JP2003068216A

JP2003068216A - プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイ表示装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法

Info

Publication number: JP2003068216A
Application number: JP2002170401A
Authority: JP
Inventors: Hideki Ashida; 英樹芦田; Hiroyuki Yonehara; 浩幸米原; Keisuke Sumita; 圭介住田; Morio Fujitani; 守男藤谷; Junichi Hibino; 純一日比野; Shinya Fujiwara; 伸也藤原; Hideki Marunaka; 英喜丸中; Hitoshi Nakagawa; 整仲川
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-06-12
Filing date: 2002-06-11
Publication date: 2003-03-07

Abstract

(57)【要約】【課題】焼成工程において電極剥離が生じ難いプラズ
マディスプレイパネルを提供する。【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル
は、導電性材料を焼結して形成される多層電極４０９
ａ，ｂ，・・が複数配列された基板を備えるプラズマデ
ィスプレイパネルであって、前記各多層電極は、前記基
板における表示領域内に属する部分と、前記基板におけ
る表示領域外に属し、膜厚が表示領域内に属する部分の
膜厚よりも薄い薄肉部４２０、４２１、・・とを備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関
し、特に電極の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータやテレビ等に用いら
れているディスプレイ装置において、プラズマディスプ
レイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）は、大型で薄
型軽量化を実現することのできるディスプレイデバイス
として注目されている。図１４は、一般的な交流型（Ａ
Ｃ型）ＰＤＰ２１００の概略図である。

【０００３】ＰＤＰ２１００は、互いに主面を対向させ
て配設された前面板２０９０および背面板２０９１から
構成される。前面板２０９０は、前面ガラス基板２１０
１と、表示電極２１０２と、誘電体層２１０６と、保護
層２１０７とからなる。前面ガラス基板２１０１は、前
面板２０９０のベースとなる材料で、この前面ガラス基
板２１０１上に表示電極２１０２が形成されている。

【０００４】この表示電極２１０２は、透明電極２１０
３と、黒色電極膜２１０４と、バス電極２１０５とから
なる。黒色電極膜２１０４は、主成分の酸化ルテニウム
が黒色を呈することで、ガラス裏面側から見た場合の外
光の反射を防止する役割を果たす。また、バス電極２１
０５は、高い導電性を有する銀を主成分とするため、全
体の抵抗値を下げる役割を果たす。

【０００５】ここで、便宜的に、黒色電極膜２１０４と
バス電極２１０５とを合わせたものを多層電極２３０９
という。この多層電極２３０９は、長手方向の一端に、
駆動回路に接続するためのインターフェースとして、電
極の幅が局部的に拡大された矩形状の端子部２１０８を
有する。

【０００６】表示電極２１０２及び前面ガラス基板２１
０１は、さらに、誘電体層２１０６及び保護層２１０７
で覆われている。背面板２０９１は、背面ガラス基板２
１１１と、アドレス電極２１１２と、誘電体層２１１３
と、隔壁２１１４と、隣接する隔壁２１１４どうしの間
隙（以下、「隔壁溝」という。）の壁面に形成された蛍
光体層２１１５とからなる。

【０００７】前面板２０９０及び背面板２０９１は、図
１４に示すように、重ねられた状態で封着され、内部に
放電空間２１１６が形成される。なお、本図では、背面
板２０９１のｙ軸方向の端部が開放されているかのよう
に描かれているが、これは構造を説明し易いように便宜
的に示したものであって、実際には、外周縁部は封着ガ
ラスで接着され、封止されている。

【０００８】放電空間２１１６には、Ｈｅ、Ｘｅ、Ｎｅ
などの希ガス成分からなる放電ガス（封入ガス）が５０
０〜６００Ｔｏｒｒ（６６．５〜７９．８ｋＰａ）程度
の圧力で封入されている。隣り合う一対の表示電極２１
０２と１本のアドレス電極２１１２とが、放電空間２１
１６を挟んで交叉する領域が画像表示に寄与するセルと
なる。

【０００９】このＰＤＰ２１００と駆動回路とを接続す
ることによりプラズマディスプレイ表示装置２１４０が
構成される。駆動回路は、メモリ及び外部より到来する
画像信号にもとづいて、アドレス電極２１１２及び表示
電極２１０２に電圧を印加する回路を有する。上述のよ
うに、１つのセルを横切る表示電極は２つあり、その一
方をＸ電極、他方をＹ電極と呼び、これら電極が交互に
並んでいる。

【００１０】このプラズマディスプレイ表示装置２１４
０において、点灯させようとするセルを横切るＸ電極と
アドレス電極２１１２間に電圧が印加されてアドレス放
電がなされた後に、前記セルを横切るＸ電極及びＹ電極
にパルス電圧が印加されることにより維持放電がなされ
る。プラズマディスプレイ表示装置２１４０において、
放電空間２１１６では、この維持放電により紫外線が発
生し、発生した紫外線が蛍光体層２１１５に当たること
により、この紫外線が可視光に変換され、セルが点灯
し、画像が表示される。

【００１１】ここで、多層電極２３０９、即ち、黒色電
極膜２１０４及びバス電極２１０５の生成方法について
説明する。図１５は、従来の多層電極の製造方法の一例
を示す図である。図１５（ａ）に示すように、最初に前
面ガラス基板２３０２に、例えば酸化ルテニウム等を含
む感光性材料を印刷法等で塗工し、黒色電極膜前駆体２
３０１を形成する。

【００１２】次に、図１５（ｂ）に示すように、黒色電
極膜前駆体２３０１の上に、例えばＡｇ等を含む感光性
材料を印刷法等で塗工しバス電極前駆体２３０３を形成
する。そして、図１５（ｃ）に示すように、露光マスク
２３０５上より、紫外線２３０４を照射すると、黒色電
極膜前駆体２３０１及びバス電極前駆体２３０３に露光
部２３０７と非露光部２３０６が形成される。

【００１３】その際、感光性材料中の感光性成分が紫外
線照射により膜表面より硬化する。続いて、図１５
（ｄ）に示すように、アルカリ等を含む現像液で現像を
行なうと露光部２３０７のみが基板上に残り、積層状態
の黒色電極膜前駆体２３０１及びバス電極前駆体２３０
３にパターンニングが施された多層電極前駆体２３０８
が形成される。

【００１４】つまり、この多層電極前駆体２３０８は、
黒色電極膜前駆体２３０１及びバス電極前駆体２３０３
の２層構造となっている。そして、図１５（ｅ）に示す
ように、多層電極前駆体２３０８が焼成されると、基板
上に残った現像後の多層電極前駆体２３０８に含まれて
いる材料の分子どうしがお互いの距離を縮めながら焼結
する。

【００１５】このとき、多層電極前駆体２３０８の体積
は、減少する。この焼結により、多層電極前駆体２３０
８の黒色電極膜前駆体２３０１の部分が黒色電極膜２１
０４となり、多層電極前駆体２３０８のバス電極前駆体
２３０３の部分がバス電極２１０５となる。なお、バス
電極２１０５の上にさらにバス電極２１０５と同等の材
料を積層することで抵抗値をさらに下げる方法もある。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この焼
成工程において、次の問題点がある。即ち、多層電極前
駆体２３０８が焼成され、多層電極２３０９となると
き、この多層電極２３０９の長手方向の終端部におい
て、剥離が発生する場合がある。ここで、多層電極２３
０９の終端部とは、端子部２１０８のある側のみなら
ず、その逆の終端部も含む。

【００１７】このような多層電極の終端部において発生
する剥離を、以下、電極剥離という。図１６は、電極剥
離の状況を示す概略図である。本図においては、隣接す
る２本の多層電極２３０９、つまり、Ｘ電極及びＹ電極
について着目しており、ここで便宜的に、手前の多層電
極を多層電極２３０９ａといい、もう一方の多層電極を
多層電極２３０９ｂという。

【００１８】ここで、多層電極２３０９ａにおいて、上
述の透明電極２１０３、黒色電極膜２１０４、バス電極
２１０５及び端子部２１０８に対応するものは、それぞ
れ、透明電極２１０３ａ、黒色電極膜２１０４ａ、バス
電極２１０５ａ及び端子部２１０８ａである。また、多
層電極２３０９ｂにおいて、上述の透明電極２１０３、
黒色電極膜２１０４、バス電極２１０５及び端子部２１
０８に対応するものは、それぞれ、透明電極２１０３
ｂ、黒色電極膜２１０４ｂ、バス電極２１０５ｂ及び端
子部２１０８ｂである。

【００１９】正常な状態、即ち、電極剥離は生じていな
い状態では、図１６の左下に示すように、多層電極２３
０９ａのｘ軸右方向の終端部である端子部２１０８ａに
おいては、前面ガラス基板２１０１と多層電極２３０９
ａとが完全に密着している。同様に、正常な状態では、
多層電極２３０９ｂのｘ軸右方向の終端部においても、
前面ガラス基板２１０１と多層電極２３０９ａとが完全
に密着している。

【００２０】このような正常な状態で、多層電極２３０
９ａ及び多層電極２３０９ｂが生成されれば、品質上の
問題は生じないが、図１６の右下に示すように、端子部
２１０８ａの終端部に電極剥離が生じる場合がある。こ
の電極剥離は、端子部だけでなく、端子部がある側と反
対側の多層電極の終端部においても同様に発生する。

【００２１】感光性材料を含む積層金属膜である多層電
極２３０８は、焼成の過程で、多層電極２３０８に含ま
れている感光性材料などが蒸発して雰囲気中に放出し、
残った材料分子間の距離が縮んで焼結されるため、体積
が収縮する。電極剥離は、多層電極２３０９ｂと前面ガ
ラス基板２１０１との密着面が固定された状態で上述の
収縮が生じることにより、多層電極２３０９内部に発生
する応力が原因と考えられる。

【００２２】このように、多層電極を形成するための焼
成工程において、多層電極の終端部に電極剥離が発生す
ると、作成されるＰＤＰの品質不良が発生する。そこで
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、焼
成工程において電極剥離が生じ難いＰＤＰと、このＰＤ
Ｐを搭載したプラズマディスプレイ表示装置と、焼成工
程において電極剥離が生じ難いＰＤＰの製造方法とを提
供することを目的とする。

【００２３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、導電
性材料を焼結して形成される電極が複数配列された基板
を備えるプラズマディスプレイパネルであって、前記各
電極は、前記基板における表示領域内に属する第１部分
と、前記基板における表示領域外に属し、膜厚が当該第
１部分の膜厚よりも薄い第２部分とを備えることを特徴
とし、また、導電性材料を焼結して形成される電極が複
数配列された基板を備えるプラズマディスプレイパネル
であって、前記電極の各列は、その終端部が局部的に拡
幅され、その拡幅部分に少なくとも１つの凹部又は貫通
穴を有することを特徴とする。

【００２４】また、本発明に係るプラズマディスプレイ
パネルの製造方法は、基板を有するプラズマディスプレ
イパネルの製造方法であって、導電性材料を複数列、表
示領域と表示領域以外の領域に跨って、前記基板上に形
成する形成ステップと、形成した前記導電性材料を焼成
して電極を生成する焼成ステップとを有し、焼成後の前
記電極は、前記基板における表示領域内に属する第１領
域と、前記基板における表示領域外に属し、膜厚が当該
電極の第１領域の膜厚よりも薄い第２領域とを有するこ
とを特徴とし、また、基板を有するプラズマディスプレ
イパネルの製造方法であって、前記基板上の表示領域と
当該表示領域以外の領域とに跨がる１列の導電性材料で
あって、その終端部が局部的に拡幅され、その拡幅部分
に少なくとも１つの凹部又は貫通穴を有するものを、複
数列形成する形成ステップと、形成した前記導電性材料
を焼成して電極を生成する焼成ステップとを有すること
を特徴とする。

【００２５】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
面を参照しながら詳細に説明する。［第１の実施の形態］＜構成＞図１は、本発明の第１の実施の形態におけるＰ
ＤＰ４００の概略図である。

