JP2007316634A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 偏光変調光学素子の製造方法であって、
   当該素子は、当該素子を通過する光に対して、ストレス誘導複屈折により、偏光の直交状態間にリターデイション分布を生じさせ、
   当該方法は、第１のコンポーネント（１１０、２２０、３１０、４１０、５１０）と第２のコンポーネント（１２０、２１０、３２０、４２０、５２０）を結合するステップを含んでおり、
   所定の高さプロファイルが与えられている前記第１のコンポーネントの非平面表面を、前記第２のコンポーネントの平面表面と結合し、
   前記ストレス誘導複屈折を生起させる機械的ストレスを、上述のように変形された偏光変調光学素子内に生じさせる、
   ことを特徴とする、偏光変調光学素子の製造方法。
2. 前記結合ステップよりも前に、所定の高さプロファイル（１１０ａ、２２０ａ）を前記第１のコンポーネント上に形成することによって、前記第１のコンポーネント（１１０、２２０）の非平面表面が生成され、
   前記高さプロファイルは、所定のリターデイション分布が得られるよう計算されたものである、請求項１記載の方法。
3. 前記結合ステップを密着によって行う、請求項１または２記載の方法。
4. 前記第１のコンポーネントおよび第２のコンポーネントのうちの１つのコンポーネント（１２０、２２０、３２０、４２０、５２０）のみを、前記結合ステップの間に変形させる、請求項１から３までのいずれか１項記載の方法。
5. 前記機械的ストレスを、前記第１のコンポーネント（１１０、２２０、３１０、４１０、５１０）と前記第２のコンポーネント（１２０、２１０、３２０、４２０、５２０）を結合するときに、前記第１のコンポーネントおよび第２のコンポーネントのうちの１つのコンポーネント（１２０、２２０、３２０、４２０、５２０）のみにおいて生じさせる、請求項１から４までのいずれか１項記載の方法。
6. 前記第１のコンポーネントおよび第２のコンポーネントのうちの１つのコンポーネント（１２０、２２０、３２０、４２０、５２０）の平均厚さは、他方のコンポーネント（１１０、２１０、３１０、４１０、５１０）の平均厚さの少なくとも１０倍、有利には少なくとも１５倍、より有利には少なくとも２０倍である、請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。
7. 前記第１および第２のコンポーネントのうちの１つのコンポーネントは、平凸レンズ（４１０）または平凹レンズ（５１０）である、請求項１から６までのいずれか１項記載の方法。
8. 前記第１のコンポーネントおよび第２のコンポーネントのうちの１つのコンポーネント（１２０、３２０、４２０、５２０）は、前記結合ステップ前は、平行平面プレートである、請求項１から７までのいずれか１項記載の方法。
9. 少なくとも１つの波面補償構造（１３０、３１０ｂ）を形成するステップをさらに含み、
   当該波面補償構造は、少なくとも部分的に、前記第１のコンポーネント（１１０、３１０）と前記第２のコンポーネント（１２０、３２０）の前記結合ステップの後に生じる波面の変化を補償する、請求項１から８までのいずれか１項記載の方法。
10. 請求項１から９までのいずれか１項記載の方法を用いて製造された、偏光変調光学素子。
11. 請求項１０に記載された、少なくとも１つの偏光変調光学素子（７０７、７１２、５１３）を含む光学系、殊にマイクロリソグラフィ投影露光装置（７００）の照明系（７０１）または投影対物レンズ（７０２）。
12. 少なくとも１つの光学素子を含み、
    当該光学素子は偏光分布を乱し、
    当該偏光分布の乱れは少なくとも部分的に、前記偏光変調光学素子によって補償される、請求項１１記載の光学系。
13. 前記偏光変調光学素子（７０７、７１２、５１３）は、前記光学系の瞳面またはフィールド面に配置されている、請求項１１または１２記載の光学系。
14. 少なくとも２つの請求項１０記載の偏光変調光学素子（７０１、７１２、５１３）を含んでおり、
    前記偏光変調光学素子のうちの１つは、前記光学系の瞳面に配置されており、前記偏光変調光学素子のうちの他方は、前記光学系のフィールド面に配置されている、請求項１１から１３までのいずれか１項記載の光学系。
15. 光学系の製造方法であって、当該方法は以下のステップを有しており、すなわち：
    ａ）偏光光学測定データを生成するために、光学サブシステムの偏光光学測定を行うステップと；
    ｂ）当該偏光光学測定データに基づいて、請求項１から９のいずれか１項に記載された方法を使用して偏光変調光学素子を製造するステップと；
    ｃ）ステップａ）で定められた前記サブシステム内の偏光分布の乱れが少なくとも部分的に前記偏光変調光学素子によって補償されるように、前記偏光変調光学素子を当該サブシステムのビーム路内に挿入するステップを有している、
    ことを特徴とする、光学系の製造方法。
16. 前記偏光変調光学素子を製造するために前記ステップｂ）において結合される前記第１および第２のコンポーネントのうちの１つのコンポーネントは、前記光学サブシステムの平凸レンズまたは平凹レンズであり、当該光学サブシステムの前記偏光光学測定は前記ステップａ）で行われる、請求項１５記載の方法。
17. マイクロリソグラフィ投影露光装置（７００）であって、
    照明系（７０１）と投影対物レンズ（７０２）を含んでおり、
    前記照明系および／または前記投影対物レンズは請求項１１から１４までのいずれか１項記載の光学系である、ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
18. マイクロ構造化されたコンポーネントをマイクロリソグラフィ技術によって製造する方法であって、
    当該方法は以下のステップを有しており、
    ・基板（７１５）を設けるステップを有しており、ここで当該基板の少なくとも一部に感光性材料のコーティング（７１４）を付与するステップと；
    ・イメージが形成されるべき構造を有するマスク（７０８）を設けるステップと；
    ・請求項１７記載の投影露光装置（７００）を設けるステップと；
    ・前記投影露光装置（７００）を用いて、前記コーティングの領域上に、前記マスク（７０８）の少なくとも一部分を投影するステップを含むことを特徴とする、マイクロ構造化されたコンポーネントをマイクロリソグラフィ技術によって製造する方法。