JP2007305614A - 基板の反り測定装置及び基板処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハWを載置する載置台110に複数の貫通孔120a、120bを設ける。さらに載置台110の載置面上にウェハWを支持する複数の支持ピン121を設ける。支持ピン121はPEB装置内の熱板上のピンと同一位置に配置されている。ウェハWを下降させて載置台110に載置する際に、ウェハWと載置台110の間の空気がこれらの複数の貫通孔120a、120bから抜け出るので、ウェハWは水平方向にずれることがなく、載置台110の所定の位置に正確に載置される。また、PEB装置内の熱板上の複数のピンに支持されることによって生じるウェハの微小な反りと同一の反りも測定することができ、ウェハWの反りを正確に測定することができる。
【選択図】図4
Description
84〜89 ポストエクスポージャーベーキング装置(PEB装置)
95 反り測定装置
110 載置台
112 昇降ピン
115 レーザ変位計(ウェハWの中心部上方)
116 レーザ変位計(ウェハWの外周部上方)
120 貫通孔
121 支持ピン
131 載置台
132 溝部
133 ウェハ搬送体
136 支持部
137 回転部
W ウェハ
Claims (7)
- 基板の反りを測定する装置であって、
基板が載置される基板載置台と、
前記基板載置台に載置された基板の反りを測定する反り測定部材と、を有し、
前記基板載置台は、載置面を貫通する複数の貫通孔を有することを特徴とする、基板の反り測定装置。 - 前記複数の貫通孔は、同一円周上に等間隔に配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の基板の反り測定装置。
- 前記複数の貫通孔は、2以上の円周上に配置され、さらに前記基板載置台の中心側にある貫通孔が周辺側にある貫通孔よりも大きいことを特徴とする、請求項2に記載の基板の反り測定装置。
- 前記基板載置台は、基板を支持する複数の支持部材を載置面上に有し、当該複数の支持部材は、基板を加熱する加熱処理装置内の熱板上の複数の支持部材と同一の配置であることを特徴とする、請求項1〜3に記載の基板の反り測定装置。
- 前記基板載置台はその周面に複数の鉛直方向の溝を有し、当該複数の溝は、基板の搬送体における基板を支持する複数の支持部が上下方向に通過できる形状であることを特徴とする、請求項1〜4に記載の基板の反り測定装置。
- 前記基板載置台は、前記複数の溝の位置を周方向に移動可能であることを特徴とする、請求項1〜5に記載の基板の反り測定装置。
- 前記請求項1〜6に記載の基板の反り測定装置と、前記基板を加熱する加熱処理装置と、を有することを特徴とする、基板処理システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Citations (6)
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