【００２６】ＰＤＰ４００は、互いに主面を対向させて
配設された前面板３９０および背面板３９１から構成さ
れる。図中、ｚ方向がＰＤＰの厚み方向、ｘｙ平面がＰ
ＤＰ面に平行な平面に相当する。前面板３９０は、前面
ガラス基板４０１と、表示電極４０２と、誘電体層４０
６と、保護層４０７とからなる。

【００２７】前面ガラス基板４０１は、前面板３９０の
ベースとなる材料で、この前面ガラス基板４０１上に表
示電極４０２が形成されている。表示電極４０２は、透
明電極４０３と、黒色電極膜４０４と、バス電極４０５
とからなる。透明電極４０３は、前面ガラス基板４０１
上の片面に、ｘ方向を長手方向として、ＩＴＯ，ＳｎＯ
₂，ＺｎＯ等の導電性金属酸化物を列状に複数形成した
ものである。

【００２８】ここで、１つのセルに着目したとき、この
セル内を横切る表示電極４０２は２つ存在し、その一方
をＸ電極、他方をＹ電極と呼び、これらの電極が交互に
並んでいる。黒色電極膜４０４は、酸化ルテニウムを主
成分とする材料を上述の透明電極４０３上にこの透明電
極４０３よりも幅を狭くし、透明電極４０３上に積層し
て形成したものである。

【００２９】バス電極４０５は、Ａｇを含む導電性材料
を黒色電極膜４０４上に積層したものである。本発明の
第１の実施の形態におけるＰＤＰ４００は、黒色電極膜
４０４の形成範囲とバス電極４０５の形成範囲とが一致
するように作成するのではなく、これらの形成範囲がこ
れら長手方向の終端部において互いに異なるように作成
する点で、従来のＰＤＰ１００とは異なる。

【００３０】ここで、便宜的に、黒色電極膜４０４とバ
ス電極４０５とを合わせたものを多層電極４０９という
こととする。以下、この多層電極４０９について詳細に
説明する。この多層電極４０９は、長手方向の一端に、
後述の駆動回路４１９と接続するためのインターフェー
スとして、電極の幅が局部的に拡大された矩形状の端子
部４０８を有する。

【００３１】図２は、多層電極４０９の終端部付近にお
ける形状を示す概略図である。本図においては、隣接す
る２本の多層電極４０９について着目しており、説明の
都合上、手前の多層電極を多層電極４０９ａとし、もう
一方の多層電極を多層電極４０９ｂと呼ぶこととする。
また、多層電極４０９ａは、黒色電極膜４０４ａとバス
電極４０５ａとからなり、駆動回路４１９に接続するた
めのインターフェースとしての端子部４０８ａを有す
る。

【００３２】さらに、透明電極４０３ａは、多層電極４
０９ａと共に、各セルへの給電路を形成している。多層
電極４０９ｂと多層電極４０９ａとは同様の構成を有
し、お互いに方向が逆向きに配列されている。図２にお
いて示されている多層電極４０９ｂは、多層電極４０９
ａの図示部分とは逆側の終端部に対応する箇所である。

【００３３】より具体的には、多層電極４０９ｂは、黒
色電極膜４０４ｂとバス電極４０５ｂとを有し、さら
に、後述の駆動回路４１９に接続するためのインターフ
ェースとしての図示していない端子部４０８ｂを有す
る。さらに、透明電極４０３ｂは、多層電極４０９ｂと
共に、各セルへの給電路を形成している。

【００３４】多層電極４０９ａの長手方向の終端部であ
る端子部４０８ａの先端部において、黒色電極膜４０４
ａの終端位置のさらに先に、バス電極４０５の終端位置
があり、このため、黒色電極膜４０４ａのみで構成され
る膜厚が５μｍ以下の薄肉部４２０を有している。ま
た、多層電極４０９ｂの長手方向の終端部（端子部４０
８ｂがない側）の先端部において、黒色電極膜４０４ｂ
の終端位置のさらに先に、バス電極４０５の終端位置が
あり、このため、黒色電極膜４０４ｂのみで構成される
膜厚が５μｍ以下の薄肉部４２１を有している。

【００３５】このような薄肉部が、全ての多層電極の両
端に存在する。誘電体層４０６は、前面ガラス基板４０
１の表示電極４０２が形成された表面全体を覆う誘電物
質からなる層であって、一般的に、鉛系低融点ガラスが
用いられているが、ビスマス系低融点ガラス、或は鉛系
低融点ガラスとビスマス系低融点ガラスの積層物で形成
しても良い。

【００３６】保護層４０７は、酸化マグネシウム（Ｍｇ
Ｏ）からなる薄層であって、誘電体層４０６の表面全体
を覆っている。背面板３９１は、背面ガラス基板４１１
と、アドレス電極４１２と、誘電体層４１３と、隔壁４
１４と、隣接する隔壁４１４どうしの間隙により形成さ
れる隔壁溝の壁面に積層された蛍光体層４１５からな
る。

【００３７】背面ガラス基板４１１は、背面板３９１の
ベースとなる材料であって、この背面ガラス基板４１１
上にアドレス電極４１２が生成される。アドレス電極４
１２は、金属電極（例えば、銀電極あるいはＣｒ−Ｃｕ
−Ｃｒ電極）であって、背面ガラス基板４１１上の片面
に、ｙ方向を長手方向として、Ａｇを含む導電性材料を
列状に複数形成したものである。

【００３８】このアドレス電極４１２の厚みは、通常、
５μｍ以下である。誘電体層４１３は、アドレス電極４
１２が形成された側の背面ガラス基板４１１の全面を覆
うように形成された誘電物質からなる層であって、一般
的に、鉛系低融点ガラスが用いられているが、ビスマス
系低融点ガラス、或は鉛系低融点ガラスとビスマス系低
融点ガラスの積層物で形成しても良い。

【００３９】また、この誘電体層４１３上には、隣接す
るアドレス電極４１２の間隔に合わせて隔壁４１４が生
成される。そして、隣接する隔壁４１４どうしの間隙に
より形成される隔壁溝の壁面には、ＲＧＢのいずれかに
対応する蛍光体層４１５が形成されている。より具体的
には、この蛍光体層４１５は、放電された紫外線により
赤、緑、青のそれぞれ異なる波長の光を発光する３種が
あり、隔壁溝の内壁に、赤、緑、青の蛍光体の順で繰り
返し塗布されている。

【００４０】前面板３９０及び背面板３９１は、図１に
示すように、重ねられた状態で封着され、内部に放電空
間４１６が形成されている。放電空間４１６には、Ｈ
ｅ、Ｘｅ、Ｎｅなどの希ガス成分からなる放電ガス（封
入ガス）が５００〜６００Ｔｏｒｒ（６６．５〜７９．
８ｋＰａ）程度の圧力で封入されている。

【００４１】隣り合う一対の表示電極４０２と１本のア
ドレス電極４１２とが放電空間４１６を挟んで交叉する
領域が、画像表示に寄与するセルとなる。図３に示すよ
うに、ＰＤＰ４００と駆動回路４１９とによりプラズマ
ディスプレイ表示装置５００を構成し、当該プラズマデ
ィスプレイ表示装置５００において、点灯させようとす
るセルのＸ電極とアドレス電極４１２間に電圧が印加さ
れてアドレス放電がなされた後に、隣り合う２つの表示
電極４０２の組にパルス電圧が印加されることにより維
持放電がなされる。

【００４２】この維持放電により紫外線（波長約１４７
ｎｍ）が発生し、発生した紫外線が蛍光体層４１５に当
たることにより、この紫外線が可視光に変換され、セル
が点灯することにより、画像が表示される。＜ＰＤＰの製造方法＞ＰＤＰ４００は、上述のように前
面板３９０と背面板３９１とが重ね合わされて封着さ
れ、さらに放電ガスが充填されることにより作成され
る。

【００４３】以下、前面板３９０の製造方法について説
明する。本発明のガス放電表示パネルの製造方法では、
蒸着法又はスパッタリング法などの公知技術を用いて、
厚さ約２．８ｍｍのソーダガラスからなる前面ガラス基
板４０１の表面上に、厚さ約１４００オングストローム
のＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）またはＳ
ｎＯ₂などの導電体材料を平行に複数列生成することに
より透明電極４０３を形成する。

【００４４】さらに、スクリーン印刷法又はフォトリソ
グラフィー法などの公知技術を用いて、この透明電極４
０３及び前面ガラス基板４０１とに跨って酸化ルテニウ
ムを主成分とする黒色電極膜４０４の前駆体（以下、
「黒色電極膜前駆体４０４ｚ」という。）とＡｇからな
るバス電極４０５の前駆体（以下、「バス電極前駆体４
０５ｚ」という。）とを形成、即ち、多層電極４０９の
前駆体（以下、「多層電極前駆体４０９ｚ」という。）
を形成する。

【００４５】このとき、本発明の第１の実施の形態にお
ける多層電極前駆体４０９ｚは、その終端部において、
黒色電極膜前駆体４０４ｚが形成されておらず、バス電
極前駆体４０５ｚのみが形成されている。このような形
成がなされた前面ガラス基板４０１が、ピーク温度５５
０〜６００℃（好ましくは、５８０〜６００℃）に設定
されたプロファイルで焼成されることにより、多層電極
前駆体４０９ｚが焼結され、黒色電極膜４０４及びバス
電極４０５が生成される。

【００４６】なお、これら黒色電極膜４０４及びバス電
極４０５は、既形成の透明電極４０３ともに表示電極４
０２を構成する。＜多層電極の生成方法＞図４は、上述の多層電極４０９
の生成方法について説明する図である。なお、多層電極
４０９は、複数列存在するため、ここでは、図２のＥ部
における多層電極４０９の生成を例に挙げて説明する。

【００４７】先ず、酸化ルテニウム粒子を含む黒色のネ
ガ型の感光性ペースト７０２ａを、前面ガラス基板４０
１上にスクリーン印刷法により塗布し、室温から８０℃
以上１２０℃以下の範囲まで直線的に上昇させた後、そ
の温度で一定時間保持する温度プロファイルのＩＲ炉に
より乾燥することにより、上述のネガ型の感光性ペース
ト７０２ａから溶剤等が脱気され、黒色電極膜前駆体７
０２ｂが形成される（図４（ａ））。

【００４８】このとき、上述の印刷範囲に、前記薄肉部
４２１に相当する範囲は含まれていない。次に、黒色電
極膜前駆体７０２ｂ及び前面ガラス基板４０１上にＡｇ
粒子を含むネガ型の感光性ペースト７０３ａをスクリー
ン印刷法により塗布し、前記プロファイルのＩＲ炉によ
り乾燥し、感光性ペースト７０３ａから溶剤等が減少し
たバス電極前駆体７０３ｂを形成する（図４（ｂ））。

【００４９】このとき、上述の印刷範囲に、前記薄肉部
４２１に相当する範囲が含まれており、薄肉部４２１の
ｘ軸方向の長さＬが１０μｍ以上となっている。次に、
バス電極前駆体７０３ｂ上に露光マスク７０５を配置
し、その上から紫外線７０４で露光すると、バス電極前
駆体７０３ｂの膜表面からその下層にある黒色電極膜前
駆体７０２ｂに向かって架橋反応が進み重合、高分子化
し、露光部７０６と非露光部７０７が形成される（図４
（ｃ））。

【００５０】なお、このときの露光条件は照度５〜２０
ｍＷ／ｃｍ²、積算光量１００〜６００ｍＪ／ｃｍ²、マ
スクと基板との距離（以下、「プロキシ量」という。）
５０〜２５０μｍである。次に、炭酸ナトリウムを０．
３〜０．５ｗｔ％含む現像液にて現像すると非露光部７
０７が除去され、上述の露光部７０６、即ち、多層電極
４０９ｂの前駆体（以下、「多層電極前駆体４０９ｄ」
という。）が残る（図４（ｄ））。

