JP2007287187A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】第１情報記録層と第２情報記録層とを有する光情報記録媒体において、中間層の厚みを最適化することによって、第１情報記録層と第２情報記録層間のクロストークを効果的に抑圧する。
【解決手段】第１基板１８と第２基板２６と、第１基板１８上に形成された第１情報記録層２０と、第２基板２６上に形成された第２情報記録層３０とを具備し、記録及び／又は再生用のレーザ光３６が照射される方向から見て、第１情報記録層２０と第２情報記録層３０がこの順番で配置され、少なくとも第１情報記録層２０に対してレーザ光３６を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光ディスク１０Ａにおいて、第１情報記録層２０と第２情報記録層３０との間に中間層１４が介在され、中間層１４の膜厚ｔｃを３１μｍ以上、３９μｍ以下とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、レーザ光を用いて情報の書き込み（記録）や読取り（再生）が可能なヒートモード型の光情報記録媒体に関する。

従来、レーザ光により情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、１層の情報記録層を有するものや、２層の情報記録層を有するもの等がある。

１層の情報記録層を有する第１光ディスクは、表面にプリグルーブが形成された基板と、該基板の表面に沿って形成された反射層と、該反射層上に形成された情報記録層と、該情報記録層上に形成された保護層とを有する。

２層の情報記録層を有する第２光ディスクは、表面に第１プリグルーブが形成された基板と、該基板の表面の凹凸に沿って形成された薄い反射層と、該薄い反射層上に形成された第１情報記録層と、該第１情報記録層上に形成され、且つ、表面に凹凸が形成された中間層と、該中間層の表面の凹凸に沿って形成された第２情報記録層と、該第２情報記録層上に形成された反射層と、該反射層上に形成された保護層とを有する（例えば特許文献１〜３参照）。反射層は、中間層の凹凸に沿って形成され、これにより、該反射層の凹凸は、第２情報記録層の第２プリグルーブとして機能することになる。

上述した第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブには、アドレス検知のためのアドレスピットが形成されるほか、スピンドルモータのサーボ制御、ピックアップのトラッキング制御やフォーカス制御を行うためのサーボ用プリピットが形成される。

特開２００５−４８０８号公報 特開平１０−２８３６８２号公報 特開平８−２０３１２５号公報

ところで、第１情報記録層に記録されたピットデータを読み取る場合、ピックアップからレーザ光を第１情報記録層に照射することによって行われる。このとき、レーザ光は、第１情報記録層に記録されたピットデータによって変調され、第１反射層にて反射されて、戻り光としてピックアップにて入射することになる。従って、ピックアップにおいて、前記戻り光から変調成分を取り出すことによって第１情報記録層に記録されたピットデータが読み取られることになる。

しかし、第１反射層の厚みが薄いことから、第１情報記録層に照射したレーザ光の一部が第１反射層を透過し、その透過したレーザ光が第２情報記録層に記録されたピットデータによって変調されて反射し（折り返し）、この反射した光が、余分な戻り光としてピックアップにて入射することになる。この場合、第１情報記録層に記録されたピットデータにて変調された正規の戻り光に、第２情報記録層に記録されたピットデータにて変調された余分な戻り光が混入し、いわゆるクロストークが発生することとなる。

そこで、第１情報記録層と第２情報記録層との間に中間層を介在させることにより、上述したクロストークを抑圧するようにしているが、中間層の最適な厚みについて十分に検討されていないのが現状である。

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、第１情報記録層と第２情報記録層とを有する光情報記録媒体において、中間層の厚みを最適化することによって、上述したクロストークを効果的に抑圧することができる光情報記録媒体を提供することを目的とする。

第１の本発明に係る光情報記録媒体は、第１基板と第２基板と、前記第１基板上に形成された第１記録層と、前記第２基板上に形成された第２記録層とを具備し、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第１記録層と前記第２記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第１記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体において、前記第１記録層と前記第２記録層との間に中間層が介在され、前記中間層の膜厚は、３１〜３９μｍであることを特徴とする。

