JP2007294365A - 試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システム - Google Patents
試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007294365A JP2007294365A JP2006123712A JP2006123712A JP2007294365A JP 2007294365 A JP2007294365 A JP 2007294365A JP 2006123712 A JP2006123712 A JP 2006123712A JP 2006123712 A JP2006123712 A JP 2006123712A JP 2007294365 A JP2007294365 A JP 2007294365A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- film
- inspection method
- test piece
- inspection apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】 外気に開放された常圧雰囲気に配置された試料に、電子線等の荷電粒子線を照射して試料検査を行うことにより、試料検査における試料交換を迅速に行う。
【解決手段】 試料保持膜12の常圧雰囲気に接する第1の面に配置された試料11に、試料保持膜12の減圧雰囲気に接する第2の面側から該膜12を介して試料11に電子線6を照射し、当該照射により試料11から発生する二次的信号を検出して試料11の情報を取得する。真空室7外の常圧雰囲気にて試料の交換ができるので、試料交換を迅速に行うことができる。
【選択図】図1
【解決手段】 試料保持膜12の常圧雰囲気に接する第1の面に配置された試料11に、試料保持膜12の減圧雰囲気に接する第2の面側から該膜12を介して試料11に電子線6を照射し、当該照射により試料11から発生する二次的信号を検出して試料11の情報を取得する。真空室7外の常圧雰囲気にて試料の交換ができるので、試料交換を迅速に行うことができる。
【選択図】図1
Description
この発明は、常圧雰囲気に配置された試料に荷電粒子線等の一次線を照射して、当該試料の検査を行うことのできる試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システムに関する。
走査型電子顕微鏡(以下、「SEM」という)の構成を備える試料検査装置では、検査対象となる試料は、通常、真空引きにより減圧された試料室内に配置される。そして、このように減圧雰囲気とされた試料室内に配置された試料に電子線(荷電粒子線)が照射され、当該照射により試料から発生する二次電子や反射電子等の二次的信号が検出される。
このような走査型電子顕微鏡による試料検査においては、試料が減圧雰囲気に晒されることとなる。よって、水分を含有する試料が検査対象であるときには、減圧雰囲気とされた試料室内に試料をそのまま配置すると、試料から水分が蒸発してしまい、水分が含まれた状態での試料の検査に支障をきたすこととなる。
従って、試料に水分が含まれた状態で試料検査を行う際には、試料から水分が蒸発しないようにする必要がある。このためには、試料が減圧雰囲気に晒されることがないようにする必要がある。
このように試料が減圧雰囲気に晒されることなくSEMを用いて試料検査を行う例の一つとして、膜により開口(アパーチャ)が密封された試料容器(サンプルチャンバ)の内部に試料を配置し、減圧雰囲気とされたSEMの試料室内に、この試料容器を設置する手法が考えられている。
ここで、試料が配置される試料容器の内部は減圧されない。そして、試料容器に形成された当該開口を覆う膜は、SEMの試料室内の減圧雰囲気と試料容器内部の減圧されていない雰囲気(例えば、大気圧雰囲気)との間の圧力差に耐えられるとともに、電子線が透過するものとなっている(特許文献1参照)。
試料検査を行う際には、減圧雰囲気とされたSEMの試料室内に配置された試料容器の当該膜を介して、試料容器の外部から試料容器内の試料に電子線が照射される。電子線が照射された試料からは反射電子が発生し、この反射電子は試料容器の当該膜を通過して、SEMの試料室内に設けられた反射電子検出器によって検出される。これにより、SEMによる像(SEM像)が取得されることとなる。
なお、このように真空と大気圧との圧力差に耐えられる膜を介して試料に電子線を照射し、試料から発生する反射電子を検出してSEM像を取得する例は、非特許文献1(当該文献のChapter1 Introduction)にも記載されている。
また、このような膜を対向して設置して一対の膜を構成し、該一対の膜の間に試料を配置して透過型電子顕微鏡による像を取得する例は、特許文献2及び特許文献3に記載されている。特に、特許文献2には、このような一対の膜を利用して、その間に配置された試料のSEM像を取得する場合についても言及されている。
上記の試料検査において、複数の試料が検査対象となることが多い。この場合、一の試料の検査後に、他の試料への交換を迅速に行うことが必要である。しかしながら、上述の例においては、減圧された試料室の内部に試料が位置しているので、試料交換に手間と時間がかかる。
また、上述の試料容器を用いた場合には、細胞等の湿潤試料のSEM像による検査には好適である。しかしながら、水分を多く含む液状の試料を検査対象とする場合において、試料内で沈殿された沈殿物のSEM像を取得する検査を行う際には不向きであると考えられる。
すなわち、液状の試料内における沈殿物は、電子線が入射して透過する膜から離れることとなるので、該膜を通過した電子線が沈殿物に到達するまでに減衰してしまうとともに、電子線が照射された沈殿物から発生する反射電子も該膜に到達するまでに減衰してしまうからである。
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、外気に開放された常圧雰囲気に配置された試料に、一次線として電子線等の荷電粒子線を照射して試料検査を行うことにより、試料交換を迅速に行うことのできる試料検査方法及び試料保持体並びに試料検査装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、液状の試料内における沈殿物の検査を好適に行うことのできる試料検査方法並びに試料検査装置を提供することを目的とする。
本発明に基づく一の試料検査方法は、試料を保持するための膜の常圧雰囲気に接する第1の面に配置された試料に、該膜の減圧雰囲気に接する第2の面側から該膜を介して試料に一次線を照射し、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得することを特徴とする。
本発明の他の試料検査方法は、試料を保持するための膜の常圧雰囲気に接する第1の面に試料を配置する工程と、該膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する工程と、該膜の第2の面側から該膜を介して試料に一次線を照射する工程と、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出する工程とを有することを特徴とする。
本発明に基づく試料保持体は、荷電粒子線が透過する膜を有し、該膜の第1の面に配置された試料に、該膜の第2の面側から該膜を介して荷電粒子線を照射できる試料保持体であって、該膜の第1の面における試料の保持領域を回避して当該第1の面に固定用部材が設けられていることを特徴とする。
本発明に基づく試料検査装置は、常圧雰囲気に接する第1の面に試料が保持される膜と、該膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する手段と、該膜の第2の面側から該膜を介して試料に一次線を照射する手段と、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出する手段とを備えることを特徴とする。