【００５１】次に、ピーク温度５５０〜６００℃（好ま
しくは、５８０〜６００℃）のベルト式連続焼成炉によ
り焼成を行なうと、現像で残った多層電極前駆体４０９
ｄ中の樹脂成分等が焼失されると共に気化し、ガラスフ
リットが溶融して、導電材料が焼結され、多層電極４０
９ｂが生成される（図４（ｅ））。なお、この焼結に伴
って、この多層電極４０９ｂの見かけの体積は収縮し、
線幅、膜厚が減少する。

【００５２】このとき、薄肉部４２１における膜厚７０
８が、５μｍ以下となっている。また、例えば、多層電
極４０９ｂの抵抗値をより低減するために、感光性ペー
スト７０３ａと同様の材料を多層電極４０９ｂ及び前面
ガラス基板４０１上に印刷し、前記図４（ｂ）から
（ｅ）までと同様の工法で積層した結果、生成される新
たな多層電極７１０において（図４（ｆ））、薄肉部４
２１における焼成後の膜厚７０９が５μｍを超えないよ
うにするとしてもよい。

【００５３】このように黒色電極膜４０４及びバス電極
４０５が生成された前面ガラス基板４０１の面上に印刷
法などの公知技術により誘電体層４０６の前駆体（以
下、「誘電体層前駆体４０６ａ」という。）を形成す
る。この誘電体層前駆体４０６ａを焼結することによっ
て、誘電体層４０６が生成される。

【００５４】さらに、その上に、スパッタリング法など
の公知技術により保護層４０７生成されることとなる。
以上のように、本発明のＰＤＰの製造方法は、多層電極
前駆体４０９ｚの形成時において、その終端部に黒色電
極膜前駆体４０４ｚが積層されておらず、バス電極前駆
体４０５ｚのみが積層されており、多層電極前駆体４０
９ｚが焼成された後に得られる多層電極４０９の終端部
において、膜厚が５μｍ以下となっている薄肉部を有す
る点で、従来とは異なる。

【００５５】以下、背面板３９１の製造方法について説
明する。本発明の第１の実施の形態における背面板３９
１は、従来と同様の製造方法により作成されるものであ
って、スクリーン印刷法によって、厚さ約２．６ｍｍの
ソーダガラスからなる背面ガラス基板４１１の表面上
に、Ａｇを主成分とする導電体材料を一定間隔でストラ
イプ状に塗布されることにより、膜厚１〜５μｍ以下の
アドレス電極４１２の前駆体（以下、「アドレス電極前
駆体４１２ａ」という。）が形成される。

【００５６】このアドレス電極前駆体４１２ａが焼結さ
れることにより、アドレス電極４１２が生成される。な
お、作製するＰＤＰを４０インチクラスのハイビジョン
テレビとするためには、隣り合う２つのアドレス電極４
１２の間隔を０．３６ｍｍ程度以下に設定する。

【００５７】続いて、アドレス電極４１２を形成した背
面ガラス基板４１１の面全体にわたって、鉛系ガラスの
ペーストをコートし、この背面ガラス基板４１１をセッ
ターに積載して焼成することにより、厚さ約２０〜３０
μｍの誘電体層１１３が生成される。さらに、ダイコー
トによる塗膜工法を用いて、鉛系ガラスを主成分とし、
骨材としてアルミナ粉末を添加したペースト状の隔壁材
料を誘電体層１１３の上に塗布形成し、サンドブラスト
法を用いて目的の形状の領域を除く領域だけ削り取るこ
とにより隔壁４１４の前駆体（以下、「隔壁前駆体４１
４ａ」という。）形成し、この隔壁前駆体４１４ａを焼
成することにより、高さ約１００〜１５０μｍの隔壁４
１４が生成される。

【００５８】なお、隔壁４１４の間隔は、およそ０．３
６ｍｍ程度である。続いて、隔壁４１４の壁面と、隣接
する隔壁４１４間で露出している誘電体層４１３に表面
に、赤色（Ｒ）、蛍光体、緑色（Ｇ）蛍光体、青色
（Ｂ）蛍光体のいずれかを含む蛍光体インクが塗布され
る。塗布された各色の蛍光体インクは、乾燥された後に
焼成がなされることによって、各色の蛍光体層４１５が
形成される。

【００５９】なお、蛍光体層４１５を構成する蛍光体材
料として、ここでは、赤色蛍光体：（Ｙ_XＧｄ_1-X）ＢＯ₃：Ｅｕ緑色蛍光体：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ青色蛍光体：ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ³⁺ が用いられるものとする。

【００６０】以上のように前面板３９０及び背面板３９
１が作成された後、公知のＰＤＰの製法技術を用い、前
面板３９０と背面板３９１とが貼り合わされ、封着さ
れ、内部の不純ガスが排気され、放電ガスが充填され
て、ＰＤＰ４００が完成することとなる。本発明のＰＤ
Ｐの製造方法は、前面板３９０の製造方法、特に、多層
電極４０９の生成方法に関するものであり、前面板３９
０及び背面板３９１の貼り合わせ以降の製造方法の説明
は省略する。

【００６１】ここで、多層電極４０９の両端に薄肉部を
設ける理由について説明する。＜薄肉部の効果＞発明者らは、図５に示すように、現像
直後の多層電極前駆体の膜厚が１０μｍ以上の状態もの
を焼成し、その結果得られた多層電極の膜厚が５μｍを
越える場合に、電極剥離が頻繁に発生し、焼成後の多層
電極の膜厚が５μｍ以下である場合には、電極剥離の発
生頻度が低くなることを見いだした。

【００６２】これは、焼成後の多層電極の膜厚が５μｍ
以下である場合には、電極剥離が生じ易い上述の終端部
の密着面におけるせん断応力の値が、単位面積当たりの
密着強度以下となっているためであると思われる。この
ため、焼成後の多層電極の膜厚を全体的に５μｍ以下と
するも考えられるが、成後の多層電極の膜厚を全体的に
薄くすれば、多層電極の抵抗値が高くなるため、プラズ
マディスプレイ表示装置として投入する電力が多くなる
という新たな問題が生じる。

【００６３】特に、セルが存在する領域（以下、「表示
領域」という。）上にある多層電極は、セルが点灯した
ときに、前面板３９０の前面側に向かう光の進行を阻害
しないように、極力幅を狭くする必要があるため、膜厚
の減少は抵抗値の増加に直接的に影響する。つまり、上
述の表示領域において、多層電極の膜厚を５μｍ以下に
することは、極めて困難である。

【００６４】このため、発明者らは、さらに、鋭意検討
を行い、上述のせん断応力の値が局所的に大きくなって
いる範囲がｘ軸方向において、終端部の先端より１０μ
ｍ程度であることを見いだした。したがって、多層電極
の終端部において、ｘ軸方向における少なくも上述の範
囲において膜厚を５μｍ以下にすれば、電極剥離を低減
することができる。

【００６５】以上の理由により、多層電極の両端には、
膜厚５μｍ以下の薄肉部を有することとし、これによっ
て電極の抵抗値を低く維持しながら電極剥離の発生を低
減することを可能とした。＜内部応力の発生状況＞（従来の多層電極における応力）以下、多層電極に薄肉
部を設けることにより、多層電極に発生する応力がどの
ようになるのかを説明する。

【００６６】図６は、従来のＰＤＰ１００における前面
ガラス基板４０１と多層電極３０９ｂとの密着面におい
て生じる応力を示す図である。多層電極３０９ｂは、そ
の終端部から離れている代表点として、Ａ₀点、Ａ₁点及
びＡ₂点に着目し、その終端部周辺の代表点として、Ｂ₀
点、Ｂ₁点及びＢ₂点に着目して説明する。

【００６７】以下、各点で生じている応力について説明
する。Ａ₀点では、ｘ軸左側方向にせん断応力２１０ｘ
が生じている。また、Ａ₁点では、ｘ軸左側方向にせん
断応力２１１ｘと、ｙ軸上側方向にせん断応力２１１ｙ
が生じている。そして、Ａ₂点では、ｘ軸左側方向にせ
ん断応力２１２ｘと、ｙ軸下側方向にせん断応力２１２
ｙが生じている。

【００６８】Ｂ₀点では、ｘ軸左側方向にせん断応力２
２０ｘが生じている。また、Ｂ₁点では、ｘ軸左側方向
にせん断応力２２１ｘと、ｙ軸上側方向にせん断応力２
２１ｙが生じている。そして、Ｂ₂点では、ｘ軸左側方
向にせん断応力２２２ｘと、ｙ軸下側方向にせん断応力
２２２ｙが生じている。

【００６９】これら応力の中で大きな値となっているの
は、せん断応力２２０ｘ、せん断応力２２１ｘ及びせん
断応力２２２ｘ、即ち、終端部のｘ軸方向のせん断応力
である。以下、このように終端部において、ｘ軸方向の
せん断応力が大きくなる理由について説明する。

【００７０】先ず、ｘ軸方向の収縮のみに着目する。例
えば、多層電極３０９ｂの前駆体を上層と下層の２層と
に区分するとき、前面ガラス基板４０１と密着している
下層は、ｘ軸方向に収縮する際に密着面から収縮に逆ら
う反力を受けることにより、この収縮が抑制されると共
に、ｘ軸方向の内部応力が生じる。

【００７１】一方、上面が開放されている上層は、下層
よりも収縮を妨げる力が生じにくいため、下層よりも顕
著に収縮する。このとき、上層が収縮しようとすると当
然に下層から収縮を妨げる方向に反力を受けることにな
り、上層においても下層ほどではないがｘ軸方向の内部
応力が生じる。

【００７２】したがって、下層ほどｘ軸方向の内部応力
が大きい。ところで、多層電極３０９ｂの前駆体におけ
るｙ軸方向の幅は１００μｍ程度であり、端子部１０８
であっても５００μｍ程度である。これに対し、多層電
極３０９ｂの前駆体におけるｘ軸方向の長さは、例え
ば、４２インチクラスのＰＤＰにおいて、９００ｍｍも
ある。

【００７３】したがって、各方向における収縮率が同じ
でも、ｘ軸方向の収縮量は、他のどの方向における収縮
量よりも極めて大きくなる。このようなｘ軸方向の収縮
は、位置的に分散して発生するのではなく、ｘ軸方向の
一端が開放されている多層電極３０９ｂの終端部に偏っ
て起き易い。このとき、上層と下層との収縮量の差が多
層電極３０９ｂの終端部において、他の部位よりも大き
くなるため、ｘ軸方向のせん断応力が大きい値となる。

【００７４】つまり、電極剥離を招く主たる原因と考え
られるのは、終端部のｘ軸方向のせん断応力であると考
えられる。ところで、実際には、多層電極３０９ｂの前
駆体は、ｙ軸方向及びｚ軸方向にも収縮するため、これ
らの方向の収縮それぞれについて説明する。多層電極３
０９ｂの前駆体がｙ軸方向に収縮する場合、多層電極３
０９ｂの前駆体におけるｙ軸方向の幅は１００μｍ程度
であり、端子部１０８であっても５００μｍ程度である
ため、ｙ軸方向の収縮量は小さく、ｙ軸方向のせん断応
力は、ｘ軸方向のせん断応力よりも小さい。

【００７５】また、多層電極３０９ｂにおけるｚ軸方向
の収縮については、ｚ軸方向に収縮を妨げる力は働か
ず、ｚ軸方向のせん断応力はほとんど生じない。このた
め、多層電極３０９ｂにおけるｚ軸方向のせん断応力
は、電極剥離の問題とはならない。（本発明の多層電極における応力）図７は、図２の多層
電極４０９ｂのＥ部において焼成後に発生する内部応力
について説明する図である。

【００７６】ここで、多層電極４０９ｂと前面ガラス基
板４０１との密着面内において、その終端部付近から遠
ざかった範囲を代表する点として、Ｃ₀点、Ｃ₁点及びＣ
₂点に着目し、その終端部付近を代表する点として、Ｄ₀
点、Ｄ₁点及びＤ₂点に着目して説明する。以下、各点で
生じている応力について説明する。

