JP2007311712A - 半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置 - Google Patents

半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007311712A
JP2007311712A JP2006141799A JP2006141799A JP2007311712A JP 2007311712 A JP2007311712 A JP 2007311712A JP 2006141799 A JP2006141799 A JP 2006141799A JP 2006141799 A JP2006141799 A JP 2006141799A JP 2007311712 A JP2007311712 A JP 2007311712A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
semiconductor
test
tested
program
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006141799A
Other languages
English (en)
Inventor
Etsuji Mizonobu
悦治 溝延
Junichi Nakagawa
純一 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2006141799A priority Critical patent/JP2007311712A/ja
Publication of JP2007311712A publication Critical patent/JP2007311712A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】正確な試験を実現可能とする半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置を提供する。
【解決手段】予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー106内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハー106の検査を行うことにより、被試験半導体ウエハー106内のチップの温度が最適になり、ウエハー面内の温度ばらつきがあっても正確な試験が可能となる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置に関する。
一般的な半導体ウエハー試験装置によるウエハー状態での半導体の試験では、プローバーと呼ばれるウエハーハンドリング設備を用いて半導体ウエハーごと被試験半導体チップ(以下「チップ」と記す)の位置を移動させながら電気特性試験を行う(例えば、特許文献1、2参照)。
このプローバーは、半導体ウエハーを載置するウエハーステージの温度を高温や低温に制御することで、半導体ウエハーの温度を任意の温度に制御して試験することが出来る。
特開2005−123293号公報 特開2005−327883号公報
しかしながら、通常ウエハーステージの温度には面内分布があり、ウエハーステージ内での場所により多少の温度ばらつきが生じる。また、ウエハーステージの周囲温度の影響により、半導体ウエハー中央部のチップの温度と、半導体ウエハー周辺部のチップの温度との間にも差が生じる。
一般的な半導体試験回路では許容範囲である温度ばらつきであっても、温度センサーなどのように高精度な温度制御を機能目的とした半導体集積回路においては、わずかな温度誤差も電気特性に影響を与える。かかる不具合の為に、正しく測定できなかったり、製品の歩留まりが低下したりする等の問題が生じていた。
そこで、本発明は上記課題を解決するため、正確な試験を実現可能とする半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、請求項1記載の発明は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて前記被試験半導体ウエハーの検査を行うことを特徴とする。
請求項2記載の発明は、請求項1に記載の発明において、半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部データーファイルとして設け、テストプログラムにより外部データーファイルを制御することを特徴とする。
請求項3記載の発明は、請求項1に記載の発明において、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部に設けた記憶素子に記録し、前記被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行うことを特徴とする。
請求項4記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類し、グループ単位で検査規格の選択を行うことを特徴とする。
請求項5記載の発明は、実質的なコンピュータに半導体ウエハーの試験を実施させるプログラムにおいて、前記コンピュータに、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択する処理、その検査規格に基づいて前記被試験半導体ウエハーの検査を行う処理を実行させることを特徴とする。
請求項6記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記コンピュータに、テストプログラムにより外部データーファイルとしての半導体ウエハーの面内温度分布情報を制御する処理を実行させることを特徴とする。
請求項7記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記コンピュータに、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部に設けた記憶素子に記録する処理、前記被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行う処理を実行させることを特徴とする。
請求項8記載の発明は、請求項5に記載の発明において、前記コンピュータに、前記被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類する処理、グループ単位で検査規格の選択を行う処理を実行させることを特徴とする。
請求項9記載の発明は、請求項5から8のいずれか1項記載のプログラムを記録した記録媒体であることを特徴とする。
請求項10記載の発明は、半導体ウエハーを載置するウエハーステージと、前記半導体ウエハーの各チップにプローブを接触して電気的試験を行う半導体試験装置本体とを備えた半導体試験装置において、前記半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて前記被試験半導体ウエハーの検査を行うようにしたことを特徴とする。