本発明に基づく試料検査システムは、前記試料保持体保持領域に配置された試料に、当該試料保持体を構成する前記膜の第2の面側から該膜を介して荷電粒子線を照射し、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得する試料検査装置を備え、前記試料の前処理手段と、前処理がされた試料を前記試料保持体の保持領域に供給する手段と、試料を保持した試料保持体を当該試料検査装置に移動する手段とを具備することを特徴とする。
本発明では、試料が保持される膜の常圧雰囲気に接する第1の面に試料が配置され、該膜の第2の面側から該膜を介して一次線が試料に照射される。よって、試料交換時には、試料室の外部の常圧雰囲気内で試料の交換を行うことができるので、試料の交換作業を効率良く行うことができる。
また、本発明において、当該第1の面が該膜の上面であり且つ当該第2の面が該膜の下面となっていれば、液状の試料内の沈殿物は該膜の上面(第1の面)側に沈殿して該膜に接近するので、当該沈殿物の検査を良好に行うことができる。
以下、図面を参照して本発明について説明する。図1は、本発明における試料検査装置を示す概略構成図である。
図1において、試料検査装置は鏡筒5を具備している。この鏡筒5は、電子銃(電子線源)1、集束レンズ(コンデンサレンズ)2、走査コイル(走査ユニット)3、及び対物レンズ4を備えている。
鏡筒5は、試料検査装置を構成する真空室7に接続されている。すなわち、鏡筒5は、真空室5の下端壁7aに固定され、鏡筒5の先端部5aは、真空室7の内部に配置されている。
また、真空室7の上端壁7bにおいて、鏡筒5の先端部5aと対向する部分には、開口部7cが設けられている。さらに、真空室7の内部において、鏡筒5の先端部5aと当該開口部7cとの間には、反射電子検出器8が設置されている。この反射電子検出器8には、電子銃1からの電子線6が通過するための図示しない開口が形成されている。なお、試料室7には、上端壁7bを上下左右方向(垂直及び水平方向)に移動させるための伸縮自在の移動機構10が設けられている。これにより、試料室7の下端壁7aと上端壁7bは、移動機構10を介して接続されている。移動機構10は、当該上端壁7a上に配置される試料保持体14の移動を行う。これにより、試料保持体14の試料保持膜12が移動し、試料保持膜12上の試料が移動する。
試料室7の上端壁7aの上面において、開口部7cの周囲の部分には、Oリング12が配置されている。このOリング12の上には、試料保持体14が載置されている。
試料保持体14は、試料保持膜12と固定用部材13とを備えている。試料保持膜12は、電子線が透過するが気体や液体は透過しない膜であり、その厚さは例えば10〜1000nmとなっている。試料保持膜12の上面である第1の面における試料保持領域には試料11が配置される。また、試料保持膜12の下面である第2の面は、試料室7の上端壁7b上に配置されたOリングと接触している。真空室7は、試料保持体14の試料保持膜12により密閉される。
試料保持膜12の第1の面において、試料11が配置される試料保持領域を回避するように固定用部材13が配置されている。この固定用部材13は、当該第1の面において、試料11を所定の試料保持領域に留めるためのものである。この第1の面における試料保持領域は、試料11が配置される前には外気に晒され、開放された常圧雰囲気(外気の大気圧雰囲気)に接している。
このような構成からなる試料検査装置を用いて試料11の検査を行う際には、まず試料保持体14の試料保持膜12の第1の面における試料保持領域に、検査対象となる試料11を供給する。これにより、試料を保持するための試料保持膜12の開放された常圧雰囲気に接する第1の面に試料が配置される。ここで、試料11は液状の試料であり、その内部に沈殿物が存在している。
その後、鏡筒5内及び真空室7内をそれぞれ真空引きして、これらの内部がそれぞれ所定の減圧雰囲気となるようにする。真空室7の内部が真空引きされることにより、試料保持膜12の第2の面に接する雰囲気は減圧される。真空室7の圧力(真空度)は、10−4Pa〜10−5Pa程度に設定される。
鏡筒5内及び真空室7内がそれぞれ所定の減圧雰囲気となった後、電子銃1から試料保持膜12の第2の面に向けて一次線としての電子線6が放出される。電子銃1から放出された電子線6は、集束レンズ2及び対物レンズ4により細く集束される。
このようにして集束された電子線6は、試料保持膜12の第2の面に到達した後、試料保持膜12を通過し、試料保持膜12の第1の面における試料保持領域に配置された試料11を照射する。このとき、走査コイル3が駆動することにより電子線6が適宜偏向され、電子線6は試料11を走査することとなる。これにより、試料保持膜12の第2の面側から試料保持膜12を介して試料に電子線(一次線)6が照射される。
電子線6が照射された試料11からは、反射電子が発生する。この反射電子は、試料保持膜12を通過し、開口部7cを介して真空室7内の反射電子検出器8に到達する。反射電子検出器8は、当該反射電子を検出する。これにより、電子線6の照射により試料11から発生する二次的信号としての反射電子が検出される。
試料検査装置は、反射電子検出器8により検出された反射電子の検出結果に基づいて、試料の情報としての走査像(SEM像)を取得する。この走査像は、図示しない表示装置により適宜表示され、また必要に応じて図示しない記憶装置にデータとして記憶される。
上記の工程により、試料保持膜12の開放された常圧雰囲気に接する第1の面に配置された試料11に、試料保持膜12の減圧雰囲気に接する第2の面側から試料保持膜12を介して試料11に電子線(一次線)6を照射し、当該照射により試料11から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得することができる。
次に、図2を参照して、試料保持体14の第1の作成方法について説明する。
まず、固定用部材13の材料となる方形状の樹脂基板21を用意する(図2(a))。
次いで、ナノインプリント技術を用いて、樹脂基板21に開口21aを形成する。この開口21aは、試料保持膜12の第1の面における試料保持領域の寸法に対応する(図2(b))。
さらに、樹脂基板21の一方の面(下面)に、スプレーを用いて接着剤22を塗布する(図2(c))。
そして、ポリイミドの有機薄膜からなる方形状の試料保持膜12を接着剤22を介して樹脂基板21の下面に接着する。これにより、試料保持膜12と固定用部材13とを備えた試料保持体14を安価に作成することができる(図2(d))。
また、このような構成からなる試料保持体12は、構造的にも安定したものとなる。なお、図2(d)において、12aは試料保持膜12の第1の面であり、12bは試料保持膜12の第2の面である。試料保持膜12の第1の面12aにおいて、上記開口21aにより開放されている領域が試料保持領域となる。なお、図2(d)に示す試料保持体14の平面図を図3に示す。
このような構造の試料保持体14では、試料保持領域に配置された液状の試料内の沈殿性構造物(沈殿物)は、沈殿により試料保持膜12の第1の面と接触することとなる。よって、このような試料保持体14の下方から(試料保持膜12の第2の面側から)集束された電子線を照射・走査し、試料保持膜12を通過した電子線が試料保持膜12の第1の面上に位置する試料の沈殿物に到達することにより、当該沈殿物から反射電子が発生する。
この発生した反射電子が、試料保持膜12を通過して、試料保持膜12の下方に設置された反射電子検出器により検出されることにより、当該沈殿物を含む試料のSEM像が試料情報として取得される。
上記において、試料保持膜12の厚さ(膜厚)は10〜1000nm程度に設定されている。さらに膜厚を小さく(薄く)すると、試料保持膜12に入射した電子線の散乱をより少なくすることができるので、SEM観察の分解能を向上することができるが、試料保持膜12の強度が低下することとなる。これに対して、膜厚を大きく(厚く)すると、SEM観察の分解能は劣化するが、試料保持膜12の強度が向上する。よって、試料保持膜12の膜厚を適正に設定する必要がある。より好ましい例としては、試料保持膜12の膜厚を20〜200nmとするのが良い。
