JP2004055222A - プラズマ・ディスプレイ・パネル及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】プラズマ・ディスプレイ・パネルを構成する誘電体層または絶縁体層の厚みむらに起因する膜厚斑を抑制して、表示画質の均質化を図ったプラズマ・ディスプレイ・パネルを提供する。
【解決手段】誘電体層１０５、絶縁体層１１３の材料であるガラス樹脂を塗布するに際し、塗布機の走査方向に所定の角度をもたせて走査してガラス樹脂を２回に分けて塗布し、第１の誘電層１０５ａ及び第２の誘電体層１０５ｂを形成する。
【選択図】 図１
【解決手段】誘電体層１０５、絶縁体層１１３の材料であるガラス樹脂を塗布するに際し、塗布機の走査方向に所定の角度をもたせて走査してガラス樹脂を２回に分けて塗布し、第１の誘電層１０５ａ及び第２の誘電体層１０５ｂを形成する。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像表示機能を有するマトリクス型表示装置、とりわけプラズマ・ディスプレイ・パネルおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図６は従来よく知られている平板型表示装置の一つの、ＡＣ型プラズマ・ディスプレイ・パネル構造の概要を示す。
【０００３】
ＡＣ型プラズマ・ディスプレイ・パネルは前面板１００と背面板１１０を備える。前面板１００は、ガラス基板１０１上に順次形成した行電極１０４、誘電体層１０５、および保護層１０６を備えている。行電極１０４は走査電極１０２および維持電極１０３で構成し、さらに、走査電極１０２および維持電極１０３はそれぞれ透明電極１０２ａ、１０３ａと、透明電極１０２ａ、１０３ａに接触して形成されたバス電極１０２ｂ、１０３ｂが備えられている。なお、行電極１０４はブラックストライプ１０７を介してガラス基板１０１の１辺に平行に複数本形成する。
【０００４】
一方、背面板１１０は、ガラス基板１１１上に順次形成した列電極１１２、絶縁体層１１３、隔壁１１４、および蛍光体１１５を備える。なお、蛍光体１１５はそれぞれ隔壁１１４により分離されて赤色蛍光体１１５ａ、緑色蛍光体１１５ｂ、および青色蛍光体１１５ｃで１画素を構成する。
【０００５】
こうした前面板１００と背面板１１０は図７に示すように行電極１０４と列電極１１２とを対向して配置し、フリットガラス等のシール材を用いて両者を貼り合わせる。そして、加熱しながら脱ガス処理をし、両者の間に設けた間隙１２０にキセノンを主成分とする不活性ガスを封入してプラズマ・ディスプレイ・パネルを完成させる。
【０００６】
プラズマ・ディスプレイ・パネルにおいては、行電極１０４を構成する走査電極１０２および維持電極１０３の抵抗値を下げるためにバス電極１０２ｂおよび１０３ｂ、列電極１１２の２種類の金属配線パターンを付加するのが一般的である。
【０００７】
すなわち、バス電極１０２ｂ、１０３ｂには比較的大きな電流が流れるので、その抵抗値を下げるために、これらの電極、配線を多層構造にしてバス電極１０２ｂ、１０３ｂの電極厚を大きくしている。また、電極、配線抵抗値を下げる他の方法としては図示はしないが、電極幅、配線幅を大きくすることも行われるが、この方法では集積度に影響を与える。なお、バス電極１０２ｂ、１０３ｂはパネル表面の外光反射特性に影響するため、黒色化等の対策が必要になる。しかし、列電極１１２は行電極１０４に比べて低抵抗化や黒色化の必然性は低いとされている。
【０００８】
このような中でこれら金属配線パターン材としては低抵抗性を図るために銀系合金を用いたり、安価な銅を用いてＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造を採用するのが一般的である。
【０００９】
前面板１００に形成する誘電体層１０５は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）を主成分とするガラス状樹脂を膜厚３０μｍ〜４０μｍで塗布し、加熱硬化して形成する。また、保護層１０６としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を電子ビーム蒸着等の成膜方法により膜厚０．４μｍ〜１μｍに形成する。背面板１１０に形成する絶縁体層１１３としては、ＳｉＯ２を主成分とするガラス状樹脂を１０μｍ程度の厚さに塗布して形成する。
【００１０】
プラズマ・ディスプレイ・パネルを製作するには前面板１００にはたとえば誘電体層１０５を、背面板１１０にはたとえば絶縁体層１１３を形成する。これらの層の膜厚はいずれも１０μｍ〜４０μｍと比較的厚く形成されること、また、画像表示部に形成することから、ＳｉＯ２を主成分とするガラスパウダと、バインダ樹脂および希釈溶剤との混合液からなる厚膜のガラス樹脂を画像表示部に選択的に塗布し、加熱焼成によるガラス化工程を経て形成する。
【００１１】
こうした厚膜樹脂の選択的塗布には図８に示すスリットコータ（またはダイコート）と称する塗布機３０を用いる。この塗布機３０を用いるときには図示しないが、平坦度の高いステージ上に前面基板１００が真空吸着等の手段で固定されている。そして、前面基板１００の画像表示部に塗布機３０を前面基板１００から１０μｍほど離し、スリット３１からガラス樹脂３２を滴下しながら前面基板１００の１辺に平行に走査して塗布する。このとき、焼成時にガラス樹脂中の溶剤の蒸発等により膜厚が収縮するので、当初の塗布膜厚は２０μｍ〜１００μｍ程度と厚くしておくとよい。
【００１２】
続いて、加熱焼成して誘電体層１０５を形成する。絶縁体層１１３も同様な方法により形成する。誘電体層１０５あるいは絶縁体層１１３の形成工程で、ガラス樹脂３２の滴下量が塗布機３０の巾方向（Ｗ方向）に一様でないとすると、図８に示すように塗布機３０の走査方向に筋状の膜厚斑３３が発生する。スリット３１の巾ｔの機械的精度を上げても、スリット３１の先端部には粘度の高いガラス樹脂３２が蓄積されていくので、長期間の使用により筋状の膜厚斑３３が生じることをある程度是認しなければならない。したがって、これまでは適宜スリット３１を交換あるいは洗浄する必要があった。
【００１３】
また、ガラス樹脂３２の塗布膜厚が２０μｍ〜１００μｍと比較的厚い膜厚を有するため、加熱焼成工程で加熱を急激に施すと、ガラス樹脂３２に含まれる溶剤が突沸してピンホール発生の原因になるので、これらのピンホール発生を抑制するため、ガラス樹脂３２を複数回に分けて塗布することも一般的に行われている。
【００１４】
