JP4414414B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
第一方向に偏光したほぼ直線偏光放射線および/または前記第一方向に対して直角な第二方向に偏光した直線偏光放射円しか有さないように、放射線ビームを調整するように配置構成された第一光学要素と、前記第一方向の光軸を有する複屈折率を生じやすく、自身を通って直線偏光放射線が透過する1つまたは複数の第二光学要素と、その後に直線偏光放射線の少なくとも一部を非偏光または円偏光放射線に変形する第三光学要素とを有する照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを有し、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができ、さらに、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムとを有するリソグラフィ装置が提供される。
基板を提供することと、
照明システムを使用して調整した放射線ビームを提供することと、
パターンを放射線に与えることと、
パターン形成した放射線のビームを基板の目標部分に投影することとを含み、
調整した放射線ビームを提供するステップが、非偏光または円偏光放射線の第一部分および異なる偏光の第二部分を断面に有するように放射線ビームを調整することを含む方法が提供される。
基板を提供するステップと、
照明システムを使用して調整した放射線ビームを提供するステップと、
パターンを放射線に与えるステップと、
パターン形成した放射線のビームを基板の目標部分に投影するステップとを含み、
調整した放射線ビームを提供するステップが、第一方向に偏光した直線偏光放射線および/または前記第一方向に対して直角の第二方向に偏光した直線偏光放射線のみをほぼ有するように、放射線ビームを調整することと、複屈折を生成しやすく、前記第一方向の光軸を有する光学要素を通して放射線を透過することと、その後に、直線偏光放射線の少なくとも一部を非偏光または円偏光放射線に変形することとを含む方法が提供される。
−放射線ビームB(例えばUV放射線またはDUV放射線)を調整するように構成された照明システム(照明装置)ILと、
−パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターニングデバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置PMに連結を行った支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
−基板(例えばレジスト塗布したウェハ)Wを支持するように構築され、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置PWに連結を行った基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射線ビームBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折性投影レンズシステム)PSとを有する。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回で目標部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (9)
- リソグラフィ装置であって、
第一方向に偏光したほぼ直線偏光放射線および/または前記第一方向に対して直角な第二方向に偏光した直線偏光放射線しか有さないように、放射線ビームを調整するように配置構成された第一光学要素と、偏光に誘発された圧縮により前記第一方向の光軸を有する複屈折率を生じやすく、自身を通って直線偏光放射線が透過する1つまたは複数の第二光学要素と、その後に直線偏光放射線の少なくとも一部を非偏光または円偏光放射線に変形する第三光学要素と、をこの順序で有する照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、を有し、
前記パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、前記放射線ビームの断面にパターンを与えることができ、さらに、基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン形成した放射線ビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を有するリソグラフィ装置。 - 前記第三光学要素が、ほぼ前記照明システムの瞳面に配置される、請求項1に記載の装置。
- 前記第三光学要素が、前記放射線ビームの中心部分のみを非偏光または円偏光放射線に変形し、直線偏光放射線の外部リングを残すように配置構成される、請求項1に記載の装置。
- 前記第三光学要素が、前記放射線ビームの一部を円偏光放射線に変形するλ/4プレートである、請求項1に記載の装置。
- 前記第三光学要素が、1対の隣接する材料である第一楔および第二楔を有し、前記第一楔が光学活性材料で形成され、前記第二楔が、前記放射線ビームの一部を非偏光放射線に変形するように配置構成された光学不活性要素で形成される、請求項1に記載の装置。
- 前記第一光学要素が1セットの光学活性プレートまたは複屈折プレートを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記光学活性プレートまたは前記複屈折プレートが、集光器(CO)、調節器(AD)または積分器(IN)のいずれかに配置された半波長プレートである、請求項6に記載の装置。
- 前記光学活性プレートまたは前記複屈折プレートが、瞳面にあるか、その付近にある、請求項6に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
基板を提供することと、
照明システムを使用して調整した放射線ビームを提供することと、
パターンを前記放射線ビームに与えることと、
パターン形成した前記放射線ビームを前記基板の目標部分に投影することとを含み、
前記調整した放射線ビームを提供することが、
第一方向に偏光した直線偏光放射線および/または前記第一方向に対して直角の第二方向に偏光した直線偏光放射線のみをほぼ有するように、前記放射線ビームを調整することと、
偏光に誘発された圧縮により複屈折を生成しやすく、前記第一方向の光軸を有する光学要素を通して前記放射線ビームを透過することと、
その後に、直線偏光放射線の少なくとも一部を非偏光または円偏光放射線に変形することと、
を含む方法。
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