また、上記の例では、試料保持膜12の原材料としてポリイミドを用いた例を示したが、原材料としてポリプロピレンやポリエチレン等の有機系材料を用いることもできる。
さらに、上記の例では、接着剤22を介して試料保持膜12と固定用部材13とを接合しているが、融着を用いて試料保持膜12と固定用部材13とを接合するようにしても良い。この場合、当該接合工程を簡略化することができる。
そして、図4に示すように、試料保持膜12と固定用部材13との間に、導電性の有機薄膜(導電層)24を設けるようにしても良い。これにより、電子線の照射による試料の帯電を低減させることができる。特に、当該導電層24を接地させておくことにより、試料の帯電を確実に防止することができる。
次に、図5を参照して、試料保持体14の第2の作成方法について説明する。本例では、試料保持膜及び固定用部材を上記とは別の材料を用いて形成する点において上記例と異なる。
まず、シリコン(Si)基板31の一方の面に酸化膜(SiO2膜)33を形成する。この酸化膜33は、試料保持膜12とされるものであり、その膜厚は電子線が透過される厚さに設定する(図5(a))。
次いで、フォトリソグラフィーの手法を用いて、シリコン基板31の他方の面にレジストパターン32を設ける。レジストパターン32には、開口32aが形成されている。この開口32aは、試料保持膜12の第1の面における試料保持領域の寸法に対応する(図5(b))。
さらに、レジストパターン32をマスクとして、ディープRIE(リアクティブイオンエッチング)の手法を用いて、上記開口32aにより露出されたシリコン基板31の部分を選択的にエッチングする。これにより、シリコン基板31に開口31aが形成される(図5(c))。
そして、アッシングを行うことにより、レジストパターン32を除去する。これにより、酸化シリコンからなる試料保持膜12とシリコンからなる固定用部材13とを備えた試料保持体14が作成される。
この例では、酸化シリコンを試料保持膜12に用いたので、試料保持膜12の耐久性を向上させることができる。なお、本例では、試料保持膜12の構成材料として酸化シリコンを用いたが、他の構成材料として窒化シリコン、窒化ホウ素、ベリリウム等の他の無機材料を用いることもできる。また、これらの構成材料からなる試料保持膜12を、CDV、スパッタリング、蒸着、レーザーアブレーション等の化学的若しくは物理的な成膜方法により形成することができる。
次に、図6を参照して、試料保持体14の第3の作成方法について説明する。本例では、試料保持膜の試料保持領域にメッシュを設けるものである。
まず、固定部材13の材料となる方形状の樹脂基板41を用意する(図6(a))。
次いで、ナノインプリント技術を用いて開口41aを形成するとともに、該開口41a内での一部の基板部分を残してメッシュ41bを設ける。このメッシュ41bは、基板41と同様に、樹脂から構成されている(図6(b))。
さらに、メッシュ41を含む樹脂基板41の一方の面(下面)に、スプレーを用いて接着剤42を塗布する(図6(c))。
そして、ポリイミド等の有機薄膜からなる方形状の試料保持体12を接着剤42を介して樹脂基板41の下面に接着する。これにより、試料保持膜12の第1の面における試料保持領域にメッシュ41bが設けられた試料保持体14が作成される(図6(d))。
上述した試料検査装置(図1参照)において、真空室7内を減圧すると、試料保持膜12の面には、外気の常圧雰囲気(試料保持膜12の第1の面側)と試料室7内の減圧雰囲気(試料保持膜12の第2の面側)とに起因する圧力差が生じるが、このようなメッシュ41bを備えた試料保持体14を用いることにより、試料保持膜12をメッシュ41bによって支持して強度的に補強することができ、試料保持膜12が破損することを確実に防ぐことができる。また、メッシュ41bをグリッドとしても良い。
なお、上記の試料保持膜12の補強はメッシュ構造により実施したが、これに代わってラインアンドスペース構造やハニカム構造を用いても良い。また、試料保持膜12は、ポリイミドに限らず、ポリプロピレンやポリエチレン等の他の有機系材料を用いても良い。また、カーボンを材料として用いても良い。さらに、試料保持膜12と固定用部材13との間に、導電性の有機薄膜を設けるようにしても良い。
また、図7に示すように、試料保持膜12の第2の面12bに、開口45a及びメッシュ45bを有する樹脂フィルム45を接着剤44を介して設けるようにしても良い。この場合、メッシュ45は、減圧雰囲気とされる真空室7側に位置することとなる。
次に、図8を参照して、試料保持体14の第4の作成方法について説明する。
まず、電子線が透過できる厚さを有する酸化膜(SiO2膜)52と、この酸化膜52の両面に設けられたシリコンからなる基板部51,53とを備えたSOI基板50を用意する。酸化膜52は、試料保持膜14とされる(図8(a))。
次いで、フォトリソグラフィーの手法を用いて、第1の基板部51の表面にレジストパターン54を設ける。レジストパターン54には、開口54aが形成されている。この開口54aは、試料保持膜12の第1の面における試料保持領域の寸法に対応する(図8(b))。
さらに、レジストパターン54をマスクとして、ディープRIEの手法を用いて、上記開口54aにより露出された基板部51の部分を選択的にエッチングする。これにより、試料保持領域に対応する開口51aが基板部51に形成される(図8(c))。
その後、アッシングを行うことにより、レジストパターン54を除去する(図8(d))。
次に、このようにして加工されたSOI基板の上下を反転し(図8(e))、第2の基板部53の表面にレジストパターン55を設ける。レジストパターン55には、所定の開口55aが形成されている(図8(f))。
そして、レジストパターン55をマスクとしてディープRIEの手法を用いて、上記開口55aにより露出された基板部53の部分を選択的にエッチングする(図8(g))。
その後、アッシングを行うことにより、レジストパターン53を除去する(図8(h))。これにより、酸化膜52からなる試料保持膜12の第1の面12aに固定用部材13が設けられているとともに、試料保持部12の第2の面12bにメッシュ52bが設けられた試料保持体14が作成される。
この例においても、メッシュ52bにより試料保持膜12を強度的に補強することができ、上記の圧力差に起因して試料保持膜12が破損することを確実に防ぐことができる。
なお、上述と同様に、試料保持膜12の補強は、メッシュ構造に代えて、ラインアンドスペース構造やハニカム構造を用いても良い。
また、試料保持膜12の構成材料として、酸化膜の代わりに窒化シリコン、窒化ホウ素、ベリリウム等の他の無機材料を用いることもできる。また、これらの構成材料からなる試料保持膜12を、CDV、スパッタリング、蒸着、レーザーアブレーション等の化学的若しくは物理的な成膜方法により形成することができる。
次に、図9を参照して、試料保持体の変形例について説明する。図4において、試料保持体14aは、試料保持膜12と、この試料保持膜12の第1の面に設けられた固定用部材13とを備えている。試料保持膜12の第1の面には、複数の試料保持領域が設定されている。
固定用部材13には、試料保持膜12の第1の面における各試料保持領域に対応して、複数の開口13aが形成されている。これら各開口13aにより、試料保持膜12の各試料保持領域は外気に開放されている。各開口を介して、各試料保持領域に複数種類の試料を配置することができる。
この試料保持体14aは、上述した各試料保持体の作成方法の何れかを採用することにより作成することができる。このような試料保持体14aを用いることにより、複数の試料の検査を効率良く行うことができる。
次に、図10を参照して、試料検査装置の変形例について説明する。本例における試料検査装置は、鏡筒5が傾斜可能となっている。これにより、電子線の試料11への照射角度が調整できる。ここで、図10において、試料保持体14は、上述した試料保持体のうちの何れか一つである。
このように鏡筒を傾斜できるようにしたので、試料保持体14に配置された試料11内の沈殿物を動かすことなく、SEMによる傾斜観察を行うことができる。これにより、試料11中の沈殿性構造物の3次元的構造に関する情報を取得することができる。