また、第２の本発明に係る光情報記録媒体は、第１基板と第２基板と、前記第１基板上に形成された第１記録層と、前記第２基板上に形成された第２記録層とを具備し、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第１記録層と前記第２記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第１記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体において、前記第１記録層と前記第２記録層との間に中間層が介在され、前記中間層の膜厚は、前記レーザ光を少なくとも前記第１記録層に集光する対物レンズの開口数に応じた膜厚に設定されていることを特徴とする。

これら第１及び第２の本発明においては、第１情報記録層と第２情報記録層とを有する光情報記録媒体において、中間層の厚みを最適化することによって、上述したクロストークを効果的に抑圧することができる。

そして、第２の本発明において、前記対物レンズの開口数が０．６５であり、前記中間層の膜厚が３１〜３９μｍであってもよい。

また、第１及び第２の本発明において、前記第１記録層が形成された前記第１基板と、前記第２記録層が形成された前記第２基板とが、前記第１記録層と前記第２記録層が対向するようにして、前記中間層を介して貼り合わされて構成されていてもよい。

また、第１及び第２の本発明において、前記第１基板上に前記第１記録層、前記中間層、前記第２記録層、前記第２基板がこの順番で積層されて構成されていてもよい。

また、第１及び第２の本発明において、前記中間層は、粘着剤又は接着剤を含有していてもよい。

また、第１及び第２の本発明において、前記記録及び／又は再生用のレーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を少なくとも前記第１記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記第１基板の端面から前記第１記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであってもよい。

以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体によれば、第１情報記録層と第２情報記録層とを有する光情報記録媒体において、中間層の厚みを最適化することによって、上述したクロストークを効果的に抑圧することができる。

以下、本発明に係る光情報記録媒体の実施の形態例を図１〜図８を参照しながら説明する。

まず、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａは、図１に示すように、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとが中間層１４を介して貼り合わされた構成を有する。

第１記録媒体部１２Ａは、表面に第１プリグルーブ１６が形成された第１基板１８を有する。そして、図２に示すように、第１基板１８の表面には、第１プリグルーブ１６の凹凸に沿って第１情報記録層２０が形成され、該第１情報記録層２０上に厚みの薄い第１反射層２２が形成されている。

第２記録媒体部１２Ｂは、表面に第２プリグルーブ２４が形成された第２基板２６を有する。そして、図３に示すように、第２基板２６の表面には、第２プリグルーブ２４の凹凸に沿って第２反射層２８が形成され、該第２反射層２８上に第２情報記録層３０が形成され、該第２情報記録層３０上に保護層３２が形成されている。

そして、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとを貼り合わせる際に、図１に示すように、第１基板１８上に形成された第１情報記録層２０と第２基板２６上に形成された第２情報記録層３０とを対向させ、さらに、これら第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとの間に中間層１４を介在させて貼り合わせることで、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａが構成される。

第１情報記録層２０に対して情報（ピットデータ）を記録する場合は、ピックアップ３４によって、第１基板１８の端面１８ａから第１情報記録層２０に向かう方向に記録及び／又は再生用のレーザ光３６を照射し、レーザ光３６を第１情報記録層２０に結像させて情報（ピットデータ）を記録する。このとき、第１情報記録層２０のうち、第１プリグルーブ１６のグルーブ３８に対応した部分に情報が記録される。記録及び／又は再生用のレーザ光３６としては、６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、さらに好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザビームが用いられる。

特に、レーザ光３６の波長が４０５ｎｍである場合は、レーザ光３６を第１情報記録層２０に集光する対物レンズ４０の開口数が０．６５であって、第１基板１８の端面１８ａから第１情報記録層２０までの距離が０．６ｍｍに対応したものが好ましい。

第２情報記録層３０に対して情報（ピットデータ）を記録する場合は、ピックアップ３４によって、第１基板１８の端面１８ａから第２情報記録層３０に向かう方向に記録及び／又は再生用のレーザ光３６を照射し、レーザ光３６を第２情報記録層３０に結像させて情報（ピットデータ）を記録する。このとき、第２情報記録層３０のうち、第２プリグルーブ２４のランド４２に対応した部分に情報が記録される。