また、誘電体層１０５あるいは絶縁体層１１３に筋状の膜厚斑３３が生じると、プラズマ・ディスプレイ・パネルの輝度に筋状の濃淡が生じ、画質が低下するという不都合が生じる。図８においてガラス樹脂３２を塗布した前面基板１０１のＡ−Ａ線における断面図を図９に示す。ガラス樹脂を１回塗布した場合は、一般的には膜厚斑３４が発生する。２回塗布する方法では図９に示すように、１回目の塗布により生じた膜厚斑３４と２回目の塗布により生じる膜厚斑３５が干渉して、膜厚の極大値と極大値が一致した場合や、極小値と極小値とが一致した場合にはより大きな膜厚斑をもたらし、画質低下の大きな原因となる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこうした誘電体層あるいは絶縁体層を形成するに際し、膜厚斑の少ないプラズマ・ディスプレイ・パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルでは、誘電体層あるいは絶縁体層を形成するに際し、塗布機で塗布するこれらの第１の塗布層と第２の塗布層とを互いに所定の角度をもって塗布する。これによって、誘電体層あるいは絶縁体層に発生する筋状の膜厚斑の発生を抑制することができる。
【００１７】
すなわち本発明は、透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極上に絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルであって、前記誘電体層および絶縁体層の少なくとも一方は、第１の塗布方向で塗布された第１の塗布層と、前記第１の塗布方向と所定の角度をもって塗布された第２の塗布層とにより構成されているプラズマ・ディスプレイ・パネルである。
【００１８】
これによって、誘電体層あるいは絶縁体層は、塗布方向が互いに所定の角度をもって形成された２層構造となり、誘電体層あるいは絶縁体層の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制したプラズマ・ディスプレイ・パネルを提供することができる。
【００１９】
また本発明は、透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極上に絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記第１の基板上に透明導電層と透明導電層に接触して形成したバス電極からなる行電極を形成する工程と、前記第１の基板に第１の塗布方向で第１の誘電体層を形成する工程と、前記第１の塗布方向とは所定の角度をもって第２の誘電体層を形成する工程と、前記第１および第２の誘電体層をガラス化する工程と、ガラス化した前記第２の誘電体層上に保護絶縁層を形成する工程とを含むプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法である。
【００２０】
これによって、誘電体層あるいは絶縁体層は、塗布方向が互いに所定の角度をもって２層構造を成すので、誘電体層あるいは絶縁体層の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制した、プラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法を提供することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について以下説明する。
【００２２】
（実施の形態１）
本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルの一実施例を図１に示す。基本的には図６に示した従来例とほぼ同じ構成を成している。図１には明示しないが本発明は、誘電体層１０５を第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂで構成し、これらの誘電体層同士は所定の角度をもって形成されている。また、絶縁体層１１３も少なくとも第１の絶縁体層および第２の絶縁体層で構成し、これらの絶縁層同士も同一方向ではなく所定の角度をもたせて形成している。誘電体層１０５および絶縁体層１１３の両者を所定の角度をもって２層構造の層としてもよいが、これら両者の少なくとも一方を２層構造とし、かつ、これらを所定の角度をもたせて構成してもよい。
【００２３】
他の構成要素については従来例を示した図６とほぼ同じであるので、詳細な説明は省略する。本発明の特徴は図２〜図５によって説明される。前面板１００の作成工程の概要を図２を参照して述べる。
【００２４】
図２（ａ）は前面板１００の製造工程を示す。前面板１００を製作するにあたってはまず、板厚３ｍｍ程度の例えばソーダライム系のガラス基板１０１上に、スパッタ等の真空成膜装置を用いて膜厚０．２μｍのＩｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ）膜を被着し、イオンビームエッチング等の微細加工技術を用いて１対の透明電極１０２ａ、１０３ａを複数個形成する。
【００２５】
次に、図２（ｂ）に示すように、相隣接する１対の透明電極１０２ａ、１０３ａの間にブラックストライプ１０７を形成する。ブラックストライプ１０７は金属酸化物黒色顔料を含むペースト状感光性ガラス材料を主成分とし、ガラス基板１０１上に印刷塗布し、乾燥後フォトリソグラフィ技術を用いて露光現像し、所定のパターンを形成する。
【００２６】
次に、図２（ｃ）に示すように、透明電極１０２ａ、１０３ａおよびブラックストライプ１０７を形成したガラス基板１０１上に、スパッタ等の真空成膜装置を用いて膜厚がそれぞれ０．１μｍ、３μｍ、０．１μｍのＣｒ１３、Ｃｕ１４、Ｃｒ１５を順次積層してそれぞれの膜を形成する。
【００２７】
続いて図２（ｄ）に示すように、Ｃｒ１５の表面に感光性樹脂からなるレジスト膜を塗布し、フォトマスクを通してレジスト膜に紫外線を選択照射し、現像してバス電極１０２ｂ、１０３ｂに対応する位置にレジストパターン１６を形成する。
【００２８】
また図２（ｅ）に示すように、レジストパターン１６をマスクとして、硝酸第２セリウム・アンモニウム等の材料からなるＣｒエッチング液と、塩化第２鉄または塩化第２銅の水溶液からなるＣｕエッチング液を用いて、露出しているＣｒ１５、Ｃｕ１４およびＣｒ１３の各層を順次除去する。そして、透明電極１０２ａ、１０３ａに接触してＣｒ１３、Ｃｕ１４およびＣｒ１５の３層構造からなるバス電極１０２ｂ、１０３ｂを形成する。
【００２９】
ここで、バス電極１０２ｂ、１０３ｂの形成方法としては、感光性銀を用いフォトリソグラフィ技術を用いて形成することもできる。さらに銀ペーストを用いた印刷によってる選択的にパターンを形成してもよい。
【００３０】
次に、レジストパターン１６を除去した後、図２（ｆ）に示すように、１組の走査電極１０２と維持電極１０３により１つの行電極１０４を構成し、相隣接する行電極１０４の間にブラックストライプ１０７を有するガラス基板１０１を得る。
【００３１】
次に、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１０１を平坦度の高いステージ（図示せず）上に真空吸着等の手段で固定し、スリットコータと同様な塗布機３０を、ガラス基板１０１の一辺に平行なＸ方向に走査して第１の誘電体層１０５ａとなるガラス樹脂４１を滴下塗布する。ここで使用するガラス樹脂４１としては、透明性の高いＳｉＯ２を主成分とするガラスパウダと、バインダ樹脂および希釈剤との混合液よりなるガラス樹脂で、塗布厚はおおよそ８０μｍである。また、ガラス樹脂４１はガラス基板１０１の画像表示部のみに選択的に形成する。
【００３２】