具体的には、ヨーグルト飲料や血液を試料としたときに、ヨーグルト飲料中のビフィズス菌や血液中の血球成分の構造を良好に観察でできる。特に、複数の傾斜画像から、試料中の構造物の輪郭をコンピュータを用いて再構築することにより、3次元立体画像を構築することができる(コンピュータトポグラフィー)。
次に、図11及び図12を参照して、上記試料検査装置を備える自動検査システム及び自動検査方法について説明する。なお、図11に示す自動検査システムの各構成要素は、図示しない制御装置により制御される。
最初に、試料の自動前処理を行う。まず、オートピペット60を用いて、血液等の液状の試料を自動的に前処理ユニット61に入れる。その後、同様の手法により、固定液を前処理ユニット61に入れる。
この状態で、前処理ユニット61内の内容物の撹拌を適宜行い、当該試料の固定処理を行う。このときの当該内容物の温度は37℃に維持して処理をする。
次に、前処理ユニット61内で固定処理後の試料を、オートピペットを用いて、前処理ユニット62内に移す。その後、前処理ユニット62内の試料に含まれる不要な上澄み液を除去した後、当該試料の洗浄処理を行う。
そして、同様の手法により、導電性染色液を前処理ユニット62内に入れる。この状態で、前処理ユニット62内の内容物の撹拌を適宜行い、染色処理を施す。その後、前処理ユニット62内の試料に含まれる不要な上澄み液を再度除去した後、当該試料の洗浄処理を行う(ステップS1)。
そして、前処理ユニット62内の洗浄処理後の試料を、オートピペットを用いて、自動的に試料保持体14の試料保持領域14aに供給する。さらに、試料保持体14内での試料の沈殿物(沈殿成分)が沈殿するまで待つ(ステップS2)。
その後、当該試料保持体14を、搬送ユニット63を用いて、試料検査装置を構成するOリング9の上に移動して載置する。これにより、試料検査装置の真空室7は密閉される(ステップS3)。
次いで、試料検査装置の真空室7内の真空引きを行う。これにより、真空室7の内部は減圧雰囲気(大気圧に対して減圧された状態の雰囲気)となる。また、移動機構10を用いて、真空室7の上端壁7bを上下に動かし、試料保持体14の上下移動を行う。この移動機構10の動作は、本体コントローラ64による制御に基づいて実行される。これにより、試料保持体14内の試料11を、上下方向における適切な観察位置に配置する(ステップS4)。
その後、鏡筒5から照射される電子線についてのフォーカスやスティグマの調整を自動的に行う。この動作も、本体コントローラ64による制御に基づいて実行される(ステップS5)。
そして、試料保持体14内の試料11についてのSEM像を取得する(ステップS6)。
このとき、鏡筒5から照射される電子線は、試料保持体14を構成する試料保持膜12の下面(第2の面)側から、当該試料保持膜12を通過して、試料保持膜12の上面(第1の面)に配置された試料11に到達する。電子線は適宜偏向されることにより、当該試料11を走査することとなる。
電子線が走査された試料11からは反射電子が発生する。この反射電子は、試料保持膜12を通過して、真空室7内に設置された反射電子検出器8により検出される。反射電子検出器8は、反射電子の検出に基づく検出信号を画像形成手段65に出力する。画像形成手段65は、当該信号に基づいて画像形成処理を行い、SEM像データを形成する。当該SEM像データは、図示しない表示装置に送られる。当該表示装置は、送られたSEM像データに基づいてSEM像を表示する。
また、画像形成手段65により形成されたSEM像データは、画像サーバー66に転送される。転送されたSEM像データは、試料の種類や前処理ごとに自動的に画像サーバー66内に保存される(ステップS8)。
そして、試料の移動から画像サーバーへの当該データの転送までの各工程を、必要な回数繰り返す(ステップS4からステップS8間での閉ループ)。
このような一連の自動検査方法を用いることにより、前処理を含む全ての工程を自動化することができ、その結果、人による手間を省くことができる。
次に、図13を参照して、自動検査方法の第2実施例について説明する。
試料の自動前処理において、蛍光マーカー付加処理を含めて処理を実施する(ステップS11)。
そして、自動前処理実施後の試料をオートピペットを用いて、自動的に試料保持体14の試料保持領域14aに供給する。さらに、試料保持体14内での試料の沈殿物が沈殿するまで待つ(ステップ12)。
その後、当該試料保持体14を、搬送ユニットを用いて、試料検査装置を構成するOリング9の上に移動して載置する。これにより、試料検査装置の真空室7は密閉される(ステップS13)。
次いで、試料検査装置の真空室7内の真空引きを行う。本例において、試料検査装置の真空室7内には、蛍光検出器(図11において図示せず)が配置されている。また、移動機構10を用いて、試料保持体14の上下移動を行い、試料保持体14内の試料11を、上下方向における適切な観察位置に配置する(ステップS14)。
その後、鏡筒5から照射される電子線についてのフォーカスやスティグマの調整を自動的に行う。この調整は、反射電子検出器8による反射電子の検出に基づいて行われる(ステップS15)。
そして、試料保持体14内の試料11に、上述と同様の方法により電子線を照射する。電子線の照射により、試料11中の蛍光マーカーはカソードルミネッセンスを起こす。これにより、試料11中の特定領域(蛍光発生領域)からは、蛍光が発生する。これにより発生した蛍光は、試料保持膜12を通過し、蛍光検出器により検出される。この蛍光検出器による検出結果に基いて、自動蛍光部位探索が行われる(ステップS16)。
次いで、上記工程により特定された蛍光発生領域を含む試料11中の領域に電子線を照射・走査し、反射電子を検出してSEM像データを作成後、当該SEM像を表示することにより、蛍光マーカーが付加されている蛍光発生領域の近傍のSEM像を観察する(ステップS17)。
形成されたSEM像データは、画像形成手段65から画像サーバー66に転送される。転送されたSEM像データは、試料の種類や前処理ごとに自動的に画像サーバー66内に保存される(ステップS18)。
そして、試料の移動から画像サーバーへの当該データの転送までの各工程を、必要な回数繰り返す(ステップS14からステップS19間での閉ループ)。
このような一連の自動検査方法を用いることにより、試料11中での蛍光マーカーが反応する部位を特定することができ、蛍光マーカーが付加された部分の近傍を反射電子像であるSEM像により詳細に観察することができる。
次に、図14を参照して、自動検査方法の第3実施例について説明する。
図14において実施されるステップS21〜ステップS27までの各工程は、図12(自動検査方法の第1実施例)において実施されるステップS1〜ステップS7までの各工程と同様である。
本例においては、ステップS27における画像転送を行った後、画像サーバー66に転送されたSEM画像データは、コンピュータ67に送られる。コンピュータ67は、SEM画像データに対して、自動画像処理(ステップS28)及び自動分類(ステップS29)を行う。
ステップS28及びステップS29において、コンピュータ67は、当該画像データに対して画像処理を施し、その特徴量を抽出する。この画像処理により、画像内における構造物の大きさ、偏心量、エッジのラフネス、密度、表面形態、突起等の特定構造が抽出される。これらの特徴量の組み合わせにより、試料を自動的に分類する。
そして、試料の移動から自動分類までの各工程を、必要な回数繰り返す(ステップS24からステップS30間での閉ループ)。
このような一連の自動検査方法を用いることにより、人の手間を省くことができる。そして、特徴量と分類方法の関係については、予め多数の試料について手動分類の結果を用いて学習させることにより、分類精度を高めることができる。
次に、図15を参照して、自動検査方法の第4実施例について説明する。
図15において実施されるステップS31〜ステップS35までの各工程は、図12(自動検査方法の第1実施例)において実施されるステップS1〜ステップS5までの各工程と同様である。
本例においては、ステップS35における自動SEM調整工程を実施した後、複数の方向から試料11に電子線を自動的に照射して、これにより複数の方向からのSEM画像を取得する(ステップS36)。