請求項11記載の発明は、請求項10に記載の発明において、前記半導体試験装置本体は、前記予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を格納する外部データーファイルを備え、テストプログラムにより前記外部データーファイルを制御するようにしたことを特徴とする。
請求項12記載の発明は、請求項10に記載の発明において、前記半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を記録する外部記憶素子を備え、前記被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行うようにしたことを特徴とする。
請求項13記載の発明は、請求項10に記載の発明において、前記半導体試験装置本体は、前記被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類し、グループ単位で検査規格の選択を行うようにしたことを特徴とする。
本発明によれば、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うことにより、被試験半導体ウエハー内のチップの温度が最適になり、半導体ウエハー面内の温度ばらつきがあっても正確な試験が可能となる。
本発明に係る半導体試験方法の一実施の形態は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うことを特徴とする。
上記構成によれば、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うことにより、被試験半導体ウエハー内のチップの温度が最適になり、半導体ウエハー面内の温度ばらつきがあっても正確な試験が可能となる。
本発明に係る半導体試験方法の他の実施の形態は、上記構成に加え、半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部データーファイルとして設け、テストプログラムにより外部データーファイルを制御することを特徴とする。
上記構成によれば、テストプログラムから半導体試験システム毎に用意された外部データーファイルから温度情報を引用することで、共通したテストプログラムとして効率的に運用管理することができる。
本発明に係る半導体試験方法の他の実施の形態は、上記構成に加え、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部に設けた記憶素子に記録し、被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行うことを特徴とする。
上記構成によれば、半導体ウエハーのテストでチップの位置をXYアドレス情報で被試験半導体ウエハーのチップを制御しているので、テストプログラムでこのXYアドレスデーターを関数として取り扱う事ができる。
本発明に係る半導体試験方法の他の実施の形態は、上記構成に加え、被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類し、グループ単位で検査規格の選択を行うことを特徴とする。
上記構成によれば、1チップ単位でデーターを持たずに数十〜数百チップを一つの塊のグループとして取り扱うことで、検査工程を簡略化することができる。
本発明に係るプログラムの一実施の形態は、実質的なコンピュータに半導体ウエハーの試験を実施させるプログラムにおいて、コンピュータに、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択する処理、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行う処理を実行させることを特徴とする。
上記構成によれば、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うことにより、被試験半導体ウエハー内のチップの温度が最適になり、半導体ウエハー面内の温度ばらつきがあっても正確な試験が可能となる。
本発明に係るプログラムの他の実施の形態は、上記構成に加え、コンピュータに、テストプログラムにより外部データーファイルとしての半導体ウエハーの面内温度分布情報を制御する処理を実行させることを特徴とする。
上記構成によれば、テストプログラムから半導体試験システム毎に用意された外部データーファイルから温度情報を引用することで、共通したテストプログラムとして運用管理することができる。
本発明に係るプログラムの他の実施の形態は、上記構成に加え、コンピュータに、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部に設けた記憶素子に記録する処理、被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行う処理を実行させることを特徴とする。
上記構成によれば、半導体ウエハーのテストでチップの位置をXYアドレス情報で被試験半導体ウエハーのチップを制御しているので、テストプログラムでこのXYアドレスデーターを関数として取り扱う事ができる。
本発明に係るプログラムの他の実施の形態は、上記構成に加え、コンピュータに、被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類する処理、グループ単位で検査規格の選択を行う処理を実行させることを特徴とする。
上記構成によれば、1チップ単位でデーターを持たずに数十〜数百チップをひとつの塊のグループとして取り扱うことで、検査工程を簡略化することができる。
本発明に係る記録媒体の一実施の形態は、上記いずれかのプログラムを記録した記録媒体であることを特徴とする。
上記構成によれば、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うことにより、被試験半導体ウエハー内のチップの温度が最適になり、半導体ウエハー面内の温度ばらつきがあっても正確な試験が可能となる。
本発明に係る半導体試験回路の一実施の形態は、半導体ウエハーを載置するウエハーステージと、半導体ウエハーの各チップにプローブを接触して電気的試験を行う半導体試験装置本体とを備えた半導体試験装置において、半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うようにしたことを特徴とする。
上記構成によれば、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて被試験半導体ウエハーの検査を行うことにより、被試験半導体ウエハー内のチップの温度が最適になり、半導体ウエハー面内の温度ばらつきがあっても正確な試験が可能となる。