次ぎに図３（ｂ）に示すように、ガラス基板１０１の他の一辺Ｙに平行に塗布機３０を走査して、第２の誘電体層１０５ｂとなるガラス樹脂４２を滴下塗布する。ガラス樹脂４２としてはガラス樹脂４１と同じ材料を使用し、塗布厚はおおよそ８０μｍである。
【００３３】
このような方法で塗布した２層のガラス樹脂４１および４２は、それぞれの塗布過程で発生する筋状の膜厚斑４３および４４は互いに直交した構造になり、両者の干渉による厚みむらは分散されて緩和されることになる。
【００３４】
続いてガラス基板１０１を、温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理する。加熱処理工程により、ガラス樹脂４１および４２中の溶剤の乾燥と、バインダ樹脂の熱分解とガス化、およびガラスパウダのガラス化により、第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂを形成する。さらにこの工程によって、誘電体層１０５ａおよび１０５ｂの絶縁性と透明性を高めることができる。
【００３５】
なお、加熱処理後の誘電体層１０５ａおよび１０５ｂを合わせた膜厚は約４０μｍである。
【００３６】
続いて、誘電体層１０５の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層１０６を形成して前面板１００を得る。この後、前記工程を経て構成した前面板１００と別途作成した背面板１１０とを対向して配置し、フリットガラス等のシール剤を用いて両者を貼り合わせてパネル化する。さらに、前記パネルを加熱しながら脱ガス処理を行った後、キセノンを主成分とする不活性ガスからなる放電ガスを封入して、本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルを製作する。
【００３７】
なお、第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂは、共に同一材料のガラス材４１で形成したが、必ずしも同一材料を用いる必要はなく、たとえば誘電率等の電気特性の異なる材料を使用してもよく、あるいは融点等の化学特性の異なる材料を使用してもよい。
【００３８】
このように本発明の実施の形態１によれば、互いに直交させて形成した第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂにより誘電体層１０５を構成する。これによって、誘電体層１０５の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制することができる。
【００３９】
また、第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂを形成するに際し、塗布方向を互いに直交させた２層構造としたが、これらの塗布方向は必ずしも直交させた関係をもたせておく必然性はない。実験によれば６０度以上の角度であれば筋状の膜厚斑の発生を抑制することが可能であることが明らかになった。
【００４０】
（実施の形態２）
本実施の形態２は、誘電体層１０５の形成に際し、ガラス樹脂の塗布を少なくとも２回に分けて行う点は実施の形態１と同じである。実施の形態１との違いは、第１の誘電体層１０５ａを形成するためのガラス樹脂塗布後に、温度２００〜４００℃の不活性ガス中で加熱処理を行う点である。
【００４１】
この加熱処理により、１層目のガラス樹脂は少なくとも溶剤が蒸発するとともに熱硬化が進行して流動性が弱くなっているかあるいは流動性を失っているので、２層目のガラス樹脂塗布時に塗布膜厚が変動するという不都合を排除することができる。特に塗布時に押圧が掛かるスクリーン印刷ではその効果が顕著である。
【００４２】
また、第２の誘電体層１０５ｂを形成するためのガラス樹脂塗布後、温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理することにより、誘電体層１０５の絶縁耐圧を高めることもできる。
【００４３】
なお、実施の形態１および実施の形態２では、走査電極１０２および維持電極１０３は透明電極１０２ａと一本の金属層からなるバス電極１０２ｂで構成するものであったが、図４に示すように分割電極１４１乃至１４４を接続部１４５で接続した構造を有する走査電極１４６あるいは維持電極１４７を用いる場合においても本発明は適用できる。また本発明は、分割電極構造であってもピンホールの発生が抑制されるという効果を奏する。
【００４４】
（実施の形態３）
実施の形態３は背面板１１０の構成および製造方法に関する。実施の形態３に係わる背面板１１０の構成は図４に示した従来例と基本的には同じであるが、絶縁層１１３の構成が異なる。
【００４５】
すなわち実施の形態３では、絶縁層１１３の形成に際し、ガラス樹脂の塗布を少なくとも２回に分けて行い、かつ、塗布方向が互いに直交するよう構成するものである。
【００４６】
以下図５を参照して本実施の形態３に係る背面板１１０の構成について説明する。背面板１１０となるガラス基板１１１の表面に、実施の形態１で説明した方法とほぼ同様な方法により、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造よりなる列電極１１２を形成する。列電極１１２の形成方法としては感光性銀とフォトリソグラフィ技術を用いる方法や、銀ペーストを印刷してパターン形成する方法を用いることができる。
【００４７】
次に、ガラス基板１１１の画像表示部に相当する位置に絶縁層１１３を形成するため、ガラス樹脂を２回に分けて塗布する。塗布方法は実施の形態１で述べた誘電体層１０５の塗布方法と同じでよい。すなわち第１の絶縁層１１３ａはガラス基板１１１の一辺Ｘに平行に塗布機３０を走査し、第２の絶縁層１１３ｂはガラス基板１１１の他の一辺Ｙに平行に塗布機３０を走査してガラス樹脂を塗布する。
【００４８】
絶縁層１１３を形成するためのガラス樹脂としては、シリカ（ＳｉＯ２）を主成分とし、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）等の金属酸化物を添加したガラス樹脂で、反射率を高める効果を有する。なお、塗布膜厚は１層目、２層目とも各々１５μｍである。
【００４９】
続いて、ガラス樹脂を塗布したガラス基板１１１を温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理し、ガラス樹脂中の溶剤の乾燥と、バインダ樹脂の熱分解とガス化、およびガラスパウダをガラス化して膜厚が約１０μｍの絶縁層１１３を形成する。
【００５０】
第１の絶縁層１１３ａおよび第２の絶縁層１１３ｂは共に同一材料のガラス材としたが、必ずしも同一材料を用いる必然性はなく、たとえば誘電率等の電気特性が異なる材料を使用してもよく、あるいは融点等の化学特性の異なる材料を使用してもよい。
【００５１】
この後、隔壁１１４と隔壁１１４の内壁に蛍光体１１５を形成して背面板１１０を得る。前記工程を経て作成した背面板１１０と別途作成した前面板１００を対向して配置し、フリットガラス等のシール材を用いて両者を張り合わせてパネル化する。そして、加熱しながら脱ガス処理を行った後、キセノンを主成分とする不活性ガスからなる放電ガスを封入して本発明の実施の形態３に係わるプラズマ・ディスプレイ・パネルを得る。