このように複数の方向から試料11に電子線を照射する際には、一例として、図10に示されるように、鏡筒5が適宜傾斜可能な装置構成を用いることができる。また、ステップ36において、複数の方向からのSEM画像に基づいて、試料11中の構造物の3次元形状の計算を行うこともできる。
複数の方向からのSEM像データには、画像形成手段65により、自動的に3次元形状構築処理が施される(ステップS38)。
そして、3次元形状構築処理が施された画像データは、画像サーバー66に転送される(ステップS38)。
その後、当該画像データは、コンピュータ67に送られる。コンピュータ67は、当該画像データに対して、自動画像処理(ステップS39)及び自動分類(ステップS40)を行う。
ステップS39及びステップS40において、コンピュータ67は、当該画像データに対して画像処理を施し、その特徴量を抽出する。この画像処理により、画像内における構造物の大きさ、3次元的な偏心量、エッジのラフネス、密度、表面形態、突起等の特定構造が抽出される。これらの特徴量の組み合わせにより、試料を自動的に分類する。
そして、試料の移動から自動分類までの各工程を、必要な回数繰り返す(ステップS34からステップS41間での閉ループ)。
このような一連の自動検査方法を用いることにより、人の手間を省くことができる。そして、特徴量と分類方法の関係については、予め多数の試料について手動分類の結果を用いて学習させることにより、分類精度を高めることができる。
特に、本例において、試料11として血液を検査対象とした場合、血液中の血球の観察を行い、血球の3次元的な形状を分類した結果と病因との関係を用いることにより、分類結果を用いて病因判定を自動的に行うことができる。
また、本例において、試料11として粉黛を検査対象とした場合、粉黛の観察を行い、粉黛の3次元的な形状を分類した結果と過去の測定結果との関係を用いることにより、分類結果を用いて良品か不良品かの合否判定を自動的に行うことができる。粉黛としては、コピー用トナー、化粧品、顔料、及び黒鉛が対象とされる。
なお、本例において、検査スタート後、ステップS31からステップS36に至る各工程を実行した時点で試料検査を終了しても良い。また、検査スタート後、ステップ31からステップ37に至る各工程を実行した時点で試料検査を終了しても良い。
次に、上述した各試料保持体14の試料保持領域に試料11を配置した後、試料11を密閉する例について説明する。
上述の試料検査を実施する際、試料保持体14内の試料11に上方からパーティクル等の異物が落下して、試料11内に当該異物が混入することを防ぐには、試料検査を実施する前に、試料保持体14中の試料11の上を塞いで密閉することが有用である。
図16は、試料保持体14内の試料11の密閉構造の一例である。試料保持膜12及び固定用部材13を備える試料保持体14内には試料11が配置され、当該試料11の配置後に、固定用部材13の上面にOリング50を介して蓋部材51を設置する。これにより、試料11の表面側には蓋部材51が配置され、試料11が密閉される。
また、図17は、試料保持体14内の試料11の密閉構造の他の例である。試料保持膜12及び固定用部材13を備える試料保持体14内には試料11が配置され、当該試料11の配置後に、試料11の表面側に接着剤52を配置する。この接着剤52は、酢酸エチル系の接着剤である。これにより、試料11の表面側には接着剤52が配置され、試料11が密閉される。
なお、上記例において、酢酸エチル系の接着剤の代わりに、メタクリル、スチレン、アクリル、ウレタン、シリコン、フッ素、エポキシ、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸セルロースの何れかを含む接着剤、硬化剤、若しくは樹脂の何れかを用いることができる。
図16又は図17に示す試料保持膜12及び固定用部材13を備える試料保持体14の構造は、上述した各試料保持体の構造を用いても良い。
このようにして試料11が密閉された試料保持体は、上述した各試料検査装置(図1、図10、又は図11に示された装置)におけるOリング9上に載置され、上述の各方法により試料11の検査が実行できる。
上述した本発明においては、試料保持体14及び試料11は、真空室7の外側に配置された状態で試料検査を行うことができる。よって、本発明において試料交換を行う際には、単に真空室を減圧状態から常圧状態に戻した後、真空室7の外側で常圧雰囲気(常圧の外部雰囲気)の中で試料交換ができる。これにより、試料の交換時に真空室の内外での試料の移動を行う必要がなく、試料交換を迅速に行うことができる。
なお、上述の各例においては、一次線として電子線を用いた例であったが、試料保持膜のイオンビーム等の他の荷電粒子ビームに対する耐衝撃性や強度が十分に大きければ、一次線として当該他の荷電粒子ビームを用いることができる。
このように本発明では、試料が保持される膜の開放された常圧雰囲気に接する第1の面に試料が配置され、該膜の第2の面側から該膜を介して一次線が試料に照射される。よって、試料交換時には、試料室の外部の常圧雰囲気内で試料の交換を行うことができるので、試料の交換作業を効率良く行うことができる。
また、本発明において、当該第1の面が該膜の上面であり且つ当該第2の面が該膜の下面となっていれば、液状の試料内の沈殿物は該膜の上面(第1の面)側に沈殿して該膜に接近するので、当該沈殿物の検査を良好に行うことができる。
1…電子銃、2…集束レンズ、3…走査コイル、4…対物レンズ、5…鏡筒、6…電子線(一次線)、7…真空室、8…反射電子検出器、9…Oリング、10…移動機構、11…試料、12…試料保持膜(膜)、12a…第1の面、12b…第2の面、13…固定用部材、14…試料保持体
Claims (44)
- 試料を保持するための膜の常圧雰囲気に接する第1の面に配置された試料に、該膜の減圧雰囲気に接する第2の面側から該膜を介して試料に一次線を照射し、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得する試料検査方法。
- 試料を保持するための膜の常圧雰囲気に接する第1の面に試料を配置する工程と、該膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する工程と、該膜の第2の面側から該膜を介して試料に一次線を照射する工程と、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出する工程とを有する試料検査方法。
- 前記膜の厚さが10〜1000nmであることを特徴とする請求項1又は2記載の試料検査方法。
- 前記膜の厚さが20〜200nmであることを特徴とする請求項1又は2記載の試料検査方法。
- 前記膜の第1の面が該膜の上面となっており、当該膜の第2の面が該膜の下面となっていることを特徴とする請求項1乃至3何れか記載の試料検査方法。
- 前記試料が液状であることを特徴とする請求項1乃至5何れか記載の試料検査方法。
- 前記膜の第1の面で試料を所定の保持領域に留めるための固定用部材が当該第1の面に設けられていることを特徴とする請求項6記載の試料検査方法。
- 前記膜が、酸化シリコン、窒化シリコン、窒化ホウ素、ベリリウム、カーボン、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレンのうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1乃至7何れか記載の試料検査方法。
- 前記膜は導電層を有することを特徴とする請求項1乃至8何れか記載の試料検査方法。
- 前記一次線の試料への照射角度が調整可能であることを特徴とする請求項1乃至9何れか記載の試料検査方法。
- 前記一次線は荷電粒子線又は電子線であることを特徴とする請求項1乃至10何れか記載の試料検査方法。
- 前記二次的信号は、反射電子若しくは蛍光であることを特徴とする請求項1乃至11何れか記載の試料検査方法。
- 前記二次的信号として蛍光を検出して試料における蛍光発生領域を特定し、該蛍光発生領域の近傍から発生する反射電子を前記二次的信号として検出することを特徴とする請求項12記載の試料検査方法。