本発明に係る半導体試験回路の他の実施の形態は、上記構成に加え、半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を格納する外部データーファイルを備え、テストプログラムにより前記外部データーファイルを制御するようにしたことを特徴とする。
上記構成によれば、テストプログラムから半導体試験システム毎に用意された外部データーファイルから温度情報を引用することで、共通したテストプログラムとして運用管理することができる。
本発明に係る半導体試験回路の他の実施の形態は、上記構成に加え、半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を記録する外部記憶素子を備え、被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行うようにしたことを特徴とする。
上記構成によれば、半導体ウエハーのテストでチップの位置をXYアドレス情報で被試験半導体ウエハーのチップを制御しているので、テストプログラムでこのXYアドレスデーターを関数として取り扱う事ができる。
本発明に係る半導体試験回路の他の実施の形態は、上記構成に加え、半導体試験装置本体は、被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類し、グループ単位で検査規格の選択を行うようにしたことを特徴とする。
上記構成によれば、1チップ単位でデーターを持たずに数十〜数百チップをひとつの塊のグループとして取り扱うことで、検査工程を簡略化することができる。
<プログラム及び記憶媒体>
以上で説明した本発明の半導体検査回路は、コンピュータで検査処理を実行させるプログラムによって実現されている。コンピュータとしては、例えばパーソナルコンピュータやワークステーションなどの汎用的なものが挙げられるが、本発明はこれに限定されるものではない。
本実施形態のプログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記憶されていてもよい。
ここで、記憶媒体としては、例えば、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、フレキシブルディスク(FD)、CD−R(CD Recordable)、DVD(Digital Versatile Disk)などのコンピュータで読み取り可能な記憶媒体、HDD(Hard Disc Driver)、フラッシュメモリ、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、FeRAM(強誘電体メモリ)等の半導体メモリが挙げられる。
なお、上述した実施の形態は、本発明の好適な実施の形態の一例を示すものであり、本発明はそれに限定されることなく、その要旨を逸脱しない範囲内において、種々変形実施が可能である。
次に本発明に係る半導体ウエハー試験方法を適用した半導体ウエハー試験装置の実施例について説明する。
半導体ウエハー試験装置に用いられるプローバーのウエハーステージを図2(a)、(b)に示す。
図2(a)はウエハーステージの平面図であり、図2(b)はウエハーステージの側面図である。
ウエハーテストにおいては、同図(a)、(b)に示すウエハーステージ107の上に被試験ウエハー(以下「ウエハー」と記す)106が載置される。
ウエハーステージ107の内部には、例えば、図3のウエハーステージ透視図に示すようにヒーター120が内蔵され高温に制御できるような構造になっている。
その結果、ウエハーステージ107の面内では場所によりヒーター120からの距離に差が生じ、わずかではあるが温度ばらつきが生じてしまう。その温度ばらつきは、当然ウエハーステージ107に載置された被試験半導体ウエハー(以下「ウエハー」と記す)106の面内の温度ばらつきとなる。
また、実際のウエハーテストにおいては半導体試験装置101とプローバー102とを接続し、テストに必要な治具や工具類(テストボード103、プローブカード105)を用いて試験を行う。この試験を行う半導体試験装置の構造を図1に示す。
図1は、本発明に係る半導体ウエハー試験方法を適用した半導体ウエハー試験装置の一実施例を示す図である。
同図に示す半導体ウエハー試験装置100は、ウエハー106を載置するウエハーステージ107と、ウエハー106の各チップにプローブを接触して電気的試験を行う半導体試験装置本体101とを備えた半導体試験装置であって、半導体試験装置本体101は、予め得られたウエハーの面内温度分布情報からウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいてウエハー106の検査を行うようにしたことを特徴とする。
図中、103はテストボード、104は接続リング、105はプローブカードを夫々示す。
半導体試験時、ウエハー106の中央部の被試験チップ(以下「チップ」と記す。但し図示せず)が試験される場合と、ウエハー106の周辺部のチップ(図示せず)が試験される場合とでは、図4(a)、(b)に示すようにチップの温度に与える周囲環境が大きく異なる。
図4(a)は、ウエハーの中央部を測定する場合のプローブカードとウエハーとの位置関係を示す図であり、図4(b)は、ウエハーの周辺部を測定する場合のプローブカードとウエハーとの位置関係を示す図である。
ウエハー106の中央部のチップの場合はウエハー106とプローブカード105とが全面的に密着した状態になっており、隙間も少ないことからその空間はウエハー106と近似した空気温度になり、チップの温度は安定する傾向にある。
ところが、ウエハー106の周囲のチップの場合は、温度を印加するウエハーステージ107もウエハー106と同様にプローブカード105に対してずれた位置関係になるので、この図の場合では左側からの温度影響を受けやすくなる。
この温度ばらつきは、半導体ウエハー試験装置100の構造上必然的に生じるものである。よって、このウエハー106の面内の温度ばらつきを事前に面内の温度マップデーターとして格納しておき、その温度マップデーターによりチップの温度にあわせた検査規格を選択することで、より正確な試験を可能とする。
ウエハー面内の温度分布のマップ情報を図5に示す。
まず、検査前にウエハーステージ107(図1参照)上の温度分布を測定し、ウエハー106(図1参照)のチップレイアウトにあわせて、ウエハー温度分布データーを作成しておく。図5に示す温度情報はウエハー106のチップの位置を示すX軸のアドレスとY軸のアドレスとで設定されたマップ(地図)情報になっている。ウエハーテストではチップの位置をXYアドレス情報で制御しているので、テストプログラムでこのXYアドレスデーターを関数として取り扱う事が可能である。この関数を利用し、例えば下記のようにテストプログラム中でチップのXYアドレスに従って検査規格(下記テストプログラム中のLIMIT)を選択する方法がある。
テストプログラム記述例
IF Y=1 & X=1 THEN LIMIT=2.00V