【００７７】Ｃ₀点では、ｘ軸左側方向にせん断応力５
１０ｘが生じている。また、Ｃ₁点では、ｘ軸左側方向
にせん断応力５１１ｘと、ｙ軸上側方向にせん断応力５
１１ｙが生じている。そして、Ｃ₂点では、ｘ軸左側方
向にせん断応力５１２ｘと、ｙ軸下側方向にせん断応力
５１２ｙが生じている。

【００７８】Ｄ₀点では、ｘ軸左側方向にせん断応力５
２０ｘが生じている。また、Ｄ₁点では、ｘ軸左側方向
にせん断応力５２１ｘと、ｙ軸上側方向にせん断応力５
２１ｙが生じている。そして、Ｄ₂点では、ｘ軸左側方
向にせん断応力５２２ｘと、ｙ軸下側方向にせん断応力
５２２ｙが生じている。

【００７９】上述のせん断応力５２０ｘ、せん断応力５
２１ｘ及びせん断応力５２２ｘの値は、従来の多層電極
の終端部におけるｘ軸方向の応力、即ち、せん断応力２
２０ｘ、せん断応力２２１ｘ及びせん断応力２２２ｘと
比べて小さな値となっている。これは、多層電極４０９
ｂの終端部である薄肉部４２１の膜厚が５μｍ以下とな
っているため、薄肉部のｙｚ平面における断面積が従来
よりも小さくなり、この薄肉部４２１における上層で働
いているｘ軸の左方向に縮もうとする力が従来よりも減
少するためである。

【００８０】このため、薄肉部４２１においては、密着
強度以上のせん断力が生じず、電極剥離が生じ難い。逆
に、多層電極４０９ｂの終端部の膜厚が厚くなるほど、
ｙｚ平面における断面積が大きくなり、ｘ軸の左方向に
縮もうとする力が増大することとなり、密着強度以上の
せん断力が生じることとなる。

【００８１】以上のように、本発明の第１の実施の形態
におけるＰＤＰの製造方法では、多層電極４０９の終端
部の先端から１０μｍの範囲において、膜厚が５μｍ以
下の薄肉部を有することにより、当該終端部におけるせ
ん断応力が低減されるので、電極剥離の発生を回避する
ことができる。なお、本発明の第１の実施の形態におけ
るＰＤＰ４００の製造方法において、ネガ型の感光性ペ
ースト７０２ａを、前面ガラス基板４０１上にスクリー
ン印刷法により塗布としたが、これに限らず、スクリー
ン印刷法の代わりとして、感光性材料にフィルム材料を
使用して塗工するラミネート法を用いる場合であって
も、上述の薄肉部としての形状を確保すれば、同様の効
果が得られる。

【００８２】また、第１の実施の形態において、感光性
ペースト７０２ａ及び感光性ペースト７０３ａは、ネガ
型としたが、これのみに限定されるものではない。ま
た、第１の実施の形態において、感光性ペースト７０２
ａ及び感光性ペースト７０３ａは、互いに成分が異なっ
ているように記載しているが、同一成分からなるもので
もよい。

【００８３】また、感光性ペースト７０２ａは、酸化ル
テニウムを含むとしたが、これに限定するものではな
い。また、第１の実施の形態において、多層電極４０９
が配置される前面ガラス基板４０１は、ソーダガラスで
なくともよく、少なくとも焼成温度において、耐熱性を
有し、かつ、規定の透明度を有する材料であればよい。

【００８４】また、ガラス等の基板上に透明電極等があ
らかじめ形成されていてもよい。また、第１の実施の形
態において、印刷後の乾燥は、ＩＲ炉を用い、室温から
８０℃以上１２０℃以下の範囲まで直線的に上昇した
後、その温度で一定時間保持するとしたが、これに限定
されるものではなく、ＩＲ炉以外の設備を用いて乾燥を
行ってもよく、また、上記温度範囲を逸した温度範囲で
乾燥してもよい。

【００８５】また、第１の実施の形態において、露光条
件は、照度５〜２０ｍＷ／ｃｍ²、積算光量１００〜６
００ｍＪ／ｃｍ²、プロキシ量５０〜２５０μｍとした
が、この値に限定されるものではない。また、第１の実
施の形態において、現像液は炭酸ナトリウムを０．３〜
０．５ｗｔ％含む現像液にて現像するとしたが、この値
に限定するものではない。

【００８６】また、第１の実施の形態において、ピーク
温度５５０〜６００℃（好ましくは、５８０〜６００
℃）のベルト式連続焼成炉により多層電極４０９の焼成
を行なうとしたが、この温度範囲に限定するものではな
く、また、使用する設備もベルト式連続焼成炉に限定す
るものではない。［第２の実施の形態］本発明の第２の実施の形態におけ
るＰＤＰ８００は、多層電極の形成方法のみがＰＤＰ４
００と異なっているため、ＰＤＰ４００と共通する内容
について説明は省略することとし、以下、相違点である
多層電極の形成方法についてのみ説明する。＜多層電極の形成方法＞図８は、本発明の第２の実施の
形態におけるＰＤＰ８００の多層電極の生成方法につい
て説明する図である。

【００８７】ここでは、便宜的に、図２のＥ部が、本発
明の第２の実施の形態における多層電極の形成方法よ
り、多層電極４０９ｂが形成されているものとして説明
する。先ず、酸化ルテニウム粒子を含む黒色のネガ型の
感光性ペースト８０２ａを、前面ガラス基板４０１上に
スクリーン印刷法により塗布し、室温から８０℃以上１
２０℃以下の範囲まで直線的に上昇させた後、その温度
で一定時間保持する温度プロファイルのＩＲ炉により乾
燥することにより、上述のネガ型の感光性ペースト８０
２ａから溶剤等が脱気され、黒色電極膜前駆体８０２ｂ
が形成される（図８（ａ））。

【００８８】このとき、上述の印刷範囲に、薄肉部４２
１に相当する範囲が含まれている。次に、黒色電極膜前
駆体８０２ｂ及び前面ガラス基板４０１上にＡｇ粒子を
含むネガ型の感光性ペースト８０３ａをスクリーン印刷
法により塗布し、前記プロファイルのＩＲ炉により乾燥
し、感光性ペースト８０３ａから溶剤等が減少したバス
電極前駆体８０３ｂを形成する（図８（ｂ））このとき、感光性ペースト８０３ａの印刷範囲に、前記
薄肉部４２１に相当する範囲が含まれている。

【００８９】次に、バス電極前駆体８０３ｂ上に露光マ
スク８０５を配置し、その上から紫外線８０４で露光す
ると、バス電極前駆体８０３ｂの膜表面から架橋反応が
進み重合、高分子化し、露光部８０６と非露光部８０７
が形成される（図８（ｃ））。なお、このときの露光条
件は、第１の実施の形態における露光条件と同様であ
る。

【００９０】次に、バス電極前駆体８０３ｂ及び前面ガ
ラス基板４０１上であって、薄肉部４２１に対応する範
囲Ｆを除く範囲にＡｇ粒子を含むネガ型の感光性ペース
ト８０８ａをスクリーン印刷法により塗布し、前記プロ
ファイルのＩＲ炉により乾燥し、感光性ペースト８０８
ａから溶剤等が減少したバス電極前駆体８０８ｂを形成
する（図８（ｄ））次に、バス電極前駆体８０８ｂ上に露光マスク８０９を
配置し、その上から紫外線８０４で露光すると、バス電
極前駆体８０８ｂの膜表面から架橋反応が進み重合、高
分子化し、露光部８１０と非露光部８１１とが形成され
る（図８（ｅ））。

【００９１】なお、このときの露光条件は、図８（ｃ）
における露光条件と同内容である。次に、炭酸ナトリウ
ムを０．３〜０．５ｗｔ％含む現像液にて現像すると非
露光部８０７及び非露光部８１１が除去されることによ
り、残された部分、即ち、パターニングされた部分が多
層電極前駆体８１２となる（図８（ｆ））。次に、ピー
ク温度５５０〜６００℃（好ましくは、５８０〜６００
℃）のベルト式連続焼成炉により焼成を行なうと、多層
電極前駆体８１２中の樹脂成分等が焼失されると共に気
化し、ガラスフリットが溶融して、導電材料が焼結さ
れ、多層電極８１３が生成される（図８（ｇ））。

【００９２】なお、この焼結に伴って、この多層電極８
１３の見かけの体積は収縮し、線幅、膜厚が減少する。
このとき、薄肉部４２１における膜厚８１４が、５μｍ
以下となっている。以上のように、本発明の第２の実施
の形態におけるＰＤＰ８００の製造方法では、第１の実
施の形態のＰＤＰの製造方法と同様に、多層電極の終端
部に膜厚５μｍ以下の薄肉部４２１を設けることがで
き、これにより、多層電極の終端部において発生するｘ
軸方向のせん断応力が緩和されるため、焼成時における
電極剥離の発生を回避することができる。

【００９３】なお、第２の実施の形態において、図８
（ｃ）の露光工程の後に図８（ｆ）の現像工程と同様の
条件で現像を行い、さらに図８（ｇ）の焼成工程と同様
の条件で焼成を行った後、図８（ｄ）以降の工程を経て
多層電極８１３を生成してもよい。また、図８（ｄ）の
印刷工程において、感光性ペースト８０８ａの印刷範囲
が範囲Ｆを含み、図８（ｅ）の露光工程において、露光
マスクが範囲Ｆ上に位置していても、上述と同様の多層
電極８１３を生成することができる。

【００９４】また、本発明の第２の実施の形態における
ＰＤＰ８００の製造方法において、ネガ型の感光性ペー
スト８０２ａを、前面ガラス基板４０１上にスクリーン
印刷法により塗布としたが、これに限らず、スクリーン
印刷法の代わりとして、感光性材料にフィルム材料を使
用して塗工するラミネート法を用いる場合であっても、
上述の薄肉部としての形状を確保すれば、上述と同様の
多層電極を生成することができる。

【００９５】また、第２の実施の形態において、感光性
ペースト８０２ａ、感光性ペースト８０３ａ及び感光性
ペースト８０８ａは、ネガ型としたが、これに限定され
るものではない。また、第２の実施の形態において、感
光性ペースト８０３ａと感光性ペースト８０８ａとが同
一成分であり、感光性ペースト８０２ａとこれらとが成
分が異なっていると記載しているが、これに限らず、例
えば、全て同一成分からなるとしてもよい。

【００９６】また、感光性ペースト７０２ａは、必ずし
も酸化ルテニウムおよびＡｇを含んでなくてもよい。ま
た、第２の実施の形態において、印刷後の乾燥は、ＩＲ
炉を用い、室温から８０℃以上１２０℃以下の範囲まで
直線的に上昇した後、その温度で一定時間保持するとし
たが、これに限定されるものではなく、ＩＲ炉以外の設
備を用いて乾燥を行ってもよく、また、上記温度範囲を
逸した温度範囲で乾燥してもよい。

【００９７】また、第２の実施の形態において、露光条
件は、照度５〜２０ｍＷ／ｃｍ²、積算光量１００〜６
００ｍＪ／ｃｍ²、プロキシ量５０〜２５０μｍとした
が、この値に限定されるものではない。また、第２の実
施の形態において、現像液は炭酸ナトリウムを０．３〜
０．５ｗｔ％含む現像液にて現像するとしたが、この値
に限定するものではない。

【００９８】また、第２の実施の形態において、ピーク
温度５５０〜６００℃（好ましくは、５８０〜６００
℃）のベルト式連続焼成炉により多層電極４０９の焼成
を行なうとしたが、この温度範囲に限定するものではな
く、また、使用する設備もベルト式連続焼成炉に限定す
るものではない。［第３の実施の形態］本発明の第３の実施の形態におけ
るＰＤＰ９００は、多層電極の形成方法のみがＰＤＰ４
００と異なっているため、ＰＤＰ４００と共通する内容
について説明は省略することとし、以下、相違点である
多層電極の形成方法についてのみ説明する。＜多層電極の形成方法＞図９は、本発明の第３の実施の
形態におけるＰＤＰ９００の多層電極の生成方法につい
て説明する図である。