【００５２】
以上のように本発明の実施の形態３によれば、第１の絶縁層１１３ａおよび第２の絶縁層１１３ｂを互いに直交する方向で形成して絶縁層１１３を構成するものであるから、絶縁層１１３の厚みむらによって生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制することができる。
【００５３】
（実施の形態４）
実施の形態４は、絶縁層１１３の形成に際し、ガラス樹脂の塗布を２回に分けて行う点は実施の形態３と同じである。実施の形態３との違いは、第１の絶縁層１１３ａを形成するためのガラス樹脂塗布後に、温度２００〜４００℃の不活性ガス中で加熱処理を行う点である。
【００５４】
前記加熱処理により、１層目のガラス樹脂は少なくとも溶剤が蒸発するとともに熱硬化が進行して流動性が弱くなっているかあるいは失っているので、２層目のガラス樹脂塗布時に塗布膜厚が変動するという不都合を排除することができる。特に塗布時に押圧が掛かるスクリーン印刷ではその効果が顕著である。
【００５５】
また、第２の絶縁層１１３ｂを形成するためのガラス樹脂塗布後、温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理することにより、絶縁層１１３の絶縁耐圧を高めることができる。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルは、誘電体層あるいは絶縁体層は、２層構造を含み、かつ、これらの層は互いに所定の角度をもって形成されたものであるから、誘電体層あるいは絶縁体層の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制し、表示画質の均質化を図ることができる。
【００５７】
さらに、２層構造をなす誘電体層あるいは絶縁体層の１層目と２層目の電気的な特性、例えば誘電率を異ならせるならばそれらの膜厚をさらに薄くすることができる。
【００５８】
さらに、２層構造をなす誘電体層あるいは絶縁体層の１層目と２層目の化学的な特性、例えばガラス樹脂の軟化点を変えることにより、絶縁耐圧の改善やピンホール発生を抑制することができる。具体的には第１のガラス樹脂に電極材との反応が少ないガラス樹脂を用いることで絶縁耐圧の改善を図り、あるいは第１のガラス樹脂に電極材との塗れ性が高いガラス樹脂を用いることで、ピンホールの発生を抑制して絶縁耐圧の改善を図ることができる。
【００５９】
また、本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法によれば、設計に自由度が増してプラズマ・ディスプレイ・パネルの高画質設計が容易となり、作製時の歩留まりも向上する等の格別の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの要部を示す斜視図
【図２】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造工程を示す工程図
【図３】（ａ）は本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法を示す工程図（ｂ）は本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの基板上に絶縁層を形成したときを示す斜視図
【図４】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルに好適な走査電極及び維持電極構造を示す断面図
【図５】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの基板上にガラス樹脂（絶縁層）を形成した状態を示す斜視図
【図６】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネルを示す斜視図
【図７】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネルの要部を示す断面図
【図８】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネル製造方法に係る誘電体塗布方法を示す斜視図
【図９】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネル製造方法の誘電体塗布時にガラス基板上に生じた膜厚斑を示す断面図
【符号の説明】
１３，１５ Ｃｒ
１４ Ｃｕ
１６ レジストパターン
３０ 塗布機
３１ スリット
３２，４１，４２ ガラス樹脂
３３，３４，３５，４３，４４ 膜厚斑
１００ 前面板
１０１，１１１ ガラス基板
１０２，１４６ 走査電極
１０２ａ，１０３ａ 透明電極
１０２ｂ，１０３ｂ バス電極
１０３，１４７ 維持電極
１０４ 行電極
１０５ 誘電体層
１０５ａ 第１の誘電体層
１０５ｂ 第２の誘電体層
１０６ 保護層
１０７ ブラックストライプ
１１０ 背面板
１１２ 列電極
１１３ 絶縁体
１１４ 隔壁
１１５ 蛍光体
１２０ 間隙
１４１，１４２，１４３，１４４ 分割電極
１４５ 接続部
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像表示機能を有するマトリクス型表示装置、とりわけプラズマ・ディスプレイ・パネルおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図６は従来よく知られている平板型表示装置の一つの、ＡＣ型プラズマ・ディスプレイ・パネル構造の概要を示す。
【０００３】
ＡＣ型プラズマ・ディスプレイ・パネルは前面板１００と背面板１１０を備える。前面板１００は、ガラス基板１０１上に順次形成した行電極１０４、誘電体層１０５、および保護層１０６を備えている。行電極１０４は走査電極１０２および維持電極１０３で構成し、さらに、走査電極１０２および維持電極１０３はそれぞれ透明電極１０２ａ、１０３ａと、透明電極１０２ａ、１０３ａに接触して形成されたバス電極１０２ｂ、１０３ｂが備えられている。なお、行電極１０４はブラックストライプ１０７を介してガラス基板１０１の１辺に平行に複数本形成する。
【０００４】
一方、背面板１１０は、ガラス基板１１１上に順次形成した列電極１１２、絶縁体層１１３、隔壁１１４、および蛍光体１１５を備える。なお、蛍光体１１５はそれぞれ隔壁１１４により分離されて赤色蛍光体１１５ａ、緑色蛍光体１１５ｂ、および青色蛍光体１１５ｃで１画素を構成する。
【０００５】
こうした前面板１００と背面板１１０は図７に示すように行電極１０４と列電極１１２とを対向して配置し、フリットガラス等のシール材を用いて両者を貼り合わせる。そして、加熱しながら脱ガス処理をし、両者の間に設けた間隙１２０にキセノンを主成分とする不活性ガスを封入してプラズマ・ディスプレイ・パネルを完成させる。
【０００６】