IF Y=2 & X=6 THEN LIMIT=2.00V
IF Y=2 & X=7 THEN LIMIT=2.00V
IF Y=2 & X=8 THEN LIMIT=2.01V
IF Y=2 & X=9 THEN LIMIT=2.01V
IF Y=2 & X=10 THEN LIMIT=2.01V
:
IF Y=12 & X=8 THEN LIMIT=2.05V

IF Y=26 & X=16 THEN LIMIT=2.10V
このテストプログラムによれば、例えば、座標Yが2で座標Xが6であるチップの検査規格は2.00Vとなり、座標Yが2で座標Xが9であるチップの検査規格は2.01Vとなる。
また、別の事例として上記の温度情報をテストプログラムとは異なる別の外部ファイルとして設ける方法がある。
通常、半導体ウエハーの試験においては1つの製品を複数の試験設備で行うことが多い。しかし試験に必要なテストプログラムは複数の試験設備でも共用して使用している。上記のウエハー面内温度ばらつきは、プローバー毎で異なるので、先に述べた方法では1台の試験設備に対して1つのテストプログラムを用意する必要があり、また、プローバーのメンテナンスなどにより温度分布が変わるたびにテストプログラムを修正する必要が生じる。かかる課題を解決するために、温度分布情報を独立した外部データーファイルとして設け、テストプログラムからはその試験設備毎に用意された外部データーファイルから温度情報を引用することで、試験設備で共通したテストプログラムとして運用管理することが可能となる。
テストプログラム記述例を図6に示す。
図6に示すテストプログラムによれば、まず、設備の種類を選択する。例えば、設備Aを選択する。次にXYアドレスを入力する。例えば、XYアドレスとしてXを2とし、Yを1とすると、温度データーの回答が得られる。温度データーの回答として、ondo=75.1、すなわち75.1℃という温度データーが得られる。この温度データー75.1℃に基づいて温度分布データーを読み出すと、LIMIT=2.1Vというデーターが得られる。この電圧2.1Vが検査規格の一つである。
同様に、XYアドレスとしてXを1とし、Yを2として入力すると、温度データーの回答として、ondo=75.1、すなわち75.1℃という温度データーが得られる。この温度データー75.1℃に基づいて温度分布データーを読み出すと、LIMIT=2.1Vというデーターが得られる。以下同様にして全XYアドレスに対応する検査規格が得られる。設備Bを選択した場合には設備Bの温度分布データーを用いればよい。
また、他の応用例として上記の温度分布データーを外部に設けたメモリ素子(フラッシュメモリなど)に記憶させ、プロ−バーから生成されるXYアドレス信号を、外部のメモリのアドレスとして使用する方法がある。先の温度データーを外部ファイルデーターとして設けた場合は、データーファイルの作成は容易であるが、課題としてはテストプログラム中での外部ファイルとのデーターの授受がテスト時間を増加させることがある。
そこで、かかる不具合を解決させる為に、図7に示すように、外部に設けられたメモリ素子130にプロ−バー102から直接アドレスを入力し、XYアドレスに基づいたチップの温度情報をテストプログラムへ引き渡す事でテスト時間の短縮が可能となる。
図7に示す半導体試験装置200は、ウエハー106を載置するウエハーステージ107と、ウエハー106の各チップにプローブを接触して電気的試験を行う半導体試験装置本体101とを備えた半導体試験装置であって、半導体試験装置本体101は、予め得られたウエハーの面内温度分布情報からウエハー106内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいてウエハー106の検査を行うようにしたことを特徴とする。
図中、103はテストボード、104は接続リング、105はプローブカードを夫々示す。
図7は、本発明に係る半導体試験方法を適用した半導体試験回路の他の実施例を示す図である。
また更に、昨今のチップの小型化によりウエハー面内のチップ数は著しく増加しており、ウエハーのチップ1つ1つに応じた温度データーを準備する事は膨大な時間を必要とする。一方で実際の温度分布は数十〜数百チップの単位エリアで分布する傾向にあり、その為、1チップ単位でデーターを持たずに数十〜数百チップをひとつの塊のグループとして取り扱うことで、簡略化することが可能である。
本発明に係る半導体ウエハー試験方法を適用した半導体ウエハー試験装置の一実施例を示す図である。 (a)はウエハーステージの平面図であり、(b)はウエハーステージの側面図である。 ウエハーステージの透視図である。 (a)は、ウエハーの中央部を測定する場合のプローブカードとウエハーとの位置関係を示す図であり、(b)は、ウエハーの周辺部を測定する場合のプローブカードとウエハーとの位置関係を示す図である。 ウエハー面内の温度分布のマップ情報を示す図である。 テストプログラム記述例である。 本発明に係る半導体ウエハー試験方法を適用した半導体ウエハー試験装置の他の実施例を示す図である。
符号の説明
100 半導体ウエハー試験装置
101 半導体ウエハー試験装置本体
102 プローバー
103 テストボード
104 接続リング
105 プローブカード
106 ウエハー(被試験ウエハー)
107 ウエハーステージ