【００９９】ここでは、便宜的に、図２のＥ部が、本発
明の第３の実施の形態における多層電極の形成方法よ
り、多層電極４０９ｂが形成されているものとして説明
する。先ず、酸化ルテニウム粒子を含む黒色のネガ型の
感光性ペースト９０２ａを、前面ガラス基板４０１上に
スクリーン印刷法により塗布し、室温から８０℃以上１
２０℃以下の範囲まで直線的に上昇させた後、その温度
で一定時間保持する温度プロファイルのＩＲ炉により乾
燥することにより、上述のネガ型の感光性ペースト９０
２ａから溶剤等が脱気され、黒色電極膜前駆体９０２ｂ
が形成される（図９（ａ））。

【０１００】このとき、上述の印刷範囲に、薄肉部４２
１に相当する範囲が含まれている。次に、黒色電極膜前
駆体９０２ｂ及び前面ガラス基板４０１上にＡｇ粒子を
含むネガ型の感光性ペースト９０３ａをスクリーン印刷
法により塗布し、前記プロファイルのＩＲ炉により乾燥
し、感光性ペースト９０３ａから溶剤等が減少したバス
電極前駆体９０３ｂを形成する（図９（ｂ））このとき、感光性ペースト９０３ａの印刷範囲に、前記
薄肉部４２１に相当する範囲が含まれている。

【０１０１】次に、露光マスク９０５であって、薄肉部
４２１に対応する範囲Ｆに１０μｍ間隔の幅１０μｍの
ラインで形成されたハーフトーン部９０６を有するもの
を、バス電極前駆体９０３ｂ上に配置し、その上から紫
外線９０４で露光すると、バス電極前駆体９０３ｂの膜
表面から架橋反応が進み重合、高分子化し、露光部９０
７と非露光部９０８が形成されると共に、ハーフトーン
部９０６を通過した紫外線９０４により露光された半露
光部９０９は、露光部９０７ほど架橋反応は進んでいな
いが弱く架橋反応している状態となる（図９（ｃ））。

【０１０２】なお、このとき、露光条件は、照度５〜２
０ｍＷ／ｃｍ²、積算光量１００〜６００ｍＪ／ｃｍ²、
プロキシ量５０〜２５０μｍである。次に、炭酸ナトリ
ウムを０．３〜０．５ｗｔ％含む現像液にて現像すると
非露光部９０８が除去され、パターニングされた多層電
極前駆体９１０が残る。このとき、多層電極前駆体９１
０における半露光部９０９は、完全に重合していない材
料がミクロ的に除去され、露光部９０７よりも単位体積
当たりに存在する電極材料の密度が低い状態となる（図
９（ｄ））。

【０１０３】次に、ピーク温度５５０〜６００℃（好ま
しくは、５８０〜６００℃）のベルト式連続焼成炉によ
り焼成を行なうと、現像で残った多層電極前駆体９１０
中の樹脂成分等が焼失されると共に気化し、ガラスフリ
ットが溶融して、導電材料が焼結され、多層電極９１１
が生成される（図９（ｅ））。なお、この焼結に伴っ
て、この多層電極９１１の見かけの体積は収縮し、線
幅、膜厚が減少する。

【０１０４】このとき、密度の低い半露光部９０９の体
積は収縮し、薄肉部４２１に対応する範囲Ｆにおける膜
厚９１３が、５μｍ以下となっている。ここで、上述の
ように、ハーフトーン露光をする事により膜厚を薄くで
きる理由について説明する。露光時の露光マスクのライ
ン幅とその間隔は、幅が大きいとマスク通りのパターン
で露光されるが、幅が小さくなると露光感度を超えて架
橋反応が極端に弱くなる。

【０１０５】図１０は、感光性ペースト９０２ａ及び感
光性ペースト９０３ａなどの感光性材料をプロキシ量１
００μｍでハーフトーン露光した場合における、ハーフ
トーンマスクのパターン（パターンの幅＝間隔）と現像
後の膜厚との関係を示す図である。ライン幅と間隔が大
きいときの領域はマスク通りのパターンで露光される領
域であり、これを露光領域９９１という。

【０１０６】また、ライン幅と間隔が小さい時の領域は
架橋反応がほとんど行われない領域であり、これを未露
光領域９９３という。露光領域９９１と未露光領域９９
３の間の領域が、露光部より架橋反応は弱いが完全に現
像されない領域であり、これをハーフトーン領域９９２
という。このハーフトーン領域９９２、即ち、上述のパ
ターンの幅及び間隔が１０μｍ前後において露光する事
により、現像時に多層電極前駆体が不完全に現像される
ため、膜厚を薄くすることが可能となる。

【０１０７】なお、このようなハーフトーン露光を実現
するためには、ハーフトーンマスクと感光性ペーストと
の間に間隙を設けるプロキシ露光を実施する必要があ
る。以上のように、本発明の第３の実施の形態における
ＰＤＰ９００の製造方法では、第１及び第２の実施の形
態のＰＤＰの製造方法と同様に、多層電極９１１の終端
部に膜厚５μｍ以下の薄肉部４２１を設けることがで
き、焼成時における電極剥離の発生を回避することがで
きる。

【０１０８】なお、例えば、多層電極９１１の抵抗値を
より低減するために、感光性ペースト９０３ａと同様の
材料を多層電極９１１及び前面ガラス基板４０１上に印
刷し、前記図９（ｂ）から（ｅ）までと同様の工法で積
層した結果、生成される新たな多層電極９１２において
（図９（ｆ））、薄肉部４２１における焼成後の膜厚９
１４が５μｍを超えなければ、電極剥離の発生を抑制す
る効果が得られる。

【０１０９】また、このとき、範囲Ｆにおける感光性ペ
ースト９０３ａの露光において、上述のハーフトーン部
９０６を用いてもよい。［第４の実施の形態］本発明の第４の実施の形態におけ
るＰＤＰ１０００は、多層電極の形成方法のみがＰＤＰ
４００と異なっているため、ＰＤＰ４００と共通する内
容について説明は省略することとし、以下、相違点であ
る多層電極の形成方法についてのみ説明する。＜多層電極の形成方法＞図１１は、本発明の第４の実施
の形態におけるＰＤＰ１０００の多層電極の生成方法に
ついて説明する図である。

【０１１０】ここでは、便宜的に、図２のＥ部が、本発
明の第４の実施の形態における多層電極の形成方法よ
り、多層電極４０９ｂが形成されているものとして説明
する。先ず、以下の特徴を有するスクリーン１０２０を
用い、酸化ルテニウム粒子を含む黒色のネガ型の感光性
ペースト１００２ａを前面ガラス基板４０１上に印刷法
により塗布する。

【０１１１】即ち、印刷に使用するスクリーン１０２０
は、開口率が大きい第１エリア１０２１と開口率が小さ
い第２エリア１０２２を有する。より具体的には、第１
エリア１０２１は、メッシュ数３３４／インチ、紗厚４
５μｍ、開口率３３％のスクリーンからなり、また、第
２エリア１０２２は、メッシュ数３８０／インチ、紗厚
４０μｍ、開口率３２％のスクリーンからなる。

【０１１２】開口率が小さい第２エリア１０２２では、
開口率が大きい第１エリア１０２１より、印刷により形
成される膜厚が少なくなる。これにより、感光性ペース
トの膜厚が厚い部分と薄い部分とを１度の印刷で形成す
ることができる。なお、印刷時における第２エリア１０
２２の位置は、薄肉部４２１が形成されるべき位置にあ
る。

【０１１３】そして、室温から８０℃以上１２０℃以下
の範囲まで直線的に上昇させた後、その温度で一定時間
保持する温度プロファイルのＩＲ炉により乾燥すること
により、上述のネガ型の感光性ペースト１００２ａから
溶剤等が脱気され、黒色電極膜前駆体１００２ｂが形成
される（図１１（ａ））。次に、上述のスクリーン１０
２０を用い、黒色電極膜前駆体１００２ｂ及び前面ガラ
ス基板４０１上にＡｇ粒子を含むネガ型の感光性ペース
ト１００３ａを上述と同様の方法で塗布し、前記プロフ
ァイルのＩＲ炉により乾燥し、感光性ペースト１００３
ａから溶剤等が減少したバス電極前駆体１００３ｂを形
成する（図１１（ｂ））このとき、印刷時における第２エリア１０２２の位置
も、薄肉部４２１が形成されるべき位置にある。

【０１１４】次に、バス電極前駆体８０３ｂ上に通常の
露光マスク１００５を配置し、その上から紫外線１００
４で露光すると、バス電極前駆体１００３ｂの膜表面か
ら架橋反応が進み重合、高分子化し、露光部１００７と
非露光部１００８が形成される（図１１（ｃ））。な
お、このときの露光条件は、第１の実施の形態における
露光条件と同様に、照度５〜２０ｍＷ／ｃｍ²、積算光
量１００〜６００ｍＪ／ｃｍ²、プロキシ量５０〜２５
０μｍである。

【０１１５】次に、炭酸ナトリウムを０．３〜０．５ｗ
ｔ％含む現像液にて現像すると非露光部１００８が除去
され、パターニングされた多層電極前駆体１０１０が残
る。（図１１（ｄ））。次に、ピーク温度５５０〜６０
０℃（好ましくは、５８０〜６００℃）のベルト式連続
焼成炉により焼成を行なうと、現像で残った多層電極前
駆体１０１０中の樹脂成分等が焼失されると共に気化
し、ガラスフリットが溶融して、導電材料が焼結され、
多層電極１０１１が生成される（図１１（ｅ））。

【０１１６】なお、この焼結に伴って、この多層電極１
０１１の見かけの体積は収縮し、線幅、膜厚が減少す
る。このとき、薄肉部４２１の膜厚１０１３が、５μｍ
以下となっている。以上のように、本発明の第４の実施
の形態におけるＰＤＰ１０００の製造方法では、第１、
第２及び第３の実施の形態のＰＤＰの製造方法と同様
に、多層電極９１１の終端部に膜厚５μｍ以下の薄肉部
４２１を設けることができ、これにより、多層電極の終
端部において発生するｘ軸方向のせん断応力が緩和され
るため、焼成時における電極剥離の発生を回避すること
ができる。

【０１１７】なお、例えば、多層電極１０１１の抵抗値
をより低減するために、感光性ペースト１００３ａと同
様の材料を多層電極１０１１及び前面ガラス基板４０１
上に印刷し、前記図１１（ｂ）から（ｅ）までと同様の
工法で積層した結果、生成される新たな多層電極１０１
２において（図１１（ｆ））、薄肉部４２１における焼
成後の膜厚１０１４が５μｍを超えなければ、電極剥離
の発生を抑制する効果が得られる。

【０１１８】また、本発明の第４の実施の形態におけ
る、スクリーン印刷に用いるスクリーン１０２０の第１
エリア１０２１は、メッシュ数３３４／インチ、紗厚４
５μｍ、開口率３３％のスクリーンからなり、また、第
２エリア１０２２は、メッシュ数３８０／インチ、紗厚
４０μｍ、開口率３２％のスクリーンからなるとした
が、これに限らず、例えば、スクリーン１０２０の素材
としてメッシュ数３３４／インチ、紗厚４５μｍ、開口
率３３％のスクリーンを使用し、第１エリア１０２１に
おいては、特に加工を加えず、第２エリア１０２２にお
いては、ローラなどで加圧して紗厚を縮めるカレンダー
処理を実施するなどして、印刷量、即ち、印刷物の膜厚
を減少させるとしてもよい。

