JP2007313701A - ノズルプレートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ノズルプレートの基材である基板の第1の面に開口する断面形状が一定の大径孔部と、基板の他方の面である第2の面に吐出孔を開口し大径孔部の断面より小さな断面を有する断面形状が一定の小径孔部とで構成される貫通孔からなるノズルを形成する工程であって、基板に貫通孔が形成される部位の基板の厚みを測定する工程と、第1の面に切削により基板の測定された厚みに応じて所定の深さの大径孔部を形成する工程と、を有する第1の工程と、第1の工程に続いて第2の面にフォトリソグラフィ処理を行い小径孔部のパターンマスクを形成する工程と、パターンマスクを用いてドライエッチング処理を行い小径孔部を形成する工程と、を有する第2の工程と、を有する。
【選択図】図2
Description
前記ノズルプレートの基材である基板の第1の面に開口する断面形状が一定の大径孔部と、前記基板の他方の面である第2の面に前記吐出孔を開口し前記大径孔部の断面より小さな断面を有する断面形状が一定の小径孔部とで構成される貫通孔からなるノズルを形成する工程であって、
前記基板に前記貫通孔が形成される部位の該基板の厚みを測定する工程と、
前記第1の面に切削により前記基板の測定された厚みに応じて所定の深さの前記大径孔部を形成する工程と、を有する第1の工程と、
前記第1の工程に続いて前記第2の面にフォトリソグラフィ処理を行い前記小径孔部のパターンマスクを形成する工程と、
前記パターンマスクを用いてドライエッチング処理を行い前記小径孔部を形成する工程と、を有する第2の工程と、を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
前記第2の面に金属膜を設ける工程と、
前記金属膜にフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理を行い前記小径孔部の金属膜のパターンマスクを形成する工程と、
前記パターンマスクを用いてドライエッチング処理を行い前記小径孔部を形成する工程と、
前記金属膜を除去する工程と、を有することを特徴とする前記1乃至4のいずれか1項に記載のノズルプレートの製造方法。
2.大径孔部101aの径>小径孔部101bの径
3.大径孔部101a、小径孔部101bのアスペクト比>0.5
最初に、第1の工程とする大径孔部101aの形成に関して図2(a)、(b)に沿って説明する。
φ0.1mm ;10000〜 80000rpm
φ0.2mm ; 7000〜 50000rpm
φ0.5mm ; 4000〜 15000rpm
φ1.0mm ; 4000〜 8000rpm
次に、第2の工程とする小径孔部101bの形成に関して図2(c)乃至(h)に沿って説明する。
10 基板(基材)
10a 吐出面
101 ノズル
101a 大径孔部
101b 小径孔部
101c 吐出孔
20 金属膜
30 フォトレジスタパターン
D 液滴
L 液体
Claims (7)
- 吐出孔から液体を液滴として吐出するノズルを備えた液滴吐出ヘッドに用いられるノズルプレートの製造方法において、
前記ノズルプレートの基材である基板の第1の面に開口する断面形状が一定の大径孔部と、前記基板の他方の面である第2の面に前記吐出孔を開口し前記大径孔部の断面より小さな断面を有する断面形状が一定の小径孔部とで構成される貫通孔からなるノズルを形成する工程であって、
前記基板に前記貫通孔が形成される部位の該基板の厚みを測定する工程と、
前記第1の面に切削により前記基板の測定された厚みに応じて所定の深さの前記大径孔部を形成する工程と、を有する第1の工程と、
前記第1の工程に続いて前記第2の面にフォトリソグラフィ処理を行い前記小径孔部のパターンマスクを形成する工程と、
前記パターンマスクを用いてドライエッチング処理を行い前記小径孔部を形成する工程と、を有する第2の工程と、を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 前記大径孔部の径は、前記小径孔部の径より大きく、且つ、前記大径孔部の深さは、前記小径孔部の深さより深いことを特徴とする請求項1に記載のノズルプレートの製造方法。
- 前記液滴吐出ヘッドは、静電吸引方式の液滴吐出ヘッドであることを特徴とする請求項1または2に記載のノズルプレートの製造方法。
- 前記基板は、ガラスまたは石英であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のノズルプレートの製造方法。
- 前記第2の工程は、
前記第2の面に金属膜を設ける工程と、
前記金属膜にフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理を行い前記小径孔部の金属膜のパターンマスクを形成する工程と、
前記パターンマスクを用いてドライエッチング処理を行い前記小径孔部を形成する工程と、
前記金属膜を除去する工程と、を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のノズルプレートの製造方法。 - 前記ドライエッチング処理に用いるガスは、フッ素を含む炭化水素を高周波によりプラズマ化したものであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のノズルプレートの製造方法。
- 前記切削に用いる切削工具は、ダイヤモンド、AlN(窒化アルミニウム)、TiN(窒化チタン)、WC(タングステンカーバイト)、DLC(Diamond Like Carbon)で表面処理を施したものあることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のノズルプレートの製造方法。
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JP2006143702A JP2007313701A (ja) | 2006-05-24 | 2006-05-24 | ノズルプレートの製造方法 |
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2006
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