Claims (13)

  1. 予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて前記被試験半導体ウエハーの検査を行うことを特徴とする半導体ウエハー試験方法。
  2. 請求項1に記載の半導体ウエハー試験方法において、半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部データーファイルとして設け、テストプログラムにより外部データーファイルを制御することを特徴とする半導体試験方法。
  3. 請求項1に記載の半導体ウエハー試験方法において、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部に設けた記憶素子に記録し、前記被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行うことを特徴とする半導体ウエハー試験方法。
  4. 請求項1に記載の半導体ウエハー試験方法において、前記被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類し、グループ単位で検査規格の選択を行うことを特徴とする半導体ウエハー試験方法。
  5. 実質的なコンピュータに半導体ウエハーの試験を実施させるプログラムにおいて、前記コンピュータに、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択する処理、その検査規格に基づいて前記被試験半導体ウエハーの検査を行う処理を実行させることを特徴とするプログラム。
  6. 請求項5に記載のプログラムにおいて、前記コンピュータに、テストプログラムにより外部データーファイルとしての半導体ウエハーの面内温度分布情報を制御する処理を実行させることを特徴とするプログラム。
  7. 請求項5に記載のプログラムにおいて、前記コンピュータに、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を外部に設けた記憶素子に記録する処理、前記被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行う処理を実行させることを特徴とするプログラム。
  8. 請求項5に記載のプログラムにおいて、前記コンピュータに、前記被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類する処理、グループ単位で検査規格の選択を行う処理を実行させることを特徴とするプログラム。
  9. 請求項5から8のいずれか1項記載のプログラムを記録したことを特徴とする記録媒体。
  10. 半導体ウエハーを載置するウエハーステージと、前記半導体ウエハーの各チップにプローブを接触して電気的試験を行う半導体試験装置本体とを備えた半導体試験装置において、前記半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報から被試験半導体ウエハー内のチップの温度情報に応じた検査規格を選択し、その検査規格に基づいて前記被試験半導体ウエハーの検査を行うようにしたことを特徴とする半導体試験装置。
  11. 請求項10に記載の半導体試験装置において、前記半導体試験装置本体は、前記予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を格納する外部データーファイルを備え、テストプログラムにより前記外部データーファイルを制御するようにしたことを特徴とする半導体試験装置。
  12. 請求項10に記載の半導体試験装置において、前記半導体試験装置本体は、予め得られた半導体ウエハーの面内温度分布情報を記録する外部記憶素子を備え、前記被試験半導体ウエハーと接触するプローバーのXYアドレス信号によりデーターを制御することにより検査規格の選択を行うようにしたことを特徴とする半導体試験装置。
  13. 請求項10に記載の半導体試験装置において、前記半導体試験装置本体は、前記被試験半導体ウエハー内の複数のチップを温度によりグループに分類し、グループ単位で検査規格の選択を行うようにしたことを特徴とする半導体試験装置。
JP2006141799A 2006-05-22 2006-05-22 半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置 Withdrawn JP2007311712A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006141799A JP2007311712A (ja) 2006-05-22 2006-05-22 半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006141799A JP2007311712A (ja) 2006-05-22 2006-05-22 半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007311712A true JP2007311712A (ja) 2007-11-29