【０１１９】その場合、このようにして得られる印刷物
の膜厚が、メッシュ数３８０／インチ、紗厚４０μｍ、
開口率３２％の上述のスクリーンを用いて得られる印刷
物の膜厚とほぼ同じになるように、上述のカレンダー処
理がなされる。また、第４の実施の形態において記載
した開口率は、あくまでも例示であって、感光性ペース
トの成分及び粘度などにより変更され得るものである。［第５の実施の形態］本発明の第５の実施の形態におけ
るＰＤＰ１１００は、多層電極の形成方法のみがＰＤＰ
４００と異なっているため、ＰＤＰ４００と共通する内
容について説明は省略することとし、以下、相違点であ
る多層電極の形成方法についてのみ説明する。＜多層電極の形成方法＞図１２は、本発明の第４の実施
の形態におけるＰＤＰ１０００の多層電極の生成方法に
ついて説明する図である。

【０１２０】ここでは、便宜的に、図２のＥ部が、本発
明の第４の実施の形態における多層電極の形成方法よ
り、多層電極４０９ｂが形成されているものとして説明
する。先ず、酸化ルテニウム粒子を含む黒色のネガ型の
感光性ペースト１１０２ａを、前面ガラス基板４０１上
にスクリーン印刷法により塗布し、室温から８０℃以上
１２０℃以下の範囲まで直線的に上昇させた後、その温
度で一定時間保持する温度プロファイルのＩＲ炉により
乾燥することにより、上述のネガ型の感光性ペースト１
１０２ａから溶剤等が脱気され、黒色電極膜前駆体１１
０２ｂが形成される（図１２（ａ））。

【０１２１】このとき、上述の印刷範囲に、前記薄肉部
４２１に相当する範囲は含まれている。次に、黒色電極
膜前駆体１１０２ｂ及び前面ガラス基板４０１上にＡｇ
粒子を含むネガ型の感光性ペースト１１０３ａをスクリ
ーン印刷法により塗布し、前記プロファイルのＩＲ炉に
より乾燥し、感光性ペースト１１０３ａから溶剤等が減
少したバス電極前駆体１１０３ｂを形成する（図１２
（ｂ））。

【０１２２】なお、これまでに説明した第１、第２、第
３及び第４の実施の形態におけるＰＤＰの製造方法で
は、Ａｇ粒子を含む２層目の感光性ペーストの印刷にお
いて、印刷範囲に前記薄肉部４２１を含んでいたが、本
第５の実施の形態では、２層目である感光性ペースト１
１０３ａの印刷範囲に、薄肉部４２１に相当する範囲が
含まれていない。

【０１２３】次に、バス電極前駆体１１０３ｂ上に露光
マスク１１０５を配置し、その上から紫外線１１０４で
露光すると、バス電極前駆体１１０３ｂの膜表面から架
橋反応が進み重合、高分子化し、露光部１１０６と非露
光部１１０７が形成される（図１２（ｃ））。次に、炭
酸ナトリウムを０．３〜０．５ｗｔ％含む現像液にて現
像すると非露光部１１０７が除去され、上述の露光部１
１０６が残り、多層電極前駆体１１１２が形成される
（図１２（ｄ））。

【０１２４】次に、ピーク温度５５０〜６００℃（好ま
しくは、５８０〜６００℃）のベルト式連続焼成炉によ
り焼成を行なうと、現像で残った多層電極前駆体１１１
２中の樹脂成分等が焼失されると共に気化し、ガラスフ
リットが溶融して、導電材料が焼結され、多層電極１１
１３が生成される（図１２（ｅ））。なお、この焼結に
伴って、この多層電極１１１３の見かけの体積は収縮
し、線幅、膜厚が減少する。

【０１２５】このとき、薄肉部４２１においては、黒色
電極膜前駆体１１０２ｂの１層が焼成されて得られる黒
色電極膜４０４のみが存在し、黒色電極膜４０４とバス
電極４０５との２層で構成される他の部位よりも膜厚が
薄く、その値が５μｍ以下となっている。以上のよう
に、本発明の第５の実施の形態におけるＰＤＰ１１００
の製造方法では、第１、第２、第３及び第４の実施の形
態と同様に、多層電極の終端部に膜厚５μｍ以下の薄肉
部４２１を設けることができ、電極剥離が発生し難くな
る。

【０１２６】なお、前記薄肉部の黒色電極膜４０４は、
バス電極４０５よりも導電性に劣る酸化ルテニウムを主
成分としているため、薄肉部４２１の範囲は大きくしな
い方が望ましい。また、バス電極４０５上にさらにバス
電極４０５と同等の材料を積層することで抵抗値をさら
に下げる方法を用いてもよい。［第６の実施の形態］本発明の第６の実施の形態におけ
るＰＤＰ１２００は、その多層電極の形状、特に、端子
部のみがＰＤＰ４００の端子部１０８の形状と異なって
おり、それ以外形状については、ＰＤＰ４００と同様で
あるため、共通する部分についての説明を省略する。

【０１２７】以下、ＰＤＰ１２００における多層電極４
０９対応するものを多層電極１２０９といい、端子部４
０８に対応するものを端子部１２０８といい、さらに、
多層電極１２０９のうち、端子部１２０８以外の部分を
電極部１２１０ということとする。＜多層電極の形状＞図１３は、第６の実施の形態におけ
るＰＤＰ１２００の多層電極１２０９の形状について説
明する図である。

【０１２８】なお、便宜的に、多層電極１２０９のう
ち、幅が狭く長手方向に広範囲にわたって伸びている部
分を電極部１２１０といい、幅が広く矩形の部分を端子
部１２０８ということとする。端子部１２０８は、図１
３に示すように、電極部１２１０の長手方向の延長線上
に凹部又は貫通穴を有する。

【０１２９】凹部及び貫通穴の形状は、図１３（ａ）に
示すような円形、又は、図１３（ｂ）に示すような楕円
形などである。＜多層電極の構成＞前面ガラス基板４０１との密着面で
ある多層電極１２０９の下層は、酸化ルテニウムを主成
分とする黒色電極膜１２０４である。

【０１３０】この黒色電極膜１２０４の上に積層されて
いるのは、Ａｇを含む導電性材料を主成分とするバス電
極１２０５である。さらに、このバス電極１２０５上
に、Ａｇを含む導電性材料を主成分とするバス電極１２
０６がもう１層積層される。つまり、多層電極１２０９
は、３層構造となっており、また、端子部１２０８も３
層構造となっている。

【０１３１】このような形状の端子部１２０８は、第
１、第２、第３、第４、第５の実施の形態において用い
られた多層電極の製造方法を用いて、薄肉部の範囲を第
６の実施の形態における凹部又は貫通穴の存在する範囲
として解釈することにより、作成が可能である。即ち、
凹部及び貫通穴の形成は、凹部及び貫通穴を形成する範
囲を、感光性ペーストの印刷範囲から除外すること、メ
ッシュ数の変更又はカレンダー処理などを行なうことに
より、印刷スクリーンの開口率を小さくして他の部位よ
りも印刷量の少ない範囲とすること、ハーフトーン露光
を行なうことにより、他の部分よりも薄くさせる範囲に
することなどにより実現される。

【０１３２】ところで、端子部１２０８に貫通穴を設け
る場合、図１３（ｃ）に示すように、穴の位置する範囲
において、端子部１２０８を形成する上述の３層全てが
膜厚０μｍとなっているが、端子部１２０８に凹部を設
ける場合、前記３層のうちどの層の膜厚をどれだけ薄く
するかにより、複数の断面形状のバリエーションが存在
する。

【０１３３】図１３（ｄ）〜（ｐ）は、このような断面
形状のバリーションについて示す図である。図１３
（ｄ）は、端子部１２０８内の凹部を形成する範囲にお
いて、上述の３層のうち、バス電極１２０５及びバス電
極１２０６の膜厚を０とし、黒色電極膜１２０４の膜厚
をそのままとした場合の断面形状である。

【０１３４】図１３（ｅ）は、端子部１２０８内の凹部
を形成する範囲において、上述の３層のうち、バス電極
１２０６のみの膜厚を０とし、黒色電極膜１２０４及び
バス電極１２０５の膜厚をそのままとした場合の断面形
状である。図１３（ｆ）は、端子部１２０８内の凹部を
形成する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極膜
１２０４のみの膜厚を０とし、バス電極１２０５及びバ
ス電極１２０６の膜厚をそのままとした場合の断面形状
である。

【０１３５】図１３（ｇ）は、端子部１２０８内の凹部
を形成する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極
膜１２０４及びバス電極１２０５の膜厚を０とし、バス
電極１２０６の膜厚をそのままとした場合の断面形状で
ある。図１３（ｈ）は、端子部１２０８内の凹部を形成
する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極膜１２
０４及びバス電極１２０６の膜厚を０とし、バス電極１
２０５の膜厚をそのままとした場合の断面形状である。

【０１３６】図１３（ｉ）は、端子部１２０８内の凹部
を形成する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極
膜１２０４の膜厚をそのままとし、バス電極１２０５の
膜厚を０とし、バス電極１２０６の膜厚をそのままとし
た場合の断面形状である。図１３（ｊ）は、端子部１２
０８内の凹部を形成する範囲において、上述の３層のう
ち、黒色電極膜１２０４、バス電極１２０５及びバス電
極１２０６のそれぞれの膜厚を薄くした場合の断面形状
である。

【０１３７】図１３（ｋ）は、端子部１２０８内の凹部
を形成する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極
膜１２０４の膜厚をそのままとし、バス電極１２０５及
びバス電極１２０６の膜厚を薄くした場合の断面形状で
ある。図１３（ｌ）は、端子部１２０８内の凹部を形成
する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極膜１２
０４及びバス電極１２０５の膜厚をそのままとし、バス
電極１２０６の膜厚を薄くした場合の断面形状である。

【０１３８】図１３（ｍ）は、端子部１２０８内の凹部
を形成する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極
膜１２０４の膜厚を薄くし、バス電極１２０５及びバス
電極１２０６の膜厚をそのままとした場合の断面形状で
ある。図１３（ｎ）は、端子部１２０８内の凹部を形成
する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極膜１２
０４及びバス電極１２０５の膜厚を薄くし、バス電極１
２０６の膜厚をそのままとした場合の断面形状である。

【０１３９】図１３（ｏ）は、端子部１２０８内の凹部
を形成する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極
膜１２０４及びバス電極１２０６の膜厚を薄くし、バス
電極１２０５の膜厚をそのままとした場合の断面形状で
ある。図１３（ｐ）は、端子部１２０８内の凹部を形成
する範囲において、上述の３層のうち、黒色電極膜１２
０４及びバス電極１２０６の膜厚をそのままとし、バス
電極１２０５の膜厚を薄くした場合の断面形状である。

【０１４０】このようにして、端子部１２０８に凹部を
形成した結果、この凹部の膜厚が最も薄い部分におい
て、その膜厚が５μｍ以下となっている。また、端子部
１２０８に貫通穴を形成した場合にあっては、その部分
の膜厚は、０となっている。このような凹部又は貫通穴
が端子部１２０８にあることにより、この凹部又は貫通
穴を境として端子部１２０８の長手方向の終端側と、そ
の反対側との間を繋ぐ部分の断面積が小さくなり、上述
の終端側の部分を上述の反対側へと引っ張り込む力が阻
害されるため、一端が開放されている終端部に偏って収
縮が生じることが抑制される。

【０１４１】これにより、端子部１２０８の凹部又は貫
通穴を境とする終端側において、焼成時に発生するｘ軸
方向のせん断応力が緩和される。ただし、端子部１２０
８内の貫通穴の外周部付近であって、上述の反対側の箇
所は、局部的に見れば、従来と変わらない程度のＸ軸方
向のせん断応力が働いているが、この箇所のｙ軸方向に
おける、Ｘ軸方向のせん断応力の分布状態を見たとき、
貫通穴がない部分においては密着面がｘ軸方向に伸びて
いるため、Ｘ軸方向のせん断応力が小さくなっており、
前記箇所のｙ軸方向を含めたマクロ的範囲においては、
従来ほど大きなＸ軸方向のせん断応力は生じない。