- 前記試料から検出された二次的信号に基づいて形成された画像の画像処理を行い、該画像処理結果に基づいて画像分類を行うことを特徴とする請求項1乃至13何れか記載の試料検査方法。
- 前記画像分類結果に基づいて、病因判定若しくは合否判定を行うことを特徴とする請求項14記載の試料検査方法。
- 前記試料には、固定処理、染色処理、若しくは蛍光マーカー付処理の何れか一つからなる前処理が施されていることを特徴とする請求項1乃至15何れか記載の試料検査方法。
- 荷電粒子線が透過する膜を有し、該膜の第1の面に配置された試料に、該膜の第2の面側から該膜を介して荷電粒子線を照射できる試料保持体であって、該膜の第1の面における試料の保持領域を回避して当該第1の面に固定用部材が設けられていることを特徴とする試料保持体。
- 前記膜の厚さが10〜1000nmであることを特徴とする請求項17記載の試料保持体。
- 前記膜の厚さが20〜200nmであることを特徴とする請求項17記載の試料保持体。
- 前記膜が、酸化シリコン、窒化シリコン、窒化ホウ素、ベリリウム、カーボン、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレンのうちの少なくとも一つを含むこと特徴とする請求項17乃至19何れか記載の試料保持体。
- 前記膜は導電層を有することを特徴とする請求項17乃至20何れか記載の試料保持体。
- 前記導電層は、有機薄膜からなることを特徴とする請求項21記載の試料保持体。
- 前記膜を支持するためのグリッド若しくはメッシュを備えることを特徴とする請求項17乃至22何れか記載の試料保持体。
- 前記グリッド若しくはメッシュは、シリコン又は樹脂を含んで構成されていることを特徴とする請求項23記載の試料保持体。
- 請求項17乃至24何れか記載の試料保持体の保持領域に配置された試料に、当該試料保持体を構成する前記膜の第2の面側から該膜を介して荷電粒子線を照射し、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得することを特徴とする試料検査方法。
- 請求項17乃至24何れか記載の試料保持体の前記保持領域に試料を配置した後に該保持領域を密閉し、その後当該試料に、当該試料保持体を構成する前記膜の第2の面側から該膜を介して荷電粒子線を照射し、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得することを特徴とする試料検査方法。
- 前記試料保持体の当該保持領域に配置された試料の表面側に、蓋部材、接着剤、硬化剤、若しくは樹脂を配置することにより当該保持領域を密閉することを特徴とする請求項26記載の試料検査方法。
- 前記接着剤、硬化剤、若しくは樹脂が、メタクリル、スチレン、アクリル、ウレタン、シリコン、フッ素、エポキシ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セルロースのうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項26記載の試料検査方法。
- 常圧雰囲気に接する第1の面に試料が保持される膜と、該膜の第2の面に接する雰囲気を減圧する手段と、該膜の第2の面側から該膜を介して試料に一次線を照射する手段と、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出する手段とを備える試料検査装置。
- 前記膜の厚さが10〜1000nmであることを特徴とする請求項29記載の試料検査装置。
- 前記膜の厚さが20〜200nmであることを特徴とする請求項29記載の試料検査装置。
- 前記膜の第1の面が該膜の上面となっており、当該膜の第2の面が該膜の下面となっていることを特徴とする請求項29乃至31何れか記載の試料検査装置。
- 前記膜の第1の面で試料を所定の保持領域に留めるための固定用部材が当該第1の面に設けられていることを特徴とする請求項29乃至32何れか記載の試料検査装置。
- 前記膜が、酸化シリコン、窒化シリコン、窒化ホウ素、ベリリウム、カーボン、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレンのうちの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項29乃至33何れか記載の試料検査装置。
- 前記膜は導電層を有することを特徴とする請求項29乃至34何れか記載の試料検査装置。
- 前記導電層は有機薄膜からなることを特徴とする請求項35載の試料検査装置。
- 前記一次線の試料への照射角度が調整可能であることを特徴とする請求項29乃至36何れか記載の試料検査装置。
- 前記一次線を照射する鏡筒が傾斜することにより、当該一次線の試料への照射角度が調整可能であることを特徴とする請求項37記載の試料検査装置。
- 前記膜の移動を行う移動機構を備えることを特徴とする請求項29乃至38何れか記載の試料検査装置。
- 請求項17乃至24何れか記載の試料保持体の保持領域に配置された試料に、当該試料保持体を構成する前記膜の第2の面側から該膜を介して荷電粒子線を照射し、当該照射により試料から発生する二次的信号を検出して試料の情報を取得することを特徴とする試料検査装置。
- 前記試料から検出された二次的信号に基づいて形成された画像の画像処理を行い、該画像処理結果に基いて画像分類を行うことを特徴とする請求項40記載の試料検査装置。
- 前記画像分類結果に基づいて、病因判定若しくは合否判定を行うことを特徴とする請求項41記載の試料検査装置。
- 請求項40乃至42何れか記載の試料検査装置を備え、前記試料の前処理手段と、前処理がされた試料を前記試料保持体の保持領域に供給する手段と、試料を保持した試料保持体を当該試料検査装置に移動する手段とを具備した試料検査システム。
- 前記前処理手段は、試料の固定処理、試料の染色処理、又は蛍光マーカー付加処理のうちの少なくとも一つを実行することを特徴とする請求項43記載の試料検査システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006123712A JP2007294365A (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006123712A JP2007294365A (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007294365A true JP2007294365A (ja) | 2007-11-08 |
Family
ID=38764767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006123712A Pending JP2007294365A (ja) | 2006-04-27 | 2006-04-27 | 試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007294365A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2075821A2 (en) | 2007-12-26 | 2009-07-01 | Jeol Ltd. | Sample holder, method for observation and inspection, and apparatus for observation and inspection |
EP2105727A1 (en) * | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Jeol Ltd. | Scanning electron microscope comprising a film for holding a sample and a dish for receiving sample material from a damaged film |
JP2009250813A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | 検査方法及び試液 |