プラズマ・ディスプレイ・パネルにおいては、行電極１０４を構成する走査電極１０２および維持電極１０３の抵抗値を下げるためにバス電極１０２ｂおよび１０３ｂ、列電極１１２の２種類の金属配線パターンを付加するのが一般的である。
【０００７】
すなわち、バス電極１０２ｂ、１０３ｂには比較的大きな電流が流れるので、その抵抗値を下げるために、これらの電極、配線を多層構造にしてバス電極１０２ｂ、１０３ｂの電極厚を大きくしている。また、電極、配線抵抗値を下げる他の方法としては図示はしないが、電極幅、配線幅を大きくすることも行われるが、この方法では集積度に影響を与える。なお、バス電極１０２ｂ、１０３ｂはパネル表面の外光反射特性に影響するため、黒色化等の対策が必要になる。しかし、列電極１１２は行電極１０４に比べて低抵抗化や黒色化の必然性は低いとされている。
【０００８】
このような中でこれら金属配線パターン材としては低抵抗性を図るために銀系合金を用いたり、安価な銅を用いてＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造を採用するのが一般的である。
【０００９】
前面板１００に形成する誘電体層１０５は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）を主成分とするガラス状樹脂を膜厚３０μｍ〜４０μｍで塗布し、加熱硬化して形成する。また、保護層１０６としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）を電子ビーム蒸着等の成膜方法により膜厚０．４μｍ〜１μｍに形成する。背面板１１０に形成する絶縁体層１１３としては、ＳｉＯ２を主成分とするガラス状樹脂を１０μｍ程度の厚さに塗布して形成する。
【００１０】
プラズマ・ディスプレイ・パネルを製作するには前面板１００にはたとえば誘電体層１０５を、背面板１１０にはたとえば絶縁体層１１３を形成する。これらの層の膜厚はいずれも１０μｍ〜４０μｍと比較的厚く形成されること、また、画像表示部に形成することから、ＳｉＯ２を主成分とするガラスパウダと、バインダ樹脂および希釈溶剤との混合液からなる厚膜のガラス樹脂を画像表示部に選択的に塗布し、加熱焼成によるガラス化工程を経て形成する。
【００１１】
こうした厚膜樹脂の選択的塗布には図８に示すスリットコータ（またはダイコート）と称する塗布機３０を用いる。この塗布機３０を用いるときには図示しないが、平坦度の高いステージ上に前面基板１００が真空吸着等の手段で固定されている。そして、前面基板１００の画像表示部に塗布機３０を前面基板１００から１０μｍほど離し、スリット３１からガラス樹脂３２を滴下しながら前面基板１００の１辺に平行に走査して塗布する。このとき、焼成時にガラス樹脂中の溶剤の蒸発等により膜厚が収縮するので、当初の塗布膜厚は２０μｍ〜１００μｍ程度と厚くしておくとよい。
【００１２】
続いて、加熱焼成して誘電体層１０５を形成する。絶縁体層１１３も同様な方法により形成する。誘電体層１０５あるいは絶縁体層１１３の形成工程で、ガラス樹脂３２の滴下量が塗布機３０の巾方向（Ｗ方向）に一様でないとすると、図８に示すように塗布機３０の走査方向に筋状の膜厚斑３３が発生する。スリット３１の巾ｔの機械的精度を上げても、スリット３１の先端部には粘度の高いガラス樹脂３２が蓄積されていくので、長期間の使用により筋状の膜厚斑３３が生じることをある程度是認しなければならない。したがって、これまでは適宜スリット３１を交換あるいは洗浄する必要があった。
【００１３】
また、ガラス樹脂３２の塗布膜厚が２０μｍ〜１００μｍと比較的厚い膜厚を有するため、加熱焼成工程で加熱を急激に施すと、ガラス樹脂３２に含まれる溶剤が突沸してピンホール発生の原因になるので、これらのピンホール発生を抑制するため、ガラス樹脂３２を複数回に分けて塗布することも一般的に行われている。
【００１４】
また、誘電体層１０５あるいは絶縁体層１１３に筋状の膜厚斑３３が生じると、プラズマ・ディスプレイ・パネルの輝度に筋状の濃淡が生じ、画質が低下するという不都合が生じる。図８においてガラス樹脂３２を塗布した前面基板１０１のＡ−Ａ線における断面図を図９に示す。ガラス樹脂を１回塗布した場合は、一般的には膜厚斑３４が発生する。２回塗布する方法では図９に示すように、１回目の塗布により生じた膜厚斑３４と２回目の塗布により生じる膜厚斑３５が干渉して、膜厚の極大値と極大値が一致した場合や、極小値と極小値とが一致した場合にはより大きな膜厚斑をもたらし、画質低下の大きな原因となる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はこうした誘電体層あるいは絶縁体層を形成するに際し、膜厚斑の少ないプラズマ・ディスプレイ・パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルでは、誘電体層あるいは絶縁体層を形成するに際し、塗布機で塗布するこれらの第１の塗布層と第２の塗布層とを互いに所定の角度をもって塗布する。これによって、誘電体層あるいは絶縁体層に発生する筋状の膜厚斑の発生を抑制することができる。
【００１７】
すなわち本発明は、透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極上に絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルであって、前記誘電体層および絶縁体層の少なくとも一方は、第１の塗布方向で塗布された第１の塗布層と、前記第１の塗布方向と所定の角度をもって塗布された第２の塗布層とにより構成されているプラズマ・ディスプレイ・パネルである。
【００１８】
これによって、誘電体層あるいは絶縁体層は、塗布方向が互いに所定の角度をもって形成された２層構造となり、誘電体層あるいは絶縁体層の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制したプラズマ・ディスプレイ・パネルを提供することができる。
【００１９】
また本発明は、透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極上に絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記第１の基板上に透明導電層と透明導電層に接触して形成したバス電極からなる行電極を形成する工程と、前記第１の基板に第１の塗布方向で第１の誘電体層を形成する工程と、前記第１の塗布方向とは所定の角度をもって第２の誘電体層を形成する工程と、前記第１および第２の誘電体層をガラス化する工程と、ガラス化した前記第２の誘電体層上に保護絶縁層を形成する工程とを含むプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法である。
【００２０】
これによって、誘電体層あるいは絶縁体層は、塗布方向が互いに所定の角度をもって２層構造を成すので、誘電体層あるいは絶縁体層の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制した、プラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法を提供することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について以下説明する。