【０１４２】このため、焼成時における電極剥離が生じ
難くなる。以上のように、本発明の第６の実施の形態に
おけるＰＤＰの製造方法では、端子部１２０８に最小肉
厚が５μｍ以下の凹部又は貫通穴を有することにより、
凹部又は貫通穴を境として終端部側のせん断応力が低減
されるので、電極剥離の発生を回避することができる。

【０１４３】なお、本発明の第６の実施の形態では、端
子部１２０８に配された凹部及び貫通穴の形状は、円形
又は楕円形などとしたが、この形状に限定するものでは
ない。また、本発明の第６の実施の形態では、端子部１
２０８に配される凹部及び貫通穴の数が１つの場合を説
明したが、凹部及び貫通穴の個数は１つに限るものでは
ない。

【０１４４】その場合、この凹部及び貫通穴を境として
端子部１２０８の長手方向の終端側をその反対側へと引
っ張り込む力ができるだけ緩和されるようにするため
に、そのうち１つの凹部又は貫通穴が電極部１２１０の
長手方向の延長線上に位置することが望ましい。

【０１４５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るＰＤＰは、導電性材料を焼結して形成される電極
が複数配列された基板を備えるプラズマディスプレイパ
ネルであって、前記各電極は、前記基板における表示領
域内に属する第１部分と、前記基板における表示領域外
に属し、膜厚が当該第１部分の膜厚よりも薄い第２部分
とを備えることを特徴とする。

【０１４６】前記電極において、前記膜厚に応じて生じ
る前記電極の長手方向に働く内部応力があるとしたと
き、これにより、第２部分で生じる内部応力が前記第１
部分で生じる内部応力よりも低減され得る。つまり、前
記電極の焼成後に発生する電極剥離の原因となるせん断
応力であって、前記第２部分に生じているものが低減さ
れるため、第２部分における剥離の発生が抑制される。

【０１４７】また、前記表示領域は、放電空間を形成す
るセルの存在する領域であるとしてもよい。これによ
り、第２部分の前記電極の膜厚は、前記セルの存在する
領域におけるの前記電極の膜厚よりも薄い。これに伴
い、第２部分の電極の抵抗値は、セル周辺に存在する前
記電極の抵抗値よりも増大する傾向となるが、前記セル
の存在する領域が前記電極の大部分を占めているため、
前記電極全体としての抵抗値の増加は軽微なもとなる。

【０１４８】しかも、セルの存在する領域では、前記電
極は、輝度向上化の要請から、前記電極の幅を狭くせざ
るを得ず、そのため、膜厚の薄さが抵抗値の増大に直接
影響するが、セルの存在しない領域、即ち、第２部分が
属する領域では、前記電極の幅を拡張することも可能な
ため、膜厚の薄さが抵抗値の増大に直接影響し難く、膜
厚を薄くすることによるデメリットが少ない。

【０１４９】また、前記第２部分の膜厚は、５μｍ以下
であるとしてもよい。前記膜厚に応じて前記電極の長手
方向に働く内部応力が生じているとしたとき、これによ
り、第２部分においては、当該内部応力の値を当該膜厚
が５μｍに応じた応力の値以下とすることができる。つ
まり、第２部分に電極剥離の発生範囲が含まれていれ
ば、前記電極の膜厚が５μｍ以下である場合、前記電極
を形成するための焼成工程における電極剥離を生じさせ
るほどの応力が発生し難いため、この電極剥離の発生が
低減される。

【０１５０】また、前記第２部分は、少なくとも前記電
極の終端部の先端から長手方向１０μｍまでの範囲であ
るとしてもよい。これにより、膜厚の減少により内部応
力が低減すると共に、抵抗値が増加する範囲が、前記１
０μｍの範囲に限定される。つまり、前記抵抗値の増加
が発生している範囲が、微小であるため、抵抗値の増加
が無視できる程度に抑えつつ、電極剥離を発生が回避さ
れる。

【０１５１】また、前記第１部分は、積層された少なく
とも第１電極膜と第２電極膜とを備え、前記電極の第１
電極膜及び前記第２電極膜の各終端位置が異なることに
より、前記第２部分の膜厚が前記第１部分の膜厚よりも
薄いとしてもよい。これにより、前記終端部が前記第１
部分よりも前記積層数が減少し、前記第１部分よりも膜
厚が薄くなる。

【０１５２】また、前記第１電極膜は、前記基板上に形
成され、前記第２電極膜は、前記第１電極膜の上層側に
形成され、前記第１電極膜の終端位置は、前記第２電極
膜の終端位置から所定長延長された位置にあるとしても
よい。これにより、第１電極膜の長手方向の長さが、第
２電極膜の長手方向の長さよりも長くなる。

【０１５３】また、前記第１電極膜は、前記基板上に形
成され、前記第２電極膜は、前記第１電極膜の上層側に
形成され、前記第２電極膜の終端位置は、前記第１電極
膜の終端位置から所定長延長された位置にあるとしても
よい。これにより、第２電極膜の長手方向の長さが、第
１電極膜の長手方向の長さよりも長くなる。

【０１５４】また、前記第２電極膜は、Ａｇ、Ｃｕ、Ａ
ｌのうち少なくとも一種を含むとしてもよい。これによ
り、前記電極の導電性の向上化が図られる。また、前記
第１電極膜は、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、黒色顔料、酸化ルテ
ニウムもしくはルテニウムの複合化合物を少なくとも一
種を含み、黒色もしくは灰色であるとしてもよい。

【０１５５】これにより、前記基板の前記電極が配置さ
れている側とは逆の側から目視される際、前記電極の色
は、黒色もしくは灰色として認識される。また、本発明
に係るＰＤＰは、導電性材料を焼結して形成される電極
が複数配列された基板を備えるプラズマディスプレイパ
ネルであって、前記電極の各列は、その終端部が局部的
に拡幅され、その拡幅部分に少なくとも１つの凹部又は
貫通穴を有することを特徴とする。

【０１５６】これにより、前記拡幅部分において、前記
凹部又は前記貫通穴を境として、前記電極の長手方にお
ける終端部側が、その反対側に存在する部分の応力によ
る影響を受け難くなる。つまり、前記電極において、前
記電極の長手方向の長さに応じて働く内部応力があると
したとき、終端部側の長手方向の長さが局部的に短くな
り、前記反対側で生じる内部応力よりも前記終端部側の
内部応力が低減され得る。

【０１５７】したがって、前記電極の焼成後に発生する
電極剥離の原因となるせん断応力であって、前記終端部
側に生じているものが低減されるため、前記剥離の発生
が抑制される。また、前記凹部又は前記貫通穴の少なく
とも１つは、前記列における前記拡幅部分以外の主要部
分の長手方向延長線上に位置するとしてもよい。

【０１５８】これにより、前記拡幅部分において、前記
凹部又は前記貫通穴を境として、前記電極の長手方にお
ける終端部側が、その反対側に存在する部分の応力によ
る影響をより受け難くなる。また、本発明に係るプラズ
マディスプレイ表示装置は、上記いずれかのプラズマデ
ィスプレイパネルと駆動回路からなることを特徴とす
る。

【０１５９】前記電極において、前記膜厚に応じて生じ
る前記電極の長手方向に働く内部応力があるとしたと
き、これにより、第２部分で生じる内部応力が前記第２
前記膜厚で生じる内部応力よりも低減され得る。つま
り、前記電極の焼成後に発生する電極剥離の原因となる
せん断応力であって、前記第２部分に生じているものが
低減されるため、第２部分における剥離の発生が抑制さ
れ、プラズマディスプレイ表示装置の品質の向上化が図
られる。

【０１６０】また、本発明に係るプラズマディスプレイ
パネルの製造方法は、基板を有するプラズマディスプレ
イパネルの製造方法であって、導電性材料を複数列、表
示領域と表示領域以外の領域に跨って、前記基板上に形
成する形成ステップと、形成した前記導電性材料を焼成
して電極を生成する焼成ステップとを有し、焼成後の前
記電極は、前記基板における表示領域内に属する第１領
域と、前記基板における表示領域外に属し、膜厚が当該
電極の第１領域の膜厚よりも薄い第２領域とを有するこ
とを特徴とする。

【０１６１】前記焼成ステップにおいて、前記電極内部
で前記膜厚に応じて生じる前記電極の長手方向に働く内
部応力があるとしたとき、これにより、第２部分で生じ
る内部応力が前記第２前記膜厚で生じる内部応力よりも
低減され得る。つまり、焼成後における、当該電極の剥
離の原因となるせん断応力であって、前記第２部分に生
じているものが低減されるため、第２部分における剥離
の発生が抑制される。

【０１６２】また、前記表示領域は、放電空間を形成す
るセルの存在する領域であるとしてもよい。これによ
り、第２部分の前記電極の膜厚は、前記セルの存在する
領域におけるの前記電極の膜厚よりも薄くなる。これに
伴い、第２部分の電極の抵抗値は、セル周辺に存在する
前記電極の抵抗値よりも増大する傾向となるが、前記セ
ルの存在する領域が前記電極の大部分を占めているた
め、前記電極全体としての抵抗値の増加は軽微なもとな
る。

【０１６３】しかも、セルの存在する領域では、前記電
極は、輝度向上化の要請から、前記電極の幅を狭くせざ
るを得ず、そのため、膜厚の薄さが抵抗値の増大に直接
影響するが、セルの存在しない領域、即ち、第２部分が
属する領域では、前記電極の幅を拡張することも可能な
ため、膜厚の薄さが抵抗値の増大に直接影響し難く、膜
厚を薄くすることによるデメリットが少ない。

【０１６４】また、焼成後の前記電極の前記第２領域に
おける膜厚は、５μｍ以下であるとしてもよい。前記膜
厚に応じて前記電極の長手方向に働く内部応力が生じて
いるとしたとき、これにより、第２部分においては、当
該内部応力の値を当該膜厚が５μｍに応じた応力の値以
下とすることができる。

【０１６５】つまり、第２部分に電極剥離の発生範囲が
含まれていれば、前記電極の膜厚が５μｍ以下である場
合、前記電極を形成するための焼成工程における電極剥
離を生じさせるほどの応力が発生し難いため、この電極
剥離の発生が低減される。また、前記形成ステップにお
いて、前記焼成後の前記電極の第２領域が、少なくとも
当該電極の終端部の先端から長手方向１０μｍまでの範
囲となるように前記調整を実施するとしてもよい。

【０１６６】これにより、膜厚の減少により内部応力が
低減すると共に、抵抗値が増加する範囲が、前記１０μ
ｍの範囲に限定される。つまり、前記抵抗値の増加が発
生している範囲が、微小であるため、抵抗値の増加が無
視できる程度に抑えつつ、電極剥離を発生が回避され
る。また、前記形成ステップにおいて、前記第１領域で
は、前記導電性材料を第１層及び第２層の少なくとも２
層を積層して前記形成を行い、前記第２領域では、前記
第１層及び前記第２層のいずれかを形成するとしてもよ
い。

【０１６７】これにより、前記終端部が前記第１部分よ
りも前記積層数が減少し、前記第１部分よりも膜厚が薄
くなる。また、前記積層は、印刷を用いてなされ、前記
第２領域では、第１層及び第２層のいずれか１層が印刷
されているとしてもよい。これにより、容易に前記第２
領域の薄膜化がなされる。

【０１６８】また、前記形成ステップにおいて、前記導
電性材料を第１層及び第２層の少なくとも２層を積層し
て前記形成を行い、前記積層は、前記第２領域における
第１層又は第２層の塗布量を前記第１領域における塗布
量よりも低減して印刷することによりなされるとしても
よい。これにより、容易に前記第２領域の薄膜化がなさ
れる。

【０１６９】また、前記低減は、前記第１領域における
塗布においては第１のメッシュを、前記第２領域におけ
る塗布においては第１のメッシュより開口率の小さい第
２のメッシュを用いることによりなされるとしてもよ
い。これにより、容易に前記第２領域への塗布量の低減
がなされる。また、前記低減は、前記第１領域における
塗布においては第１のメッシュを用い、前記第２領域に
おける塗布においては第１のメッシュにカレンダー処理
を施して得られるメッシュを用いることによりなされる
としてもよい。