ところで、第１情報記録層２０に記録されたピットデータを読み取る場合、ピックアップ３４からレーザ光３６を第１情報記録層２０に照射することによって行われる。このとき、レーザ光３６は、第１情報記録層２０に記録されたピットデータによって変調され、第１反射層２２にて反射されて、戻り光としてピックアップ３４にて入射することになる。従って、ピックアップ３４において、前記戻り光から変調成分を取り出すことによって第１情報記録層２０に記録されたピットデータが読み取られることになる。

しかし、第１反射層２２の厚みが薄いことから、第１情報記録層２０に照射したレーザ光３６の一部が第１反射層２２を透過し、その透過したレーザ光３６が第２情報記録層３０に記録されたピットデータによって変調されて反射し（折り返し）、この反射した光が、余分な戻り光としてピックアップ３４にて入射することになる。この場合、第１情報記録層２０に記録されたピットデータにて変調された正規の戻り光に、第２情報記録層３０に記録されたピットデータにて変調された余分な戻り光が混入し、いわゆるクロストークが発生することとなる。

そこで、この第１の実施の形態では、中間層１４の膜厚ｔｃを３１μｍ以上、３９μｍ以下としている。

これにより、第１情報記録層２０に記録されたピットデータを読み取る際に、該第１情報記録層２０に記録されたピットデータにて変調された正規の戻り光に、第２情報記録層３０に記録されたピットデータにて変調された余分な戻り光が混入するということがなくなり、上述したクロストークの発生を抑圧することができる。

ここで、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの製造方法について図４を参照しながら説明する。

まず、図４のステップＳ１において、例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、表面に第１プリグルーブ１６を有する第１基板１８を作製する。その後、ステップＳ２において、第１基板１８を冷却した後、ステップＳ３において、第１基板１８の表面に、後に第１情報記録層２０となる色素を塗布する。例えば、色素を含む塗布液（色素塗布液）を調製し、この色素塗布液をスピンコート法によって、第１基板１８のうち、第１プリグルーブ１６が形成されている表面に塗布する。

その後、図４のステップＳ４において、色素塗布液を乾燥するためのアニール処理を行う。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理等が施される。このアニール処理によって色素塗布液が第１情報記録層２０となる。

第１情報記録層２０を形成した後、ステップＳ５において、第１情報記録層２０の表面に第１反射層２２を例えばスパッタ法にて形成する。この段階で第１記録媒体部１２Ａが完成する。

一方、図４のステップＳ１０１において、例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、表面に第２プリグルーブ２４を有する第２基板２６を作製する。その後、ステップＳ１０２において、第２基板２６を冷却した後、ステップＳ１０３において、第２基板２６の表面に、第２反射層２８を例えばスパッタ法にて形成する。

その後、ステップＳ１０４において、後に第２情報記録層３０となる色素を塗布する。例えば、色素を含む塗布液（色素塗布液）を調製し、この色素塗布液をスピンコート法によって、第２反射層２８の表面に塗布する。

その後、ステップＳ１０５において、色素塗布液を乾燥するためのアニール処理を行う。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理等が施される。このアニール処理によって色素塗布液が第２情報記録層３０となる。

そして、図４のステップＳ１０６において、第２情報記録層３０の表面に保護層３２を例えばスパッタ法にて形成する。この段階で第２記録媒体部１２Ｂが完成する。

その後、図４のステップＳ２０１において、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂを貼り合わせる。このとき、第１記録媒体部１２Ａ上に形成された第２反射層２２と第２記録媒体部１２Ｂ上に形成された保護層３２とを対向させ、さらに、これら第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとの間に中間層１４を介在させて貼り合わせる。この貼り合わせによって、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａが完成する。

次に、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂについて図１を参照しながら説明する。

この第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂは、図１に示すように、上述した第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａとほぼ同じ構成を有するが、中間層１４の膜厚ｔｃが、記録及び／又は再生用のレーザ光３６を第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０に集光する対物レンズ４０の開口数に応じた膜厚に設定されている点で異なる。

この場合、対物レンズ４０の開口数が０．６５のとき、中間層１４の膜厚ｔｃを３１μｍ以上、３９μｍ以下とすることが好ましい。

これにより、第１情報記録層２０に記録されたピットデータを読み取る際に、該第１情報記録層２０に記録されたピットデータにて変調された正規の戻り光に、第２情報記録層３０に記録されたピットデータにて変調された余分な戻り光が混入するということがなくなり、上述したクロストークの発生を抑圧することができる。

次に、第３の実施の形態に係る光ディスク１０Ｃについて図５を参照しながら説明する。

この第３の実施の形態に係る光ディスク１０Ｃは、図５に示すように、上述した第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａとほぼ同じ構成を有するが、第２基板２６の表面は平坦面で、代わりに中間層１４と保護層３２との界面に凹凸が形成され、この凹凸が第２反射層２８の表面に反映されて第２情報記録層３０の第２プリグルーブ２４として機能している点と、第２反射層２８と第２基板２６との間に接着層４６が介在されている点で異なる。

この第３の実施の形態においても、中間層１４の膜厚ｔｃを３１μｍ以上、３９μｍ以下としている。

これにより、第１情報記録層２０に記録されたピットデータを読み取る際に、該第１情報記録層２０に記録されたピットデータにて変調された正規の戻り光に、第２情報記録層３０に記録されたピットデータにて変調された余分な戻り光が混入するということがなくなり、上述したクロストークの発生を抑圧することができる。

ここで、第３の実施の形態に係る光ディスク１０Ｃの製造方法について図６を参照しながら説明する。

まず、図６のステップＳ３０１〜Ｓ３０５は、上述した図４に示すステップＳ１〜Ｓ５と同様の工程を踏むため、ここではその説明を省略する。

そして、図６のステップＳ３０５を経て、第１記録媒体部１２Ａを作製した後、ステップＳ３０６において、第１反射層２２上に中間層１４を形成する。その後、ステップＳ３０７において、第１記録媒体部１２Ａ上に形成された中間層１４に対して、スタンパを押圧して中間層１４の表面にスタンパの凹凸を転写させる。

その後、ステップＳ３０８において、中間層１４上に保護層３２を形成し、次いで、ステップＳ３０９において、保護層３２上に、後に第２情報記録層３０となる色素を塗布する。例えば、色素を含む塗布液（色素塗布液）を調製し、この色素塗布液をスピンコート法によって、保護層３２の表面に塗布する。

その後、ステップＳ３１０において、色素塗布液を乾燥するためのアニール処理を行う。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理等が施される。このアニール処理によって色素塗布液が第２情報記録層３０となる。

第２情報記録層３０を形成した後、ステップＳ３１１において、第２情報記録層３０の表面に第２反射層２８を例えばスパッタ法にて形成する。

その後、ステップＳ３１２において、第２反射層２８上に接着層４６を形成し、次いで、接着層４６上に第２基板２６を接着することにより、第２記録媒体部１２Ｂが完成すると共に、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとを有する第３の実施の形態に係る光ディスク１０Ｃが完成する。

次に、第４の実施の形態に係る光ディスク１０Ｄについて図５を参照しながら説明する。

この第４の実施の形態に係る光ディスク１０Ｄは、図５に示すように、上述した第３の実施の形態に係る光ディスク１０Ｃとほぼ同じ構成を有するが、中間層１４の膜厚ｔｃが、記録及び／又は再生用のレーザ光３６を対物レンズ４０の開口数に応じた膜厚に設定されている点で異なる。

この場合、対物レンズ４０の開口数が０．６５のとき、中間層１４の膜厚ｔｃを３１μｍ以上、３９μｍ以下とすることが好ましい。

これにより、第１情報記録層２０に記録されたピットデータを読み取る際に、該第１情報記録層２０に記録されたピットデータにて変調された正規の戻り光に、第２情報記録層３０に記録されたピットデータにて変調された余分な戻り光が混入するということがなくなり、上述したクロストークの発生を抑圧することができる。

次に、次に、第１〜第４の実施の形態に係る光ディスク１０Ａ〜１０Ｄを構成する各層の材質等について説明する。

まず、第１基板１８及び第２基板２６としては、従来の光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。

具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。

上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。

これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第１基板１８及び第２基板２６を作製することができる。

また、第１基板１８及び第２基板２６の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であり、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。

また、第１基板１８に形成される第１プリグルーブ１６並びに第２基板２６に形成される第２プリグルーブ２４のトラックピッチは、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２６０ｎｍ以上であることが特に好ましい。

第１プリグルーブ１６及び第２プリグルーブ２４の幅（半値幅）は、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２３ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、８０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、１００ｎｍ以上であることが特に好ましい。

第１プリグルーブ１６及び第２プリグルーブ２４の（溝）深さは、上限値が１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２８ｎｍ以上であることが特に好ましい。

第１プリグルーブ１６及び第２プリグルーブ２４の角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることがさらに好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましい。

なお、第１プリグルーブ１６及び第２プリグルーブ２４に関する上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。

これら第１プリグルーブ１６及び第２プリグルーブ２４の値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。

そして、例えば第１プリグルーブ１６の角度とは、第１プリグルーブ１６の溝深さをＤとした時、溝形成前の第１基板１８の表面を基準とし、その表面からＤ／１０の深さの傾斜部と、溝の最も深い個所からＤ／１０の高さの傾斜部とを結ぶ直線と、第１基板１８の面（溝部の底面）とのなす角度である。これは、第２プリグルーブ２４の角度も同様である。

また、第１〜第４の実施の形態に係る光ディスク１０Ａ〜１０Ｄが、再生専用の光ディスクである場合、上記の第１プリグルーブ１６及び第２プリグルーブ２４を形成するのと同時に、所定の情報を示すピットが形成される。

なお、第１基板１８及び第２基板２６の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。

該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。

下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。

第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０は、色素を記録物質として含有する色素型とすることが好ましい。第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物や相変化金属化合物等が挙げられる。

中でも、レーザ光３６により一回限りの情報の記録が可能な、色素型の第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０であることが好ましい。色素型の第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０は、記録波長領域に吸収を有する色素を含有していることが好ましい。当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、中でも、オキソノール色素が好ましい。オキソノール色素を含有させることで長期間にわたり安定した記録再生特性の維持を実現することができる。

色素の光学濃度は、レーザ光３６の記録波長に対して０．２４以上、０．４０以下であることが好ましい。また、色素は、レーザ光３６での記録後の反射率が、記録前の反射率よりも下がる光学特性を有することが好ましい。

ここで、第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０にて使用されるオキソノール色素について説明する。

オキソノール色素の具体例としては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｃｙａｎｉｎｅ Ｄｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、Ｊｏｈｎ＆Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、Ｌｏｎｄｏｎ、１９６４年刊に記載のもの等が挙げられる。

オキソノール色素は、該当する活性メチレン化合物とメチン源（メチン染料にメチン基を導入するために用いられる化合物）との縮合反応によって合成することができる。

この種の化合物についての詳細は、特公昭３９−２２０６９号公報、同４３−３５０４号公報、同５２−３８０５６号公報、同５４−３８１２９号公報、同５５−１００５９号公報、同５８−３５５４４号公報、特開昭４９−９９６２０号公報、同５２−９２７１６号公報、同５９−１６８３４号公報、同６３−３１６８５３号公報、同６４−４０８２７号公報、並びに英国特許第１１３３９８６号明細書、米国特許第３２４７１２７号明細書、同４０４２３９７号明細書、同４１８１２２５号明細書、同５２１３９５６号明細書、同５２６０１７９号明細書を参照することができる。また、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平１０−３０９８７１号公報、特開２００２−２４９６７４号公報にも記載されている。

オキソノール色素は、単独で用いてもよく、あるいは２種以上を併用してもよい。また、既述のオキソノール色素とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。併用する色素は、アゾ色素（金属イオンとの錯体化したものを含む）、ピロメテン色素、シアニン色素等が例として挙げられる。

色素は、熱分解温度が１００℃〜３５０℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、１５０℃〜３００℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、２００℃から３００℃の範囲にあるものが好ましい。

第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０に用いる色素（「既述のオキソノール色素」又は「既述のオキソノール色素及びこれと併用する色素」）のアモルファス膜の光学特性上、複素屈折率の係数ｎ（実部：屈性率）、ｋ（虚部：消衰係数）は、好ましくは、２．０≦ｎ≦３．０、０．００５≦ｋ≦０．３０である。さらに好ましくは、２．１≦ｎ≦２．７、０．０１≦ｋ≦０．１５である。最も好ましくは、２．１５≦ｎ≦２．５０、０．０３≦ｋ≦０．１０である。

第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０には、さらに耐光性を向上させるための種々の褪色防止剤を含有することができる。褪色防止剤の代表例としては、特開平３−２２４７９３号公報に記載の一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）もしくは（Ｖ）で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩や特開平２−３００２８７号公報や特開平２−３００２８８号公報に示されているニトロソ化合物、特開平１０−１５１８６１号公報に示されているＴＣＮＱ誘導体等を挙げることができる。

第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０の形成は、既述のオキソノール色素、さらに所望によりクエンチャ、結合剤等を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を第１基板１８の表面及び第２基板２６の表面に塗布して塗膜を形成したのち、乾燥することにより行うことができる。前記塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；シクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。

上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げることができる。

第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、既述のオキソノール色素を始めとした色素の量に対して一般に０．０１〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液の色素濃度は一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０はそれぞれ単層でも重層でもよい。第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。

次に、第１反射層２２及び第２反射層２８について説明すると、第１反射層２２及び第２反射層２８の材料である光反射性物質は、レーザ光３６に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。

これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼であり、特に好ましいものはＡｇである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは２種以上の組み合わせで、又は合金として用いてもよい。第１反射層２２及び第２反射層２８は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより第１情報記録層２０上、第２基板２６上等に形成することができる。

そして、第１反射層２２の層厚は、２〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。また、第２反射層２８の層厚は、一般には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。

次に、保護層３２は、第２情報記録層３０等を物理的及び化学的に保護する目的で設けられる。この保護層３２は、第１基板１８や第２基板２６のうち、第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０が設けられていない部分にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。

保護層３２に用いられる材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＺｎＯ−Ｇａ₂Ｏ₃等の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質；を挙げることができる。

保護層３２は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けることができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を使用する場合には、これらを適当な溶剤に溶解した塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層３２の層厚は、一般には１ｎｍ〜１０μｍの範囲にある。

次に、中間層１４は、上述したように、少なくとも第１情報記録層２０と第２情報記録層３０との間に設けられる。

中間層１４の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、感圧式両面テープ等や、ＳｉＯ₂等の無機材料等が挙げられる。また、これらの材料を単独又は混合してもよいし、一層だけではなく多層膜にして用いてもよい。このような中間層１４は、スピンコート法やキャスト法、スパッタ法により形成することができる。

また、中間層１４の材料としては、接着剤又は粘着剤を含むようにしてもよい。接着剤は、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特に、ＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。

接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、あるいはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して溶液を調製し、ディスペンサから基板表面に供給してもよい。なお、作製される光ディスクの反りを防止するために、接着剤としてのＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。

接着剤は、例えば第１記録媒体部１２Ａの貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に第２記録媒体部１２Ｂを載置した後、スピンコートにより接着剤を第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとの間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。

また、中間層１４に含まれる接着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。アクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート等を主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等とを共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分との混合比率、種類を、適宜調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。

前記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えばイソシアネート系架橋剤が挙げられる。このイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。

粘着剤は、第１記録媒体部１２Ａの貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に第２記録媒体部１２Ｂを載置した後、硬化させてもよいし、予め第２記録媒体部１２Ｂの片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該粘着剤塗膜を第１記録媒体部１２Ａの貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。

ここで、サンプル１〜１５について、中間層１４の厚みｔｃに対する第１情報記録層２０の未記録反射率を測定した実験例を説明する。
まず、サンプル１〜１５の内容は以下のとおりである。
（サンプル１〜３）
ポリカーボネート樹脂を射出成形することにより、スパイラル状の第１プリグルーブ１６（深さ１２０ｎｍ、溝幅３６５ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する厚さ０．５７５ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形し、これを第１情報記録層２０を形成するための第１基板１８とした。
その後、以下の化学式（化１）で示されるオキソノール色素と、以下の化学式（化２）で示されるオキソノール色素を９０：１０の比率で混合し、この混合色素１．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解した塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第１基板１８の第１プリグルーブ１６が形成されている面上に塗布して第１情報記録層２０を形成した。

次に、第１情報記録層２０上に、ＡｇＢｉＮｄ合金（ターゲット組成：Ａｇ＝９９．４５ａｔ％、Ｎｄ＝０．３５ａｔ％、Ｃｕ＝０．２０ａｔ％）をスパッタして層厚１３ｎｍの第１反射層２２を形成した。これにより、第１情報記録層２０を有する第１記録媒体部１２Ａを得た。

一方、ポリカーボネート樹脂を射出成形することにより、スパイラル状の第２プリグルーブ２４（深さ３０ｎｍ、ランドの幅４４０ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する厚さ０．６００ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板に成形し、これを第２情報記録層３０を形成するための第２基板２６とした。

次に、第２基板２６の第２プリグルーブ２４が形成されている面上に、ＡｇＢｉＮｄ合金（ターゲット組成：Ａｇ＝９９．４５ａｔ％、Ｎｄ＝０．３５ａｔ％、Ｃｕ＝０．２０ａｔ％）をスパッタして層厚１２０ｎｍの第２反射層２８を形成した。

さらに、上述した化学式（化１）で示されるオキソノール色素２．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解した塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第２基板２６の第２反射層２８が形成されている面上にレーザ光の最長波長λｍａｘにおける吸光度＝１．１０として塗布して第２情報記録層３０を形成した。

次いで、第２情報記録層３０上に色素保護として、ＺｎＯ−Ｇａ₂Ｏ₃（ターゲット組成：ＺｎＯ＝３０ｗｔ％、Ｇａ₂Ｏ₃＝７０ｗｔ％）をＲＦスパッタして層厚５ｎｍの保護層３２を形成した。これにより、第２情報記録層３０を有する第２記録媒体部１２Ｂを得た。

その後、紫外線硬化樹脂（ダイキュアクリアＳＤ６４０ 大日本インキ化学工業製）を接着剤として用いて、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂを貼り合わせて光ディスクを得た。この接着剤の層、すなわち、中間層１４の厚さｔｃは２５μｍであった。

（サンプル４〜７）
サンプル１において、中間層１４の厚さｔｃを３０μｍとした点以外は、サンプル１と同じである。

（サンプル８〜１１）
サンプル１において、中間層１４の厚さｔｃを３３μｍとした点以外は、サンプル１と同じである。

（サンプル１２〜１５）
サンプル１において、中間層１４の厚さｔｃを３６μｍとした点以外は、サンプル１と同じである。

（評価）
そして、これらサンプル１〜１５について第１情報記録層２０の未記録反射率を測定し、特定の基準サンプルにおける第１情報記録層２０の未記録反射率と比較した。基準サンプルは、情報記録層が単層の光ディスクであって、具体的には、サンプル１において、第２記録媒体部１２Ｂの代わりに、透明基板を貼り合せた構成を有する。

サンプル１〜１５の各測定値（第１情報記録層２０の未記録反射率）を表にまとめたものを図７に示し、各測定値をプロットしたグラフを図８に示す。なお、基準サンプルの未記録反射率は６．０％であった。

これらサンプル１〜１５の測定結果から、いずれも基準サンプルの反射率よりも高い値となっており、第２情報記録層３０からの戻り光によって第１情報記録層２０の反射率が高くなっていることがわかる。中間層１４が薄いと、第２情報記録層３０からの戻り光が強く、その影響で第１情報記録層２０の反射率が上昇し、緒特性に悪影響を及ぼすおそれがある。中間層１４を３５μｍ程度まで厚くすると、第１情報記録層２０の反射率が大幅に下がり、クロストークが激減していることがわかる。

そして、実用的なレベルとしては、反射率が７．０％以下であればいいことから、図８のグラフからもわかるように、中間層１４の厚みｔｃとして３１μｍ以上が好ましい。上限は、３６μｍを超えてもよいが、第２情報記録層３０に記録された信号の読み取りが困難になることから、３９μｍ以下が好ましい。

なお、本発明に係る光情報記録媒体は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。

第１及び第２の実施の形態に係る光ディスクを一部省略して示す断面図である。 第１及び第２の実施の形態に係る光ディスクの第１基板を第１情報記録層及び第１反射層と共に示す一部省略断面図である。 第１及び第２の実施の形態に係る光ディスクの第２基板を第２情報記録層及び第２反射層と共に示す一部省略断面図である。 第１の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程ブロック図である。 第３及び第４の実施の形態に係る光ディスクを一部省略して示す断面図である。 第３の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程ブロック図である。 サンプル１〜１５の各測定値（第１情報記録層の未記録反射率）を示す表図である。 サンプル１〜１５の各測定値（第１情報記録層の未記録反射率）をプロットして示すグラフである。

符号の説明

１０Ａ〜１０Ｄ…光ディスク １２Ａ…第１記録媒体部
１２Ｂ…第２記録媒体部 １４…中間層
１８…第１基板 ２０…第１情報記録層
２２…第１反射層 ２６…第２基板
２８…第２反射層 ３０…第２情報記録層
３４…ピックアップ ３６…レーザ光
４０…対物レンズ

Claims (7)

1. 第１基板と第２基板と、
   前記第１基板上に形成された第１記録層と、
   前記第２基板上に形成された第２記録層とを具備し、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第１記録層と前記第２記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第１記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体において、
   前記第１記録層と前記第２記録層との間に中間層が介在され、
   前記中間層の膜厚は、３１〜３９μｍであることを特徴とする光情報記録媒体。
2. 第１基板と第２基板と、
   前記第１基板上に形成された第１記録層と、
   前記第２基板上に形成された第２記録層とを具備し、記録及び／又は再生用のレーザ光が照射される方向から見て前記第１記録層と前記第２記録層がこの順番で配置され、少なくとも前記第１記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体において、
   前記第１記録層と前記第２記録層との間に中間層が介在され、
   前記中間層の膜厚は、前記レーザ光を少なくとも前記第１記録層に集光する対物レンズの開口数に応じた膜厚に設定されていることを特徴とする光情報記録媒体。
3. 請求項２記載の光情報記録媒体において、
   前記対物レンズの開口数が０．６５であり、
   前記中間層の膜厚が３１〜３９μｍであることを特徴とする光情報記録媒体。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体において、
   前記第１記録層が形成された前記第１基板と、前記第２記録層が形成された前記第２基板とが、前記第１記録層と前記第２記録層が対向するようにして、前記中間層を介して貼り合わされて構成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
5. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体において、
   前記第１基板上に前記第１記録層、前記中間層、前記第２記録層、前記第２基板がこの順番で積層されて構成されていることを特徴とする光情報記録媒体。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の光情報記録媒体において、
   前記中間層は、粘着剤又は接着剤を含有していることを特徴とする光情報記録媒体。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情報記録媒体において、
   前記記録及び／又は再生用のレーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を少なくとも前記第１記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記第１基板の端面から前記第１記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであることを特徴とする光情報記録媒体。
   
   

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