【００２２】
（実施の形態１）
本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルの一実施例を図１に示す。基本的には図６に示した従来例とほぼ同じ構成を成している。図１には明示しないが本発明は、誘電体層１０５を第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂで構成し、これらの誘電体層同士は所定の角度をもって形成されている。また、絶縁体層１１３も少なくとも第１の絶縁体層および第２の絶縁体層で構成し、これらの絶縁層同士も同一方向ではなく所定の角度をもたせて形成している。誘電体層１０５および絶縁体層１１３の両者を所定の角度をもって２層構造の層としてもよいが、これら両者の少なくとも一方を２層構造とし、かつ、これらを所定の角度をもたせて構成してもよい。
【００２３】
他の構成要素については従来例を示した図６とほぼ同じであるので、詳細な説明は省略する。本発明の特徴は図２〜図５によって説明される。前面板１００の作成工程の概要を図２を参照して述べる。
【００２４】
図２（ａ）は前面板１００の製造工程を示す。前面板１００を製作するにあたってはまず、板厚３ｍｍ程度の例えばソーダライム系のガラス基板１０１上に、スパッタ等の真空成膜装置を用いて膜厚０．２μｍのＩｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ）膜を被着し、イオンビームエッチング等の微細加工技術を用いて１対の透明電極１０２ａ、１０３ａを複数個形成する。
【００２５】
次に、図２（ｂ）に示すように、相隣接する１対の透明電極１０２ａ、１０３ａの間にブラックストライプ１０７を形成する。ブラックストライプ１０７は金属酸化物黒色顔料を含むペースト状感光性ガラス材料を主成分とし、ガラス基板１０１上に印刷塗布し、乾燥後フォトリソグラフィ技術を用いて露光現像し、所定のパターンを形成する。
【００２６】
次に、図２（ｃ）に示すように、透明電極１０２ａ、１０３ａおよびブラックストライプ１０７を形成したガラス基板１０１上に、スパッタ等の真空成膜装置を用いて膜厚がそれぞれ０．１μｍ、３μｍ、０．１μｍのＣｒ１３、Ｃｕ１４、Ｃｒ１５を順次積層してそれぞれの膜を形成する。
【００２７】
続いて図２（ｄ）に示すように、Ｃｒ１５の表面に感光性樹脂からなるレジスト膜を塗布し、フォトマスクを通してレジスト膜に紫外線を選択照射し、現像してバス電極１０２ｂ、１０３ｂに対応する位置にレジストパターン１６を形成する。
【００２８】
また図２（ｅ）に示すように、レジストパターン１６をマスクとして、硝酸第２セリウム・アンモニウム等の材料からなるＣｒエッチング液と、塩化第２鉄または塩化第２銅の水溶液からなるＣｕエッチング液を用いて、露出しているＣｒ１５、Ｃｕ１４およびＣｒ１３の各層を順次除去する。そして、透明電極１０２ａ、１０３ａに接触してＣｒ１３、Ｃｕ１４およびＣｒ１５の３層構造からなるバス電極１０２ｂ、１０３ｂを形成する。
【００２９】
ここで、バス電極１０２ｂ、１０３ｂの形成方法としては、感光性銀を用いフォトリソグラフィ技術を用いて形成することもできる。さらに銀ペーストを用いた印刷によってる選択的にパターンを形成してもよい。
【００３０】
次に、レジストパターン１６を除去した後、図２（ｆ）に示すように、１組の走査電極１０２と維持電極１０３により１つの行電極１０４を構成し、相隣接する行電極１０４の間にブラックストライプ１０７を有するガラス基板１０１を得る。
【００３１】
次に、図３（ａ）に示すように、ガラス基板１０１を平坦度の高いステージ（図示せず）上に真空吸着等の手段で固定し、スリットコータと同様な塗布機３０を、ガラス基板１０１の一辺に平行なＸ方向に走査して第１の誘電体層１０５ａとなるガラス樹脂４１を滴下塗布する。ここで使用するガラス樹脂４１としては、透明性の高いＳｉＯ２を主成分とするガラスパウダと、バインダ樹脂および希釈剤との混合液よりなるガラス樹脂で、塗布厚はおおよそ８０μｍである。また、ガラス樹脂４１はガラス基板１０１の画像表示部のみに選択的に形成する。
【００３２】
次ぎに図３（ｂ）に示すように、ガラス基板１０１の他の一辺Ｙに平行に塗布機３０を走査して、第２の誘電体層１０５ｂとなるガラス樹脂４２を滴下塗布する。ガラス樹脂４２としてはガラス樹脂４１と同じ材料を使用し、塗布厚はおおよそ８０μｍである。
【００３３】
このような方法で塗布した２層のガラス樹脂４１および４２は、それぞれの塗布過程で発生する筋状の膜厚斑４３および４４は互いに直交した構造になり、両者の干渉による厚みむらは分散されて緩和されることになる。
【００３４】
続いてガラス基板１０１を、温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理する。加熱処理工程により、ガラス樹脂４１および４２中の溶剤の乾燥と、バインダ樹脂の熱分解とガス化、およびガラスパウダのガラス化により、第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂを形成する。さらにこの工程によって、誘電体層１０５ａおよび１０５ｂの絶縁性と透明性を高めることができる。
【００３５】
なお、加熱処理後の誘電体層１０５ａおよび１０５ｂを合わせた膜厚は約４０μｍである。
【００３６】
続いて、誘電体層１０５の表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層１０６を形成して前面板１００を得る。この後、前記工程を経て構成した前面板１００と別途作成した背面板１１０とを対向して配置し、フリットガラス等のシール剤を用いて両者を貼り合わせてパネル化する。さらに、前記パネルを加熱しながら脱ガス処理を行った後、キセノンを主成分とする不活性ガスからなる放電ガスを封入して、本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルを製作する。
【００３７】
なお、第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂは、共に同一材料のガラス材４１で形成したが、必ずしも同一材料を用いる必要はなく、たとえば誘電率等の電気特性の異なる材料を使用してもよく、あるいは融点等の化学特性の異なる材料を使用してもよい。
【００３８】
このように本発明の実施の形態１によれば、互いに直交させて形成した第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂにより誘電体層１０５を構成する。これによって、誘電体層１０５の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制することができる。
【００３９】