JP2009250904A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | 検査装置及び検査方法 |
EP1936363A3 (en) * | 2006-12-19 | 2010-12-08 | JEOL Ltd. | Sample inspection apparatus, sample inspection method, and sample inspection system |
JP2012160267A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
JP2012227170A (ja) * | 2012-08-22 | 2012-11-15 | Jeol Ltd | 試料保持体及び試料検査装置並びに試料検査方法 |
WO2013099241A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 走査型電子顕微鏡像観察用の試料支持部材及び走査型電子顕微鏡像の観察方法 |
JP2013167565A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | 薄片試料作製装置及び薄片試料作製方法 |
JP2017004785A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | 大日本印刷株式会社 | 電子顕微鏡観察用の試料保持チップ |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4847394A (ja) * | 1971-10-15 | 1973-07-05 | ||
JPS522785A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-10 | Shimadzu Corp | Analyzing method and its device for the same |
JPS54144863A (en) * | 1978-05-02 | 1979-11-12 | Siemens Ag | Scan electron microscope |
JPS60136048A (ja) * | 1983-12-24 | 1985-07-19 | Fujitsu Ltd | テ−プ巻取駆動方式 |
JPH10289681A (ja) * | 1997-04-14 | 1998-10-27 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2004515049A (ja) * | 2000-12-01 | 2004-05-20 | エダ リサーチ アンド ディベロップメント カンパニー,リミティド | 走査型電子顕微鏡を用いた非真空環境内のサンプルの検査のための装置および方法 |
JP2005216645A (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Jeol Ltd | 透過電子顕微鏡 |
JP2005285746A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-10-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査型電子顕微鏡を用いた試料の観察方法及びその装置 |
JP2005534912A (ja) * | 2002-07-30 | 2005-11-17 | ドイチェス クレブスフォルシュングスツェントルム | 複数粒子を多重標識して検出および評価するための方法および装置 |
JP2006100049A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線式検査装置とその検査方法 |
-
2006
- 2006-04-27 JP JP2006123712A patent/JP2007294365A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4847394A (ja) * | 1971-10-15 | 1973-07-05 | ||
JPS522785A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-10 | Shimadzu Corp | Analyzing method and its device for the same |
JPS54144863A (en) * | 1978-05-02 | 1979-11-12 | Siemens Ag | Scan electron microscope |
JPS60136048A (ja) * | 1983-12-24 | 1985-07-19 | Fujitsu Ltd | テ−プ巻取駆動方式 |
JPH10289681A (ja) * | 1997-04-14 | 1998-10-27 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2004515049A (ja) * | 2000-12-01 | 2004-05-20 | エダ リサーチ アンド ディベロップメント カンパニー,リミティド | 走査型電子顕微鏡を用いた非真空環境内のサンプルの検査のための装置および方法 |
JP2005534912A (ja) * | 2002-07-30 | 2005-11-17 | ドイチェス クレブスフォルシュングスツェントルム | 複数粒子を多重標識して検出および評価するための方法および装置 |
JP2005216645A (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Jeol Ltd | 透過電子顕微鏡 |
JP2005285746A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-10-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査型電子顕微鏡を用いた試料の観察方法及びその装置 |
JP2006100049A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子線式検査装置とその検査方法 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1936363A3 (en) * | 2006-12-19 | 2010-12-08 | JEOL Ltd. | Sample inspection apparatus, sample inspection method, and sample inspection system |
EP2365321A3 (en) * | 2006-12-19 | 2012-01-11 | JEOL Ltd. | Sample inspection apparatus, sample inspection method, and sample inspection system |
JP2009158222A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Jeol Ltd | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 |
US7928380B2 (en) | 2007-12-26 | 2011-04-19 | Jeol Ltd. | Sample holder, method for observation and inspection, and apparatus for observation and inspection |
EP2075821A2 (en) | 2007-12-26 | 2009-07-01 | Jeol Ltd. | Sample holder, method for observation and inspection, and apparatus for observation and inspection |
