JP2007302554A - 所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法 - Google Patents
所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007302554A JP2007302554A JP2007126669A JP2007126669A JP2007302554A JP 2007302554 A JP2007302554 A JP 2007302554A JP 2007126669 A JP2007126669 A JP 2007126669A JP 2007126669 A JP2007126669 A JP 2007126669A JP 2007302554 A JP2007302554 A JP 2007302554A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone
- quartz glass
- soot body
- atmosphere
- sio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
Abstract
【解決手段】所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造は、以下の工程:(a)ケイ素含有出発化合物の火炎加水分解又は酸化と回転支持体上におけるSiO2粒子の層状堆積とにより、多孔性SiO2スート体を生成する工程と、(b)水酸基を除去するために、反応ガス含有乾燥雰囲気において、スート体を乾燥温度で脱水処理する工程と、(c)SiO2スート体をガラス化して合成石英ガラス体にする工程とを含み、工程(b)による脱水処理が、反応ガスとしてオゾンを使用した乾燥段階を含み、その際の乾燥雰囲気のオゾン含有量が、0.5体積%〜10体積%であり、乾燥温度が、1,200℃〜1,300℃の範囲において選択され、それによって、ハロゲンが乾燥雰囲気に供給されない。
【選択図】なし
Description
(a)ケイ素含有出発化合物の火炎加水分解又は酸化と回転支持体上におけるSiO2粒子の層状堆積とにより、多孔性SiO2スート体を生成する工程と、
(b)水酸基を除去するために、スート体を、反応ガス含有乾燥雰囲気において、乾燥温度で脱水処理する工程と、
(c)SiO2スート体をガラス化して合成石英ガラス体にする工程と
を含む、所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法に関する。
(1)塩素の使用と、石英ガラスの紫外線放射誘起複屈折及びコンパクションに関するSiO2ネットワークにおける残留塩素の同伴とにより引き起こされる欠点が、確実に且つ再現可能な状態で回避される。
(2)オゾンは、その酸化作用の故に、シラノール基(Si−OH)からのOH基の熱的に誘発される開裂が原因で形成される酸素欠陥を飽和させるのに適し、その結果、欠陥のないガラスネットワークの構成成分であるシロキサン架橋(Si−O−Si)が、そのような酸素欠陥から、直ぐに又は後の処理工程において生じる可能性があるので、乾燥段階での酸素欠陥の形成の危険性が存在しない。
(3)脱水のための塩素の使用を完全に省略できるので、上述の知られている方法におけるような、物理的処理(拡散)又は化学的処理(反応)による時間の掛かるコスト集約的なスート体からの残留塩素の除去は、特に、SiO2スートからの塩素の完全な除去が、信頼性のある方法において定量的に殆ど検出できないので、必要なくなる。
Claims (8)
- 所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法であって、
以下の工程:
(a)ケイ素含有出発化合物の火炎加水分解又は酸化と回転支持体上におけるSiO2粒子の層状堆積とにより、多孔性SiO2スート体を生成する工程と、
(b)水酸基を除去するために、前記スート体を、反応ガス含有乾燥雰囲気において、乾燥温度で脱水処理する工程と、
(c)前記SiO2スート体をガラス化して合成石英ガラス体にする工程と
を含み、
工程(b)による前記脱水処理が、前記反応ガスとしてオゾンを使用した乾燥段階を含み、その際の前記乾燥雰囲気のオゾン含有量が、0.5体積%〜10体積%であり、前記乾燥温度が、1,200℃〜1,300℃の範囲において選択され、それによって、ハロゲンが前記乾燥雰囲気に供給されないことを特徴とする所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法。 - 前記乾燥雰囲気が、ヘリウム及びオゾンを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記乾燥雰囲気のオゾン含有量が、1.5体積%〜5体積%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 工程(c)による前記スート体のガラス化が、オゾン含有雰囲気において行われることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スート体が、前記脱水処理の直後にガラス化され、前記雰囲気が、ガラス化中にオゾン及びヘリウムを含むことを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記オゾンが、その使用の直前に、オゾン発生器により生成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記SiO2スート体のガラス化中の前記雰囲気に、ハロゲンが供給されないことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 少なくとも前記乾燥段階の初めにおいて、前記スート体が、石英ガラスの密度の30%以下の密度を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102006022303A DE102006022303B4 (de) | 2006-05-11 | 2006-05-11 | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas mit vorgegebenem Hydroxylgruppengehalt |
DE102006022303.9 | 2006-05-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007302554A true JP2007302554A (ja) | 2007-11-22 |
JP5133593B2 JP5133593B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=38336830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007126669A Expired - Fee Related JP5133593B2 (ja) | 2006-05-11 | 2007-05-11 | 所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7707855B2 (ja) |
EP (1) | EP1854768B1 (ja) |
JP (1) | JP5133593B2 (ja) |
DE (2) | DE102006022303B4 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008056084B4 (de) * | 2008-11-06 | 2012-05-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Zylinderförmiges Halbzeug zur Herstellung einer optischen Faser sowie Verfahren für die Herstellung der Faser oder einer Vorform dafür |
WO2012056037A1 (de) * | 2010-10-28 | 2012-05-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur herstellung synthetischer quarzglaskörnung |
CN114249524A (zh) * | 2020-09-22 | 2022-03-29 | 中天科技精密材料有限公司 | 低羟基高纯石英玻璃及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62143835A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送用ガラス素材の製造方法 |
JPS62153134A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送用ガラス素材の製造方法 |
