102 ゲッタ
Claims (13)
- 機能性素子を表面に形成した素子基板と、
前記機能性素子を囲うように前記素子基板に接合した額縁形状のリム基板と、
前記リム基板の開口部を塞ぐように前記リム基板に接合した蓋基板とを備え、
前記素子基板は、前記機能性素子の外周部に前記機能性素子の信号を出力する引出電極を備え、
前記リム基板は、前記リム基板を貫通する第1の貫通孔と、前記第1の貫通孔に導体材料を充填して形成し、前記引出電極の信号引出口を封止し、前記信号引出口と前記取出電極とを電気的に接続する接続電極とを備え、
前記蓋基板は、前記蓋基板を貫通する第2の貫通孔と、前記第2の貫通孔に導体材料を充填して形成し、前記機能性素子の信号を外部に取り出す取出電極とを備えることを特徴とする半導体パッケージ。 - 請求項1に記載の半導体パッケージにおいて、
前記第2の貫通孔に充填する導体材料の融点は、前記第1の貫通孔に充填する導体材料の融点より低いことを特徴とする半導体パッケージ。 - 請求項1または2に記載の半導体パッケージにおいて、
前記第1の貫通孔の前記素子基板側の断面積は、前記第1の貫通孔の前記蓋基板側の断面積より大きいことを特徴とする半導体パッケージ。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体パッケージにおいて、
前記第2の貫通孔の断面積は、前記第1の貫通孔の前記蓋基板側の断面積より大きいことを特徴とする半導体パッケージ。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体パッケージにおいて、
前記リム基板は、前記素子基板との接合面に前記引出電極に沿って、前記リム基板の内面に連通する溝を有し、
前記溝に導体材料が充填されていることを特徴とする半導体パッケージ。 - 請求項5に記載の半導体パッケージにおいて、
前記溝は、前記内面の近傍で深さが浅くなっていることを特徴とする半導体パッケージ。 - 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体パッケージをひとつの基板に縦横並列に複数形成し、
前記半導体パッケージの前記信号引出口、前記取出電極および前記接続電極を、隣接する半導体パッケージの信号引出口、取出電極および接続電極と共有化したことを特徴とする半導体パッケージ集合体。 - 請求項7に記載の半導体パッケージ集合体を分割したことを特徴とする半導体パッケージ。
- 請求項1乃至6、8のいずれか1項に記載の半導体パッケージにおいて、
前記機能性素子は赤外線検出素子であることを特徴とする半導体パッケージ。 - 機能性素子と前記機能性素子の外周部に前記機能性素子の信号を出力する引出電極とを表面に形成した素子基板と、
前記機能性素子を囲うように前記素子基板に接合した額縁形状のリム基板と、
前記リム基板の開口部を塞ぐように前記リム基板に接合した蓋基板とを備えた半導体パッケージの製造方法において、
前記リム基板を貫通する第1の貫通孔を形成し、
前記第1の貫通孔に導体材料を注入し、
前記蓋基板を貫通する第2の貫通孔を形成し、
前記第2の貫通孔に導体材料を注入することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10に記載の半導体パッケージの製造方法において、
前記第1の貫通孔を形成したリム基板を前記素子基板に接合した後、前記第1の貫通孔に導体材料を注入し、
前記第1の貫通孔に導体材料を注入した後、前記第2の貫通孔を形成した蓋基板を前記リム基板に接合し、前記第2の貫通孔に導体材料を注入することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10または11に記載の半導体パッケージの製造方法において、
前記リム基板の前記素子基板に対する接合面に前記引出電極に沿って、前記リム基板の内面に連通する溝を形成し、
前記溝に前記導体材料を充填することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 請求項10乃至12のいずれか1項に記載の半導体パッケージの製造方法によって、ひとつの基板に縦横並列に、半導体パッケージの前記信号引出口、前記取出電極および前記接続電極を、隣接する半導体パッケージの信号引出口、取出電極および接続電極と共有化した複数の半導体パッケージからなる半導体パッケージ集合体を作製し、
前記半導体パッケージ集合体を分割することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。
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