EP2105727A1 (en) * | 2008-03-26 | 2009-09-30 | Jeol Ltd. | Scanning electron microscope comprising a film for holding a sample and a dish for receiving sample material from a damaged film |
JP2009250813A (ja) * | 2008-04-08 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | 検査方法及び試液 |
EP2108947B1 (en) * | 2008-04-10 | 2013-10-30 | JEOL Ltd. | Apparatus and method for inspection |
JP2009250904A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Jeol Ltd | 検査装置及び検査方法 |
JP2012160267A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
DE112011104347T5 (de) | 2011-01-31 | 2013-09-19 | Hitachi High-Technologies Corporation | Vorrichtung mit einem geladenen Teilchenstrahl |
US9543111B2 (en) | 2011-01-31 | 2017-01-10 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
WO2013099241A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 走査型電子顕微鏡像観察用の試料支持部材及び走査型電子顕微鏡像の観察方法 |
JP2013134952A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 走査型電子顕微鏡像観察用の試料支持部材及び走査型電子顕微鏡像の観察方法 |
EP2800123A4 (en) * | 2011-12-27 | 2015-08-19 | Nat Inst Of Advanced Ind Scien | SAMPLE CARRIER ELEMENT FOR MONITORING A GRIDDER ELECTRONIC MICROSCOPE IMAGE AND METHOD FOR MONITORING A GRID ELECTROCUT MICROSCOPE IMAGE |
US9589765B2 (en) | 2011-12-27 | 2017-03-07 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Sample supporting member for observing scanning electron microscopic image and method for observing scanning electron microscopic image |
JP2013167565A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Nippon Steel & Sumitomo Metal | 薄片試料作製装置及び薄片試料作製方法 |
JP2012227170A (ja) * | 2012-08-22 | 2012-11-15 | Jeol Ltd | 試料保持体及び試料検査装置並びに試料検査方法 |
JP2017004785A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | 大日本印刷株式会社 | 電子顕微鏡観察用の試料保持チップ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007294365A (ja) | 試料検査方法、試料保持体、及び試料検査装置並びに試料検査システム | |
EP3332417B1 (en) | Charged particle beam system, opto-electro simultaneous detection system and method | |
KR102221931B1 (ko) | 시료에 따른 전자 회절 패턴 분석을 수행하는 방법 | |
KR101599912B1 (ko) | 시료관찰방법과 장치 및 상기 방법과 장치를 이용한 검사방법과 장치 | |
JP2007292702A (ja) | 試料検査装置及び試料検査方法並びに試料検査システム | |
KR101843042B1 (ko) | 반도체 기판 검사 장비 및 이를 이용한 반도체 기판 검사 방법 | |
US20060011868A1 (en) | Method and apparatus for sample formation and microanalysis in a vacuum chamber | |
JP4769828B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2008016249A (ja) | 試料保持体、試料検査方法及び試料検査装置並びに試料検査システム | |
JP2006252995A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
US20130146765A1 (en) | Charged Particle Beam Device and Sample Observation Method | |
JP2007180403A5 (ja) | ||
JP4654216B2 (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
JP2008171774A (ja) | 電子顕微鏡 | |
US9966223B2 (en) | Device for correlative scanning transmission electron microscopy (STEM) and light microscopy | |
JP2020140961A (ja) | マルチビーム走査透過荷電粒子顕微鏡 | |
JP2010009943A (ja) | 電子分光器を有する透過型電子顕微鏡装置,試料ホルダ,試料台及びスペクトル像の取得方法 | |
JP2007066527A (ja) | 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 | |
JP2015177188A (ja) | マーキング装置およびマーキング方法 | |
JP7425231B2 (ja) | 試料片移設装置 | |
JP2005209645A5 (ja) | ||
Jindal et al. | SEMATECH's infrastructure for defect metrology and failure analysis to support its EUV mask defect reduction program | |
US20220193819A1 (en) | Material processing method and material processing system for performing the method | |
JP2008014631A (ja) | 真空チャンバーにおけるサンプル形成及びマイクロ分析のための方法及び装置 | |
JPH0883589A (ja) | 走査型電子顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110823 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120110 |