KR20070007735A - 리소그래피 장치 내의 편광된 방사선 및 디바이스 제조방법 - Google Patents
리소그래피 장치 내의 편광된 방사선 및 디바이스 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (25)
- 리소그래피 장치에 있어서,비편광된 또는 원형으로 편광된 방사선의 제 1 부분, 및 상이한 편광의 제 2 부분을 단면 내에 포함하기 위해 방사선 빔을 컨디셔닝(conditioning) 할 수 있는 광학 요소들을 갖는 조명 시스템;패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 조명 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블; 및상기 기판의 타겟부 상으로 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 방사선 빔의 상기 제 2 부분은 선형으로 편광되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 방사선 빔의 상기 제 2 부분은 접선방향으로(tangentially: TE) 또는 반경방향으로(TM) 편광된 방사선을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 광학 요소들은 상기 방사선 빔의 중심 부분 내에 원형으로 편광된 또는 비편광된 방사선을 생성하고, 상기 방사선 빔의 외측 부분 내에 선형으로 편광된 방사선을 생성하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 각각 상기 빔 단면의 1 이상의 세그먼트(segment)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은 각각 상기 빔 단면의 1 이상의 환형 링을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 제 1 부분은 내측 원형 부분이고, 상기 제 2 부분은 상기 제 1 부분을 중심으로 한 링인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 광학 요소들은 상기 원형으로 편광된 또는 비편광된 방사선을 생성하는 상기 조명 시스템의 퓨필 평면에 실질적으로 위치된 광학 요소를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 원형으로 편광된 또는 비편광된 방사선을 생성하는 광학 요소는 콘덴서(CO), 조정기(AD) 또는 인티그레이터(IN) 중 하나 내에 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 광학 요소는 원형 편광을 생성하는 λ/4 플레이트(plate); 제 1 웨지가 광학적 활성 물질(optically active material)로 형성되고 제 2 웨지가 광학적 비활성 물질로 형성되며, 상기 방사선 빔의 일부분을 비편광된 방사선으로 변형(transform)시키도록 구성되는 상이한 물질의 인접한 웨지(wedge)들의 쌍; 또는 각각 상이한 편광을 생성하는 다수의 부분을 포함하는 회절 광학 요소를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,원형으로 편광된 또는 비편광된 방사선을 생성하도록 배치된 광학 요소는 상기 방사선 빔의 상기 제 1 부분의 선형 편광을 제공하도록 배치된 또 다른 광학 요소와 조합되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 또 다른 광학 요소는 λ/2 플레이트인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,개구수(NA)는 약 1.0보다 큰 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 리소그래피 장치의 전체 또는 부분이 물과 같은 침지 유체 내에 침지될 수 있는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 리소그래피 장치에 있어서,제 1 방향으로 편광된 실질적으로 선형으로 편광된 방사선만을 및/또는 상기 제 1 방향에 대해 수직한 제 2 방향으로 편광된 선형으로 편광된 방사선을 포함하기 위해 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 배치된 제 1 광학 요소, 상기 제 1 방향으로 광학 축선을 갖는 복굴절(birefringence)을 발전(develop)시키도록 되어 있는 1 이상의 제 2 광학 요소, 및 선형으로 편광된 방사선의 전체 또는 부분을 비편광된 또는 원형으로 편광된 방사선으로 순차적으로 변형시키는 제 3 광학 요소를 포함하여 이루어지는 조명 시스템;패터닝된 방사선 빔을 형성하기 위해 조명 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하도록 구성된 지지체;기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블; 및상기 기판의 타겟부 상으로 상기 패터닝된 방사선 빔을 투영하도록 구성된 투영 시스템을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 제 3 광학 요소는 상기 조명 시스템의 퓨필 평면에 실질적으로 위치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 제 3 광학 요소는 상기 방사선 빔의 중심 부분만을 비편광된 또는 원형으로 편광된 방사선으로 변형시켜, 선형으로 편광된 방사선의 외측 링이 남도록 배치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 제 3 광학 요소는 상기 방사선 빔의 일부분을 원형으로 편광된 방사선으로 변형시키는 λ/4 플레이트인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 제 3 광학 요소는 제 1 웨지가 광학적 활성 물질로 형성되고 제 2 웨지가 광학적 비활성 물질로 형성되며, 상기 방사선 빔의 일부분을 비편광된 방사선으로 변형시키도록 구성된 물질의 인접한 웨지들의 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 제 1 광학 요소는 광학적 활성 플레이트들 또는 복굴절 플레이트들의 세트를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 20 항에 있어서,상기 광학적 활성 플레이트들 또는 상기 복굴절 플레이트들은 콘덴서(CO), 조정기(AD) 또는 인티그레이터(IN) 내에 위치되는 반-파장 플레이트(half-wavelength plate)들인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제 20 항에 있어서,상기 광학적 활성 플레이트들 또는 상기 복굴절 플레이트들은 상기 퓨필 평면 내에 또는 상기 퓨필 평면 부근에 위치되는 반-파장 플레이트들인 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 디바이스 제조 방법에 있어서,기판을 제공하는 단계;조명 시스템을 사용하여 컨디셔닝된 방사선 빔을 제공하는 단계;상기 방사선에 패턴을 부여하는 단계; 및상기 기판의 타겟부 상으로 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계를 포함하여 이루어지고,상기 컨디셔닝된 방사선 빔을 제공하는 단계는 비편광된 또는 원형으로 편광된 방사선의 제 1 부분 및 상이한 편광의 제 2 부분을 단면 내에 포함하기 위해 방사선 빔을 컨디셔닝하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
- 디바이스 제조 방법에 있어서,기판을 제공하는 단계;조명 시스템을 사용하여 컨디셔닝된 방사선 빔을 제공하는 단계;상기 방사선에 패턴을 부여하는 단계; 및상기 기판의 타겟부 상으로 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계를 포함하여 이루어지고,상기 컨디셔닝된 방사선 빔을 제공하는 단계는 제 1 방향으로 편광된 실질적으로 선형으로 편광된 방사선만을 및/또는 상기 제 1 방향에 대해 수직한 제 2 방향으로 편광된 선형으로 편광된 방사선을 포함하기 위해 방사선 빔을 컨디셔닝하는 단계, 상기 제 1 방향으로 광학 축선을 갖는 복굴절을 발전시키도록 되어 있는 광 학 요소를 통해 상기 방사선을 투과하는 단계, 및 선형으로 편광된 방사선의 전체 또는 부분을 비편광된 또는 원형으로 편광된 방사선으로 순차적으로 변형시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
- 제 23 항의 방법에 따라 제조된 디바이스.
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