Family

ID=38844267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006141799A Withdrawn JP2007311712A (ja) 2006-05-22 2006-05-22 半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007311712A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4722227B2 (ja) * 2008-05-21 2011-07-13 株式会社アドバンテスト 試験用ウエハユニットおよび試験システム
CN112382582A (zh) * 2020-10-28 2021-02-19 海光信息技术股份有限公司 一种晶圆测试分类方法及系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774218A (ja) * 1993-09-03 1995-03-17 Nec Corp Icのテスト方法およびそのプローブカード
JPH113919A (ja) * 1997-06-11 1999-01-06 Seiko Epson Corp Ic検査方法及びプローブカード
JP2003273176A (ja) * 2002-03-14 2003-09-26 Seiko Epson Corp 検査装置、検査方法および検査プログラム
JP2003344501A (ja) * 2002-05-29 2003-12-03 Ando Electric Co Ltd 半導体集積回路試験装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0774218A (ja) * 1993-09-03 1995-03-17 Nec Corp Icのテスト方法およびそのプローブカード
JPH113919A (ja) * 1997-06-11 1999-01-06 Seiko Epson Corp Ic検査方法及びプローブカード
JP2003273176A (ja) * 2002-03-14 2003-09-26 Seiko Epson Corp 検査装置、検査方法および検査プログラム
JP2003344501A (ja) * 2002-05-29 2003-12-03 Ando Electric Co Ltd 半導体集積回路試験装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4722227B2 (ja) * 2008-05-21 2011-07-13 株式会社アドバンテスト 試験用ウエハユニットおよび試験システム
CN112382582A (zh) * 2020-10-28 2021-02-19 海光信息技术股份有限公司 一种晶圆测试分类方法及系统
CN112382582B (zh) * 2020-10-28 2023-04-25 海光信息技术股份有限公司 一种晶圆测试分类方法及系统

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5475695A (en) Automatic failure analysis system
US20160131702A1 (en) Assembling devices for probe card testing
US8797056B2 (en) System and method for electronic testing of partially processed devices
US7719301B2 (en) Testing method of semiconductor integrated circuit and information recording medium
US11009544B2 (en) Inspection system, wafer map display, wafer map display method, and computer program
US20120212245A1 (en) Circuit and method for testing insulating material
CN114678288A (zh) 晶圆的测试方法、装置及计算机可读存储介质
JP2007311712A (ja) 半導体ウエハー試験方法、プログラム、記録媒体、及び半導体ウエハー試験装置
TWI443764B (zh) 測試用基板製造裝置、測試用基板製造方法以及程式產品
US20220383473A1 (en) Method and system for diagnosing a semiconductor wafer
JP6157270B2 (ja) プローブ装置及びプローブ方法
JPH0574878A (ja) ウエーハの試験方法
JP2002237505A (ja) 半導体装置のテストシステムおよびテスト方法
US7254759B2 (en) Methods and systems for semiconductor defect detection
KR20040054904A (ko) 소켓 및 이를 이용한 반도체 집적소자 테스트 정보 관리시스템
JP2549085B2 (ja) 半導体試験装置
JP2010165819A (ja) 半導体集積回路の試験装置、試験方法
JP4137082B2 (ja) 半導体装置の試験装置
US20200373209A1 (en) Inspection system and method for inspecting semiconductor package, and method of fabricating semiconductor package
US8836355B2 (en) Dynamic testing based on thermal and stress conditions
JP2006302993A (ja) プローブカード接続良否判定方法およびその装置
KR100793271B1 (ko) 프로빙 검사장치용 맵 데이터 작성 방법, 및 이를 이용한반도체 칩 검사 방법
Campisi Measurement Aspects of Nonvolatile Memory
TW202405658A (zh) 晶圓測試機以及晶圓測試方法及系統
JP2008210831A (ja) 半導体チップの検査方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20090227

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20111020

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111025

A761 Written withdrawal of application

Effective date: 20111026

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111110

A072 Dismissal of procedure

Effective date: 20120214

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072

A072 Dismissal of procedure

Effective date: 20120228

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072