また、第１の誘電体層１０５ａおよび第２の誘電体層１０５ｂを形成するに際し、塗布方向を互いに直交させた２層構造としたが、これらの塗布方向は必ずしも直交させた関係をもたせておく必然性はない。実験によれば６０度以上の角度であれば筋状の膜厚斑の発生を抑制することが可能であることが明らかになった。
【００４０】
（実施の形態２）
本実施の形態２は、誘電体層１０５の形成に際し、ガラス樹脂の塗布を少なくとも２回に分けて行う点は実施の形態１と同じである。実施の形態１との違いは、第１の誘電体層１０５ａを形成するためのガラス樹脂塗布後に、温度２００〜４００℃の不活性ガス中で加熱処理を行う点である。
【００４１】
この加熱処理により、１層目のガラス樹脂は少なくとも溶剤が蒸発するとともに熱硬化が進行して流動性が弱くなっているかあるいは流動性を失っているので、２層目のガラス樹脂塗布時に塗布膜厚が変動するという不都合を排除することができる。特に塗布時に押圧が掛かるスクリーン印刷ではその効果が顕著である。
【００４２】
また、第２の誘電体層１０５ｂを形成するためのガラス樹脂塗布後、温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理することにより、誘電体層１０５の絶縁耐圧を高めることもできる。
【００４３】
なお、実施の形態１および実施の形態２では、走査電極１０２および維持電極１０３は透明電極１０２ａと一本の金属層からなるバス電極１０２ｂで構成するものであったが、図４に示すように分割電極１４１乃至１４４を接続部１４５で接続した構造を有する走査電極１４６あるいは維持電極１４７を用いる場合においても本発明は適用できる。また本発明は、分割電極構造であってもピンホールの発生が抑制されるという効果を奏する。
【００４４】
（実施の形態３）
実施の形態３は背面板１１０の構成および製造方法に関する。実施の形態３に係わる背面板１１０の構成は図４に示した従来例と基本的には同じであるが、絶縁層１１３の構成が異なる。
【００４５】
すなわち実施の形態３では、絶縁層１１３の形成に際し、ガラス樹脂の塗布を少なくとも２回に分けて行い、かつ、塗布方向が互いに直交するよう構成するものである。
【００４６】
以下図５を参照して本実施の形態３に係る背面板１１０の構成について説明する。背面板１１０となるガラス基板１１１の表面に、実施の形態１で説明した方法とほぼ同様な方法により、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造よりなる列電極１１２を形成する。列電極１１２の形成方法としては感光性銀とフォトリソグラフィ技術を用いる方法や、銀ペーストを印刷してパターン形成する方法を用いることができる。
【００４７】
次に、ガラス基板１１１の画像表示部に相当する位置に絶縁層１１３を形成するため、ガラス樹脂を２回に分けて塗布する。塗布方法は実施の形態１で述べた誘電体層１０５の塗布方法と同じでよい。すなわち第１の絶縁層１１３ａはガラス基板１１１の一辺Ｘに平行に塗布機３０を走査し、第２の絶縁層１１３ｂはガラス基板１１１の他の一辺Ｙに平行に塗布機３０を走査してガラス樹脂を塗布する。
【００４８】
絶縁層１１３を形成するためのガラス樹脂としては、シリカ（ＳｉＯ２）を主成分とし、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）等の金属酸化物を添加したガラス樹脂で、反射率を高める効果を有する。なお、塗布膜厚は１層目、２層目とも各々１５μｍである。
【００４９】
続いて、ガラス樹脂を塗布したガラス基板１１１を温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理し、ガラス樹脂中の溶剤の乾燥と、バインダ樹脂の熱分解とガス化、およびガラスパウダをガラス化して膜厚が約１０μｍの絶縁層１１３を形成する。
【００５０】
第１の絶縁層１１３ａおよび第２の絶縁層１１３ｂは共に同一材料のガラス材としたが、必ずしも同一材料を用いる必然性はなく、たとえば誘電率等の電気特性が異なる材料を使用してもよく、あるいは融点等の化学特性の異なる材料を使用してもよい。
【００５１】
この後、隔壁１１４と隔壁１１４の内壁に蛍光体１１５を形成して背面板１１０を得る。前記工程を経て作成した背面板１１０と別途作成した前面板１００を対向して配置し、フリットガラス等のシール材を用いて両者を張り合わせてパネル化する。そして、加熱しながら脱ガス処理を行った後、キセノンを主成分とする不活性ガスからなる放電ガスを封入して本発明の実施の形態３に係わるプラズマ・ディスプレイ・パネルを得る。
【００５２】
以上のように本発明の実施の形態３によれば、第１の絶縁層１１３ａおよび第２の絶縁層１１３ｂを互いに直交する方向で形成して絶縁層１１３を構成するものであるから、絶縁層１１３の厚みむらによって生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制することができる。
【００５３】
（実施の形態４）
実施の形態４は、絶縁層１１３の形成に際し、ガラス樹脂の塗布を２回に分けて行う点は実施の形態３と同じである。実施の形態３との違いは、第１の絶縁層１１３ａを形成するためのガラス樹脂塗布後に、温度２００〜４００℃の不活性ガス中で加熱処理を行う点である。
【００５４】
前記加熱処理により、１層目のガラス樹脂は少なくとも溶剤が蒸発するとともに熱硬化が進行して流動性が弱くなっているかあるいは失っているので、２層目のガラス樹脂塗布時に塗布膜厚が変動するという不都合を排除することができる。特に塗布時に押圧が掛かるスクリーン印刷ではその効果が顕著である。
【００５５】
また、第２の絶縁層１１３ｂを形成するためのガラス樹脂塗布後、温度３００〜６００℃の不活性ガス中で加熱処理することにより、絶縁層１１３の絶縁耐圧を高めることができる。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルは、誘電体層あるいは絶縁体層は、２層構造を含み、かつ、これらの層は互いに所定の角度をもって形成されたものであるから、誘電体層あるいは絶縁体層の厚みむらで生じる筋状の膜厚斑の発生を抑制し、表示画質の均質化を図ることができる。
【００５７】
さらに、２層構造をなす誘電体層あるいは絶縁体層の１層目と２層目の電気的な特性、例えば誘電率を異ならせるならばそれらの膜厚をさらに薄くすることができる。
【００５８】
さらに、２層構造をなす誘電体層あるいは絶縁体層の１層目と２層目の化学的な特性、例えばガラス樹脂の軟化点を変えることにより、絶縁耐圧の改善やピンホール発生を抑制することができる。具体的には第１のガラス樹脂に電極材との反応が少ないガラス樹脂を用いることで絶縁耐圧の改善を図り、あるいは第１のガラス樹脂に電極材との塗れ性が高いガラス樹脂を用いることで、ピンホールの発生を抑制して絶縁耐圧の改善を図ることができる。
【００５９】
また、本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法によれば、設計に自由度が増してプラズマ・ディスプレイ・パネルの高画質設計が容易となり、作製時の歩留まりも向上する等の格別の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの要部を示す斜視図