【０１７０】これにより、容易に前記第２領域への塗布
量の低減がなされる。また、前記導電性材料は、感光性
材料と混合された混合物であり、前記形成ステップにお
いて、前記混合物を印刷により塗布すること又は前記混
合物を積層したシートを塗布することにより、前記混合
物を少なくとも２層、前記基板上に積層し、前記第２領
域に含まれる前記積層がなされた部分では、トーン幅が
露光解像度以下の露光マスクを使用して露光を行った
後、現像することにより、前記形成を行なうとしてもよ
い。

【０１７１】これにより、容易に前記第２領域の薄膜化
がなされる。また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、基板を有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、前記基板上の表示領域と当該
表示領域以外の領域とに跨がる１列の導電性材料であっ
て、その終端部が局部的に拡幅され、その拡幅部分に少
なくとも１つの凹部又は貫通穴を有するものを、複数列
形成する形成ステップと、形成した前記導電性材料を焼
成して電極を生成する焼成ステップとを有することを特
徴とする。

【０１７２】これにより、前記拡幅部分において、前記
凹部又は前記貫通穴を境として、前記電極の長手方にお
ける終端部側が、その反対側に存在する部分の応力によ
る影響を受け難くなる。つまり、前記電極において、前
記電極の長手方向の長さに応じて働く内部応力があると
したとき、終端部側の長手方向の長さが局部的に短くな
り、前記反対側で生じる内部応力よりも前記終端部側の
内部応力が低減され得る。

【０１７３】したがって、前記電極の焼成後に発生する
電極剥離の原因となるせん断応力であって、前記終端部
側に生じているものが低減されるため、前記剥離の発生
が抑制される。また、前記凹部又は前記貫通穴の少なく
とも１つは、前記列における前記拡幅部分以外の主要部
分の長手方向延長線上に位置するとしてもよい。

【０１７４】これにより、前記拡幅部分において、前記
凹部又は前記貫通穴を境として、前記電極の長手方にお
ける終端部側が、その反対側に存在する部分の応力によ
る影響をさらに受け難くなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態におけるＰＤＰの概
略図である。

【図２】多層電極の終端部付近における形状を示す概略
図である。

【図３】プラズマディスプレイ表示装置の構成を示す図
である。

【図４】多層電極の生成方法について説明する図であ
る。

【図５】現像後の多層電極の膜厚と電極剥離の発生頻度
との関係を示す図である。

【図６】従来の多層電極と前面ガラス基板との密着面に
おいて生じる応力を示す図である。

【図７】第１の実施の形態における多層電極の終端部に
おいて焼成後に発生する内部応力について説明する図で
ある。

【図８】本発明の第２の実施の形態におけるＰＤＰの多
層電極の生成方法について説明する図である。

【図９】本発明の第３の実施の形態におけるＰＤＰの多
層電極の生成方法について説明する図である。

【図１０】感光性材料をハーフトーン露光した場合にお
ける、ハーフトーンマスクのパターンと現像後の膜厚と
の関係を示す図である。

【図１１】本発明の第４の実施の形態におけるＰＤＰの
多層電極の生成方法について説明する図である。

【図１２】本発明の第５の実施の形態におけるＰＤＰの
多層電極の生成方法について説明する図である。

【図１３】本発明の第６の実施の形態におけるＰＤＰの
多層電極の生成方法について説明する図である。

【図１４】一般的な交流型（ＡＣ型）ＰＤＰの一例を示
す概略図である。

【図１５】従来の多層電極の製造方法の一例を示す図で
ある。

【図１６】電極剥離の状況を示す概略図である。

【符号の説明】

１００、４００、８００、９００、ＰＤＰ１０００、１１００、１２００ＰＤＰ１０８、４０８、４０８ａ端子部４０８ｂ、１２０８端子部１１３、４０６、４１３誘電体層４０６ａ誘電体層前
駆体３０９ｂ、４０９、４０９ａ多層電極４０９ｂ、７１０、８１３多層電極９１１、９１２、１０１１多層電極１０１２、１１１３、１２０９多層電極４０９ｄ、４０９ｚ、８１２、９１０多層電極前
駆体１０１０、１１１２多層電極前
駆体３９０、２０９０前面板３９１、２０９１背面板４０１、２１０１、２３０２前面ガラス
基板４０２、２１０２表示電極４０３、４０３ａ、４０３ｂ透明電極２１０３、２１０３ａ、２１０３ｂ透明電
極４０４、４０４ａ、４０４ｂ黒色電極膜１２０４、２１０４黒色電極膜４０４ｚ、７０２ｂ、８０２ｂ、９０２ｂ黒色電極膜
前駆体１００２ｂ、１１０２ｂ黒色電極膜
前駆体４０５、４０５ａ、４０５ｂバス電極１２０５、１２０６バス電極４０５ｚ、７０３ｂ、８０３ｂ、８０８ｂバス電極前
駆体９０３ｂ、１００３ｂ、１１０３ｂバス電極前
駆体４０７保護層４１１背面ガラス
基板４１２アドレス電
極４１２ａアドレス電
極前駆体４１４隔壁４１４ａ隔壁前駆体４１５蛍光体層４１６放電空間４１９駆動回路４２０、４２１薄肉部５００プラズマデ
ィスプレイ表示装置７０２ａ、７０３ａ、８０２ａ、８０３ａ感光性ペー
スト８０８ａ、９０２ａ、９０３ａ、感光性ペー
スト１００２ａ、１００３ａ感光性ペー
スト１１０２ａ、１１０３ａ感光性ペー
スト７０４、８０４、９０４紫外線１００４、１１０４紫外線７０５、８０５、８０９露光マスク９０５、１００５、１１０５露光マスク７０６、８０６、８１０露光部９０７、１００７、１１０６露光部７０７、８０７、８１１、非露光部１００８、１１０７非露光部９０６ハーフトー
ン部９０８非露光部９０９半露光部１００１露光領域１００２ハーフト
ーン領域１００３未露光領
域１０２０スクリー
ン１０２１、１０２２エリア１２１０電極部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者住田圭介大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者藤谷守男大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者日比野純一大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者藤原伸也大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者丸中英喜大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者仲川整大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内Ｆターム(参考） 5C027 AA02 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC03 GC19 GH06 GK05 JA02 JA15 JA32 KA16 KB14 KB17 LA14 MA23 MA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性材料を焼結して形成される電極が
複数配列された基板を備えるプラズマディスプレイパネ
ルであって、前記各電極は、前記基板における表示領域内に属する第
１部分と、前記基板における表示領域外に属し、膜厚が
当該第１部分の膜厚よりも薄い第２部分とを備えること
を特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】前記表示領域は、放電空間を形成するセ
ルの存在する領域であることを特徴とする請求項１に記
載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】前記第２部分の膜厚は、５μｍ以下であ
ることを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項４】前記第２部分は、少なくとも前記電極の
終端部の先端から長手方向１０μｍまでの範囲であるこ
とを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイ
パネル。
【請求項５】前記第１部分は、積層された少なくとも
第１電極膜と第２電極膜とを備え、前記電極の第１電極膜及び前記第２電極膜の各終端位置
が異なることにより、前記第２部分の膜厚が前記第１部
分の膜厚よりも薄いことを特徴とする請求項４に記載の
プラズマディスプレイパネル。
【請求項６】前記第１電極膜は、前記基板上に形成さ
れ、前記第２電極膜は、前記第１電極膜の上層側に形成さ
れ、前記第１電極膜の終端位置は、前記第２電極膜の終端位
置から所定長延長された位置にあることを特徴とする請
求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】前記第１電極膜は、前記基板上に形成さ
れ、前記第２電極膜は、前記第１電極膜の上層側に形成さ
れ、前記第２電極膜の終端位置は、前記第１電極膜の終端位
置から所定長延長された位置にあることを特徴とする請
求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】前記第２電極膜は、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌの
うち少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項７に
記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】前記第１電極膜は、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、
黒色顔料、酸化ルテニウムもしくはルテニウムの複合化
合物を少なくとも一種を含み、黒色もしくは灰色である
ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマディスプレ
イパネル。
【請求項１０】導電性材料を焼結して形成される電極
が複数配列された基板を備えるプラズマディスプレイパ
ネルであって、前記電極の各列は、その終端部が局部的に拡幅され、そ
の拡幅部分に少なくとも１つの凹部又は貫通穴を有する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】前記凹部又は前記貫通穴の少なくとも
１つは、前記列における前記拡幅部分以外の主要部分の
長手方向延長線上に位置することを特徴とする請求項１
０に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】請求項１から１１のいずれか１つに記
載のプラズマディスプレイパネルと駆動回路からなるプ
ラズマディスプレイ表示装置。
【請求項１３】基板を有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、導電性材料を複数列、表示領域と表示領域以外の領域に
跨って、前記基板上に形成する形成ステップと、形成した前記導電性材料を焼成して電極を生成する焼成
ステップとを有し、焼成後の前記電極は、前記基板にお
ける表示領域内に属する第１領域と、前記基板における
表示領域外に属し、膜厚が当該電極の第１領域の膜厚よ
りも薄い第２領域とを有することを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】前記表示領域は、放電空間を形成する
セルの存在する領域であることを特徴とする請求項１３
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】焼成後の前記電極の前記第２領域にお
ける膜厚は、５μｍ以下であることを特徴とする請求項
１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】前記形成ステップにおいて、前記焼成後の前記電極の第２領域が、少なくとも当該電
極の終端部の先端から長手方向１０μｍまでの範囲とな
るように前記調整を実施することを特徴とする請求項１
５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】前記形成ステップにおいて、前記第１領域では、前記導電性材料を第１層及び第２層
の少なくとも２層を積層して前記形成を行い、前記第２領域では、前記第１層及び前記第２層のいずれ
かを形成することを特徴とする請求項１３に記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】前記積層は、印刷を用いてなされ、前記第２領域では、第１層及び第２層のいずれか１層が
印刷されていることを特徴とする請求項１７に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】前記形成ステップにおいて、前記導電性材料を第１層及び第２層の少なくとも２層を
積層して前記形成を行い、前記積層は、前記第２領域における第１層又は第２層の
塗布量を前記第１領域における塗布量よりも低減して印
刷することによりなされることを特徴とする請求項１３
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】前記低減は、前記第１領域における塗
布においては第１のメッシュを、前記第２領域における
塗布においては第１のメッシュより開口率の小さい第２
のメッシュを用いることによりなされることを特徴とす
る請求項１９に記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
【請求項２１】前記低減は、前記第１領域における塗
布においては第１のメッシュを用い、前記第２領域にお
ける塗布においては第１のメッシュにカレンダー処理を
施して得られるメッシュを用いることによりなされるこ
とを特徴とする請求項１９に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項２２】前記導電性材料は、感光性材料と混合
された混合物であり、前記形成ステップにおいて、前記混合物を印刷により塗
布すること又は前記混合物を積層したシートを塗布する
ことにより、前記混合物を少なくとも２層、前記基板上
に積層し、前記第２領域に含まれる前記積層がなされた部分では、
トーン幅が露光解像度以下の露光マスクを使用して露光
を行った後、現像することにより、前記形成を行なうこ
とを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。
【請求項２３】基板を有するプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、前記基板上の表示領域と当該表示領域以外の領域とに跨
がる１列の導電性材料であって、その終端部が局部的に
拡幅され、その拡幅部分に少なくとも１つの凹部又は貫
通穴を有するものを、複数列形成する形成ステップと、形成した前記導電性材料を焼成して電極を生成する焼成
ステップとを有することを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。
【請求項２４】前記凹部又は前記貫通穴の少なくとも
１つは、前記列における前記拡幅部分以外の主要部分の
長手方向延長線上に位置することを特徴とする請求項２
３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。