JP2007305528A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に一定の方向に複数の金属電極を形成し、それらの金属電極上にガラス材を焼成してなる誘電体層を備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、金属電極を6μm以下の膜厚で形成し、誘電体層を25μm以下の膜厚で形成する。
【選択図】図2
Description
PDPは、このように作製した前面側の基板と背面側の基板とを対向させて周辺を封止した後、内部に放電ガスを封入することにより製造されている。
透明電極は、基板上にITOやSnO2などを成膜してパターニングすることにより形成される。
このようにして表示電極が形成された後、その表示電極の上に誘電体層が形成され、その上に保護膜が形成される。
これらの誘電体層の材料は、加工形成が容易であるという理由から、通常、鉛を含む低融点ガラスが使用されている(特許文献1参照)。
前面側のガラス基板11の上には、表示電極X,Yが形成されている。表示電極X(X電極)と表示電極Y(Y電極)は同じ構造であり、それぞれ透明電極11の上に金属製のバス電極12が形成された構造となっている。
前面側の基板は次のようにして製造する。まず、ガラス基板11上にITOからなる透明導電膜を蒸着法やスパッタ法などで形成し、その透明導電膜をフォトリソグラフの手法でパターニングすることにより透明電極12を形成する。そして、透明電極12の上にCr−Cu−Crの三層の金属導電膜を蒸着法やスパッタ法などで形成し、その金属導電膜上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜をフォトリソグラフの手法でパターニングした後、不要部分の金属導電膜をエッチングで除去することでバス電極13を形成する。このようにして、表示電極Xと表示電極Yを同時に形成する(図3(a)参照)。表示電極X,Yは6μm以下の厚みで形成する。バス電極13のCu部分の膜厚は3〜4μmである。
誘電体層は、複数の誘電体層を積層することで形成してもよい。たとえば誘電体層を二層または三層に形成してもよい。誘電体層を二層に形成する場合であれば、たとえば第1の誘電体層を12μm以下の膜厚で形成し、その上に第2の誘電体層を13μm以下の膜厚で形成する。
これらの表とグラフは以下の結果を示す。すなわち、3〜4μmの厚みで表示電極が形成されたガラス基板上に、無鉛系のガラス粉末を混入したグリーンシートを貼り付けて、600〜610℃で焼成することで、焼成後の誘電体層の膜厚が20μmとなるように誘電体層を形成した。表とグラフは、このときの誘電体層の膜厚(μm)と泡の数(個)との関係を示したものである。グラフ中、実線は直径5〜10μm大きさの泡の数を示し、点線は直径10μm以上の大きさの泡の数を示している。
(i)誘電体層の膜厚が10μmである場合には、φ5〜10μmの泡は「0」個、φ10μm以上の泡も「0」個であった。
(ii)誘電体層の膜厚が20μmである場合には、φ5〜10μmの泡は「2」個、φ10μm以上の泡は「0」個であった。
(iii)誘電体層の膜厚が25μmである場合には、φ5〜10μmの泡は「10」個、φ10μm以上の泡は「3」個であった。
(iv)誘電体層の膜厚が35μmである場合には、φ5〜10μmの泡は「58」個、φ10μm以上の泡は「7」個であった。
(v)誘電体層の膜厚が45μmである場合には、φ5〜10μmの泡は「51」個、φ10μm以上の泡は「16」個であった。
11 前面側の基板
12 透明電極
13 バス電極
17,24 誘電体層
18 保護膜
21 背面側の基板
28R,28G,28B 蛍光体層
29 隔壁
30 放電空間
A アドレス電極
L 表示ライン
X,Y 表示電極
Claims (6)
- 基板上に一定の方向に複数の金属電極を形成し、それらの金属電極上にガラス材を焼成してなる誘電体層を備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、
金属電極を6μm以下の膜厚で形成し、誘電体層を25μm以下の膜厚で形成してなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 前記誘電体層は、膜厚12μm以下の第1の誘電体層と、その上に積層された膜厚13μm以下の第2の誘電体層とからなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 基板上に一定の方向に複数の金属電極を形成し、それらの金属電極上に誘電体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
金属電極を6μm以下の膜厚で形成した後、ガラス材を25μm以下の膜厚で配置して焼成することにより誘電体層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記ガラス材を配置することが、無鉛系のガラスフリット、バインダー樹脂、および溶媒からなるガラスペーストを塗布することからなり、
前記無鉛系のガラスフリットが、B2O3−SiO2−ZnO系ガラス、Bi2O3−B2O3−SiO2系ガラス、B2O3−SiO2−Al2O3系ガラス、ZnO−B2O3−SiO2−BaO系ガラス、またはこれらのガラス系にアルカリ・アルカリ土類酸化物が混入されたガラスである請求項3記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前記誘電体層が、第1の誘電体層を12μm以下の膜厚で形成し、その上に第2の誘電体層を13μm以下の膜厚で形成することで形成されてなる請求項3記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記金属電極が、基板上にCr層を、その上にCu層を、その上にCr層を、それぞれ気相成膜法で形成し、その三層の金属膜上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜をフォトリソグラフの手法でパターニングした後、不要部分の金属膜をエッチングで除去することによって形成した、Cr−Cu−Crの三層構造の金属電極である請求項3〜5のいずれか1つに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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