【図２】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造工程を示す工程図
【図３】（ａ）は本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法を示す工程図（ｂ）は本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの基板上に絶縁層を形成したときを示す斜視図
【図４】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルに好適な走査電極及び維持電極構造を示す断面図
【図５】本発明に係るプラズマ・ディスプレイ・パネルの基板上にガラス樹脂（絶縁層）を形成した状態を示す斜視図
【図６】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネルを示す斜視図
【図７】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネルの要部を示す断面図
【図８】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネル製造方法に係る誘電体塗布方法を示す斜視図
【図９】従来のプラズマ・ディスプレイ・パネル製造方法の誘電体塗布時にガラス基板上に生じた膜厚斑を示す断面図
【符号の説明】
１３，１５ Ｃｒ
１４ Ｃｕ
１６ レジストパターン
３０ 塗布機
３１ スリット
３２，４１，４２ ガラス樹脂
３３，３４，３５，４３，４４ 膜厚斑
１００ 前面板
１０１，１１１ ガラス基板
１０２，１４６ 走査電極
１０２ａ，１０３ａ 透明電極
１０２ｂ，１０３ｂ バス電極
１０３，１４７ 維持電極
１０４ 行電極
１０５ 誘電体層
１０５ａ 第１の誘電体層
１０５ｂ 第２の誘電体層
１０６ 保護層
１０７ ブラックストライプ
１１０ 背面板
１１２ 列電極
１１３ 絶縁体
１１４ 隔壁
１１５ 蛍光体
１２０ 間隙
１４１，１４２，１４３，１４４ 分割電極
１４５ 接続部
Claims (8)
- 透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極上に絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルであって、前記誘電体層および絶縁体層の少なくとも一方は、第１の塗布方向で塗布された第１の塗布層と、前記第１の塗布方向と所定の角度をもって塗布された第２の塗布層とにより構成されているプラズマ・ディスプレイ・パネル。
- 前記誘電体層および絶縁体層の少なくとも一方の層は第１の塗布方向をもって塗布された第１の塗布層と、前記第１の塗布方向と直交して塗布された第２の塗布層とを有する請求項１に記載のプラズマ・ディスプレイ・パネル。
- 透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極上に絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記第１の基板上に透明導電層と透明導電層に接触して形成したバス電極からなる行電極を形成する工程と、前記第１の基板に第１の塗布方向で第１の誘電体層を形成する工程と、前記第１の塗布方向とは所定の角度をもって第２の誘電体層を形成する工程と、前記第１および第２の誘電体層をガラス化する工程と、ガラス化した前記第２の誘電体層上に保護絶縁層を形成する工程とを含むプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法。
- 透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極を覆う位置に配した絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記第１の基板上に透明導電層と透明導電層に接触して形成したバス電極からなる行電極を形成する工程と、前記第１の基板に第１の誘電体層を形成する工程と、前記第１の誘電体層をガラス化する工程と、前記第１の誘電体層の形成とは所定角度をもって第２の誘電体層を形成する工程と、前記第２の誘電体層をガラス化する工程と、ガラス化した前記第２の誘電体層上に保護絶縁層を形成する工程とを含むプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法。
- 前記第１および第２の誘電体層の形成方向は互いに直交していることを特徴とする、請求項３または請求項４に記載のプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法。
- 透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する透明基板からなる第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極を覆う位置に配した絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記第２の基板上に列電極を形成する工程と、前記第２の基板に第１の絶縁体層を形成する工程と、前記第１の絶縁体層と所定角度をもって第２の絶縁体層を形成する工程と、前記第１および第２の絶縁体層をガラス化する工程と、前記ガラス化した第２の絶縁体層上に複数の隔壁を形成する工程と、前記隔壁間に蛍光体層を形成する工程とを含むプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法。
- 透明導電層と、前記透明導電層に接触して形成したバス電極からなる複数本の行電極と、前記行電極を覆う位置に配した誘電体層とを有する透明基板からなる第１の基板と、複数本の列電極と、前記列電極を覆う位置に配した絶縁体層を介して前記列電極間に形成した隔壁と、前記隔壁間に形成した蛍光体層とを有する第２の基板とを対向して配設し、前記第１および第２の基板間に放電ガスを充填してなるプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記第２の基板上に列電極を形成する工程と、前記第２の基板の一辺に対し平行方向に走査して第１の絶縁体層を形成する工程と、前記第１の絶縁体層をガラス化する工程と、前記走査方向に対し所定角度の方向に走査して第２の絶縁体層を形成する工程と、前記第２の絶縁体層をガラス化する工程と、前記ガラス化した第２の絶縁体層上に複数の隔壁を形成する工程と、前記隔壁間に蛍光体層を形成する工程とを含むプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法。
- 前記第１および第２の絶縁体層の形成方向が互いに直交していることを特徴とする、請求項６または請求項７に記載のプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法。
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