JPS62153133A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送用ガラス素材の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5337197A (en) * | 1976-09-17 | 1978-04-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of glass free from water |
JPS5562821A (en) * | 1978-11-02 | 1980-05-12 | Mitsubishi Electric Corp | Production of optical fiber |
US5043002A (en) | 1990-08-16 | 1991-08-27 | Corning Incorporated | Method of making fused silica by decomposing siloxanes |
US5827024A (en) * | 1996-05-23 | 1998-10-27 | Davenport; Bobby E. | Tie-down rail for truck bed |
DE19649935C2 (de) * | 1996-12-02 | 1999-09-16 | Heraeus Quarzglas | Verfahren zur Herstellung von Quarzglaskörpern |
US6786064B2 (en) | 2000-10-23 | 2004-09-07 | Hoya Corporation | Process for the production of glass molded article |
US6966201B2 (en) * | 2002-08-16 | 2005-11-22 | Furukawa Electric North America, Inc. | High-temperature sintering of soot bodies doped using molecular stuffing |
US7534733B2 (en) * | 2004-02-23 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica glass optical material having high resistance to laser induced damage |
US7452518B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-11-18 | Momentive Performance Materials Inc. | Process for treating synthetic silica powder and synthetic silica powder treated thereof |
-
2006
- 2006-05-11 DE DE102006022303A patent/DE102006022303B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-05-08 EP EP07107684A patent/EP1854768B1/de active Active
- 2007-05-08 DE DE502007004619T patent/DE502007004619D1/de active Active
- 2007-05-09 US US11/801,386 patent/US7707855B2/en active Active
- 2007-05-11 JP JP2007126669A patent/JP5133593B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62143835A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送用ガラス素材の製造方法 |
JPS62153134A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送用ガラス素材の製造方法 |
JPS62153133A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光伝送用ガラス素材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5133593B2 (ja) | 2013-01-30 |
DE502007004619D1 (de) | 2010-09-16 |
DE102006022303B4 (de) | 2009-06-18 |
EP1854768A1 (de) | 2007-11-14 |
EP1854768B1 (de) | 2010-08-04 |
DE102006022303A1 (de) | 2007-11-15 |
US20070261442A1 (en) | 2007-11-15 |
US7707855B2 (en) | 2010-05-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI399347B (zh) | 用以處理半導體晶圓之石英玻璃波震機及製造該波震機之方法 | |
JP5473216B2 (ja) | 合成シリカガラス光学材料およびその製造方法 | |
JP5403853B2 (ja) | 高透過率合成シリカガラスおよびその製造方法 | |
US8062986B2 (en) | Fused silica having low OH, OD levels and method of making | |
EP2118026B1 (en) | Optical component made from synthetic quartz glass with enhanced radiation resistance, and method for producing the component | |
JP5796492B2 (ja) | 深紫外線用光学部材およびその製造方法 | |
US20080268201A1 (en) | Low OH glass for infrared applications | |
US7964522B2 (en) | F-doped silica glass and process of making same | |
JP2001089170A (ja) | F2エキシマレーザー透過用光学シリカガラス部材及びその製造方法 | |
JP4531904B2 (ja) | 紫外線用光学材料およびその製造方法 | |
JP5133593B2 (ja) | 所定の水酸基含有量を有する合成石英ガラスの製造方法 | |
JP2003112933A (ja) | 合成石英ガラス光学体およびその製造方法 | |
KR20160043022A (ko) | Euv 리소그래피에 사용하기 위한 티탄 도핑 실리카 유리의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 블랭크 | |
JP2001199735A (ja) | 光学部品のための石英ガラス体およびその製造法 | |
JP4514748B2 (ja) | 保持デバイスを使っての合成石英ガラスの中空シリンダーの製造方法とこの方法を実施するために適切な保持デバイス | |
TWI651277B (zh) | 製造用於euv微影術之高矽酸含量的氟與鈦摻雜玻璃底板的方法及由該方法製造之底板 | |
JP2012504090A (ja) | 石英ガラスから成る管状半製品を製造する方法、当該半製品を使用して光学部品を製造する方法並びにフッ素ドープされた石英ガラスから成る半製品 | |
JP3368932B2 (ja) | 透明石英ガラスとその製造方法 | |
JP4159852B2 (ja) | 光学部材用合成石英ガラス材料 | |
JP2004345902A (ja) | 石英ガラスの製造方法、石英ガラス、光学部品及び光ファイバ | |
JP2005298287A (ja) | ガラス母材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100405 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110525 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121106 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121108 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5133593 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |