JP2007284345A - Manufacturing method and its device for glass plate for flat panel display - Google Patents

Manufacturing method and its device for glass plate for flat panel display Download PDF

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智弘 西山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an etching method uniformly bringing an etching liquid into contact with a glass surface and uniformly etching the glass surface and to provide a device used to the method. <P>SOLUTION: In the etching method, the etching of a glass plate is performed by spraying the etching liquid on the glass surface and removing the etching liquid thereafter. At this time, the etching liquid is sprayed preferably on a bottom surface of the glass plate held horizontally. The etching device is a glass etching device equipped with a supporting member supporting the glass plate, a nozzle 8 spraying the etching liquid on the glass surface and an etching liquid storing tank storing the etching liquid. In the device, the supporting member horizontally supporting the glass plate is preferable, and the nozzle 8 is so arranged as to spray the etching liquid toward the bottom surface held horizontally. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス板表面のエッチング方法、この方法に使用されるガラス板エッチング装置、フラットパネルディスプレイ用ガラス板、及び、フラットパネルディスプレイに関するものである。   The present invention relates to a method for etching a glass plate surface, a glass plate etching apparatus used for the method, a glass plate for a flat panel display, and a flat panel display.

映像を表示するためのディスプレイは、薄型化を図ることが進められている。薄型化を図ったディスプレイには、フラットパネルディスプレイ(FPD)があり、FPDには、例えば、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)がある。   A display for displaying an image is being made thinner. A thin display is a flat panel display (FPD). Examples of the FPD include an electroluminescence display (ELD), a liquid crystal display (LCD), and a plasma display (PDP).

FPDに使用されているディスプレイパネルには、ガラス板が構成部材として使用されている。図9は、FPDの一つであるELDパネルの一例を表した図である。図9(a)は、ELDパネルの斜視図であり、図9(b)は、図9(a)のE−E間断面模式図である。図9のELDパネルは、画像表示面となる透明板26の表面上にEL素子29を積層した構造をとっている。このEL素子29には、外部電源と接続するための引き出しリード27、28が接続されている。そして、EL素子29がキャップ25によって、外部から封止された構造をとっている。   In a display panel used for FPD, a glass plate is used as a constituent member. FIG. 9 is a diagram illustrating an example of an ELD panel which is one of FPDs. FIG. 9A is a perspective view of an ELD panel, and FIG. 9B is a schematic cross-sectional view taken along line EE in FIG. 9A. The ELD panel shown in FIG. 9 has a structure in which an EL element 29 is laminated on the surface of a transparent plate 26 serving as an image display surface. The EL element 29 is connected to lead leads 27 and 28 for connection to an external power source. The EL element 29 is sealed from the outside by a cap 25.

キャップ25には、金属、有機高分子やガラスを材料としたものが使用される。ガラスを使用したガラスキャップを用いて透明板26表面上のEL素子29を封止する場合、エッチングでガラス板表面に凹部を形成することによってガラスキャップを製造することが可能である。特許文献1には、ガラス板表面をエッチングすることによって、ガラスキャップを製造する方法が記載されている。
特開2004−22291号公報
The cap 25 is made of metal, organic polymer, or glass. When the EL element 29 on the surface of the transparent plate 26 is sealed using a glass cap using glass, the glass cap can be manufactured by forming a recess on the surface of the glass plate by etching. Patent Document 1 describes a method of manufacturing a glass cap by etching a glass plate surface.
JP 2004-22291 A

特許文献1に記載されているガラスキャップを製造する方法は、ガラス板表面に所定のパターンでマスキング剤を被覆した後、このガラス板をエッチング液に浸漬してマスキング剤が被覆されていないガラス板表面に凹部を形成するエッチングを行うことによってガラスキャップを製造する方法である。   The method for producing a glass cap described in Patent Document 1 is a glass plate on which the masking agent is coated with a predetermined pattern on the surface of the glass plate, and then the glass plate is dipped in an etching solution to cover the masking agent. In this method, a glass cap is manufactured by etching to form a recess on the surface.

ガラス板をエッチングする場合において、ガラス板表面に安定した凹部形成を行うには、エッチング液の温度を一定温度に制御すると共に、エッチング液内の温度分布を均一にする必要がある。エッチング液内の温度分布を均一にするためには、例えば、機械的な攪拌やエッチング液内に気泡を発生させることによって攪拌する方法がとられる。特許文献1に記載された方法をエッチング液の攪拌を行いつつ使用すれば、以下に述べるガラス表面凹部の底面曲面化およびマスキング剤が剥離する2つの問題が生じやすくなる。   In the case of etching a glass plate, in order to form a stable recess on the glass plate surface, it is necessary to control the temperature of the etching solution to a constant temperature and make the temperature distribution in the etching solution uniform. In order to make the temperature distribution in the etching solution uniform, for example, mechanical stirring or a method of stirring by generating bubbles in the etching solution is used. If the method described in Patent Document 1 is used while stirring the etching solution, the following two problems are likely to occur: the bottom curved surface of the glass surface recess and the masking agent peeling off.

図10は、ガラス板をエッチング液に浸漬してエッチングする場合におけるガラス表面上の変化を表す断面模式図である。図10(a)は、エッチング液にマスキング剤31が被覆されたガラス板30を浸漬してガラス板30表面に凹部分が形成される過程を表した図であり、図10(b)は、表面に凹部を形成したガラス板30を表す図である。図11は、図10の破線部分の拡大図である。図11(a)は、図10(a)の破線部分の拡大図であり、図11(b)は、図10(b)の破線部分の拡大図である。   FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a change on the glass surface when a glass plate is etched by being immersed in an etching solution. FIG. 10A is a diagram showing a process in which a concave portion is formed on the surface of the glass plate 30 by immersing the glass plate 30 coated with the masking agent 31 in the etching solution, and FIG. It is a figure showing the glass plate 30 which formed the recessed part in the surface. FIG. 11 is an enlarged view of a broken line portion of FIG. FIG. 11A is an enlarged view of the broken line part of FIG. 10A, and FIG. 11B is an enlarged view of the broken line part of FIG.

図11(a)に図示するように、マスキング剤31で表面を被覆したガラス板30をエッチング液に浸漬してガラス板30表面のエッチングを行う過程において、エッチング液の液流34は、形成途中の凹部側面を沿うように流動する。この液流34には、凹部の底面に対して垂直方向から衝突する液流がある一方で、エッチングされることのないマスキング剤が存在するために、なだらかな円弧を描くようにノ字状に流動する液流もある。   As shown in FIG. 11A, in the process of etching the surface of the glass plate 30 by immersing the glass plate 30 whose surface is coated with the masking agent 31 in the etching solution, the liquid flow 34 of the etching solution is being formed. It flows along the side surface of the recess. This liquid flow 34 has a liquid flow that collides with the bottom surface of the concave portion from the vertical direction, but since there is a masking agent that is not etched, the liquid flow 34 has a square shape so as to draw a gentle arc. There is also a flowing liquid stream.

液流34がノ字状に流動すれば、形成途中におけるガラス表面上の凹部の底部の角32近傍に存在するエッチング液は、その他のエッチング液に比べて流動が遅く、その上、エッチングによって溶解したガラス濃度が高濃度化したものとなっている。その結果、凹部の角32のエッチング速度が低下する。この速度低下は、ガラス板表面に形成される凹部の形状が曲面化する問題を生じさせることになる。   If the liquid flow 34 flows in the shape of a letter, the etching solution existing near the corner 32 at the bottom of the recess on the glass surface during the formation is slower in flow than other etching solutions and is dissolved by etching. The glass concentration is increased. As a result, the etching rate of the corner 32 of the recess is reduced. This decrease in speed causes a problem that the shape of the recess formed on the glass plate surface is curved.

一方、ガラス板30表面を被覆したマスキング剤31の剥離は、ガラス板30とマスキング剤31との間に存在する僅かな隙間33にエッチング液が進入することによって生じることになる。マスキング剤が剥離することによって、本来ならエッチングされる必要のないガラス板30の表面がエッチングされる問題を生じさせることになる。   On the other hand, the peeling of the masking agent 31 covering the surface of the glass plate 30 is caused by the etching solution entering the slight gap 33 existing between the glass plate 30 and the masking agent 31. The peeling of the masking agent causes a problem that the surface of the glass plate 30 that does not need to be etched is etched.

このように攪拌したエッチング液にガラス板を浸漬してエッチングを行った場合、凹部底面の曲面化及びマスキング剤が剥離する2つの問題が生じやすくなる。これらの問題が生じた場合、ガラス板30表面上の凹部分の形状は、予測困難な形状となってしまうので、形成される凹部の形状均一性を悪化させることになる。   When etching is performed by immersing the glass plate in the etching solution thus stirred, two problems that the bottom surface of the recess is curved and the masking agent is peeled off easily occur. When these problems occur, the shape of the concave portion on the surface of the glass plate 30 becomes a shape that is difficult to predict, so the shape uniformity of the formed concave portion is deteriorated.

ところで、LCDパネルにおいてもガラス板が使用されている。このガラス板をエッチング液に浸漬して、LCDパネルの薄型化を図ることが可能である。図12は、ガラス板をエッチング液に浸漬した場合のエッチング進行状況を表したガラス板の断面模式図である。図12(a)は、エッチング液に浸漬した直後の平坦なガラス板35を表した図であり、ガラス表面上には、エッチング液の攪拌によって生じたノ字状及び反ノ字状の液流36が流動している。図12(b)は、図12(a)のガラス板35の表面をエッチングした状態を表した図であり、ガラス板35の表面には、液流が原因で、波打った凹凸が生じることになる。つまり、エッチング液に浸漬してガラス板表面のエッチングを行った場合、LCDパネル用ガラス板に要求されるガラス板表面の平坦性が損なわれることがあるので、平坦性を損なうことを抑制したエッチング技術が提供されることが期待されている。   By the way, a glass plate is also used in the LCD panel. It is possible to reduce the thickness of the LCD panel by immersing this glass plate in an etching solution. FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of a glass plate showing the progress of etching when the glass plate is immersed in an etching solution. FIG. 12 (a) is a diagram showing a flat glass plate 35 immediately after being immersed in an etching solution. On the glass surface, a liquid flow in a letter shape and an anti-letter shape generated by stirring of the etching solution. 36 is flowing. FIG. 12B is a diagram showing a state in which the surface of the glass plate 35 in FIG. 12A is etched, and the surface of the glass plate 35 has undulating irregularities due to the liquid flow. become. In other words, when the glass plate surface is etched by immersing in an etching solution, the flatness of the glass plate surface required for the glass plate for LCD panels may be impaired. Technology is expected to be provided.

上記のような事情に鑑み、本発明の第一の目的は、ガラス表面のエッチング過程においてエッチング液をガラス表面に均一に供給し、均一なエッチングを行うことが可能なエッチング方法及びこの方法の使用に適したエッチング装置を提供することである。   In view of the circumstances as described above, a first object of the present invention is to provide an etching method capable of uniformly supplying an etching solution to the glass surface during the etching process of the glass surface and performing uniform etching, and use of this method. An etching apparatus suitable for the above is provided.

また、本発明の第二の目的は、所定のパターンでガラス板表面にマスキング剤を被覆した場合であっても、ガラス板とマスキング剤の隙間からエッチング液が進入することによってマスキング剤が剥離することを抑制することが可能なエッチング方法及びこの方法の使用に適したエッチング装置を提供することである。   In addition, the second object of the present invention is to peel off the masking agent when the etchant enters through the gap between the glass plate and the masking agent even when the masking agent is coated on the surface of the glass plate with a predetermined pattern. It is an object of the present invention to provide an etching method capable of suppressing this and an etching apparatus suitable for use of this method.

本発明は、ガラス板の表面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングするエッチング工程と、前記吹き付けたエッチング液を前記ガラス板から除去するエッチング液除去工程を備えることを特徴とするガラス板表面のエッチング方法である。エッチング液の吹き付けは、霧状のエッチング液を吹き付けることが好適である。   The present invention comprises an etching step of etching the glass plate surface by spraying an etching solution onto the surface of the glass plate, and an etching solution removing step of removing the sprayed etching solution from the glass plate. This is a surface etching method. The spray of the etching solution is preferably sprayed with a mist-like etching solution.

前記エッチング方法は、開口部を有し、かつ、ガラス板の端部を挟持固定して収納するガラス板収納ユニットに収納された前記ガラス板の表面をエッチングするものであることが好適である。このように端部が挟持固定されたガラス板収納ユニット内のガラス板をエッチングする方法によれば、ガラス板が外部接触することなくエッチングされるので、エッチング中でのガラス板の損傷を防止することができ、更には、ガラス板がガラス板収納ユニット内を移動することが防止されるので、ガラス板がガラス板収納ユニットと衝突して破損することが防止される。   It is preferable that the etching method is to etch the surface of the glass plate housed in a glass plate housing unit that has an opening and holds the end portion of the glass plate while sandwiching and fixing. According to the method of etching the glass plate in the glass plate storage unit with the end portions sandwiched and fixed in this way, the glass plate is etched without being in contact with the outside, so that the glass plate is prevented from being damaged during the etching. Furthermore, since the glass plate is prevented from moving in the glass plate storage unit, the glass plate is prevented from colliding with the glass plate storage unit and being damaged.

前記エッチング方法は、前記エッチング工程前に、ガラス板表面に所定のパターンでマスキング剤を被覆するマスキング剤被覆工程を備えるエッチング方法であっても良い。この方法を使用した場合、マスキング剤が被覆されていないガラス表面が、エッチングによって凹部となる。   The etching method may be an etching method including a masking agent coating step of coating the surface of the glass plate with a masking pattern in a predetermined pattern before the etching step. When this method is used, the glass surface which is not coated with the masking agent becomes a recess by etching.

前記エッチング工程は、前記ガラス板を略水平にし、前記ガラス板の底面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングすることが好適である。所定のパターンでマスキング剤を被覆している場合には、このマスキング剤が被覆されたガラス表面を底面として前記ガラス板を略水平にすることが好適である。また、前記ガラス板の底面の反対面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングしても良い。前記ガラス板は、真に水平にすることが好適である。   In the etching step, it is preferable to etch the glass plate surface by making the glass plate substantially horizontal and spraying an etching solution on the bottom surface of the glass plate. When the masking agent is coated in a predetermined pattern, it is preferable that the glass plate is substantially horizontal with the glass surface coated with the masking agent as the bottom surface. Further, the glass plate surface may be etched by spraying an etching solution on the opposite surface of the bottom surface of the glass plate. It is preferable that the glass plate is truly horizontal.

また前記エッチング工程は、前記ガラス板を略鉛直にし、このガラス板の表面にエッチング液を吹き付けても良い。このとき、エッチングを行うエッチング対象面にエッチング液を吹き付けると良い。   Moreover, the said etching process may make the said glass plate substantially vertical, and may spray an etching liquid on the surface of this glass plate. At this time, an etchant may be sprayed on the etching target surface to be etched.

また本発明は、ガラス板を支持可能なガラス板支持部と、前記支持部に支持されているガラス板に向けてエッチング液を噴射するエッチング液噴射ノズルと、前記エッチング液を該エッチング液の温度を制御して貯留するエッチング液貯留槽と、前記噴射されたエッチング液を回収するエッチング液回収装置を備えることを特徴とするガラス板エッチング装置である。   The present invention also provides a glass plate support portion capable of supporting a glass plate, an etching solution injection nozzle for injecting an etching solution toward the glass plate supported by the support portion, and the etching solution at a temperature of the etching solution. An etching solution storage tank that controls and stores the etching solution, and an etching solution collecting device that collects the jetted etching solution.

前記ガラス板支持部は、ガラス板を略水平に支持可能な支持部であって、前記エッチング液噴射ノズルは、前記ガラス板の下方からエッチング液を前記ガラス板の底面に向けて噴射することが好適である。さらに、前記ノズルは、前記ガラスの上方からエッチング液を前記ガラス板の底面の反対面に向けて噴射するものであっても良い。   The glass plate support portion is a support portion capable of supporting the glass plate substantially horizontally, and the etchant spray nozzle sprays the etchant from below the glass plate toward the bottom surface of the glass plate. Is preferred. Furthermore, the nozzle may spray an etching solution from above the glass toward the opposite surface of the bottom surface of the glass plate.

前記支持部は、ガラス板の端部を支持するものであることが好適である。この場合、ガラス板にエッチング液の吹き付けを行うことの阻害防止になる。また前記支持部は、ガラス板を搬送可能な搬送装置であると良い。   It is preferable that the support portion supports an end portion of the glass plate. In this case, inhibition of spraying the etching solution on the glass plate is prevented. Moreover, the said support part is good in it being a conveying apparatus which can convey a glass plate.

前記搬送装置は、搬送する方向の左右からガラス板の両端を支持する搬送ローラーであることが好適である。この搬送ローラーであれば、安定してガラス板を搬送することができ、その上、エッチング液を吹き付け可能なガラス板の表面積を最大限に確保することができる。   The transport device is preferably a transport roller that supports both ends of the glass plate from the left and right in the transport direction. If it is this conveyance roller, a glass plate can be conveyed stably and also the surface area of the glass plate which can spray an etching liquid can be ensured to the maximum.

前記搬送ローラーは、平面を有する基部とこの基部の平面径間よりも小径の略円柱形ローラーとを前記基部の平面と前記ローラーの平面で連結した形状の搬送ローラーであり、前記小径ローラーがガラス板を支持するものであることが好適である。このローラーによれば、搬送されるガラス板が左右に揺動しても、この揺動を最小限に抑えることができる。   The transport roller is a transport roller having a shape in which a base portion having a flat surface and a substantially cylindrical roller having a smaller diameter than the plane diameter of the base portion are connected by the plane of the base portion and the plane of the roller, and the small diameter roller is made of glass. It is preferable to support the plate. According to this roller, even if the glass plate to be conveyed is swung left and right, this rocking can be minimized.

また、前記ガラス板支持部は、ガラス板を略鉛直に支持可能な支持部であっても良い。この場合、ガラス板を搬送可能な搬送装置であっても良い。   The glass plate support portion may be a support portion capable of supporting the glass plate substantially vertically. In this case, the conveyance apparatus which can convey a glass plate may be sufficient.

前記回収装置は、回収したエッチング液を前記エッチング液貯留槽に送液するものであることが好ましい。また、前記回収装置は、スラッジ除去装置を一種以上備え、エッチング液中のスラッジを除去可能とすることが好適である。スラッジ除去装置としては、例えば、フィルター、フィルタープレス、液体サイクロン及び沈殿槽がある。   It is preferable that the said collection | recovery apparatus is what sends the collect | recovered etching liquid to the said etching liquid storage tank. Further, it is preferable that the recovery device includes one or more sludge removing devices so that sludge in the etching solution can be removed. Examples of the sludge removal device include a filter, a filter press, a hydrocyclone, and a sedimentation tank.

本発明は、前記エッチング方法によってエッチングしたフラットパネルディスプレイ用ガラス板である。このガラス板は、ガラス板のみからなるものだけを対象とするものではなく、ガラス表面上にフラットパネルディスプレイ構成部材を積層しているガラス板も含まれる。   This invention is the glass plate for flat panel displays etched by the said etching method. This glass plate is not intended only for a glass plate only, and includes a glass plate in which a flat panel display component is laminated on the glass surface.

また、本発明は、前記フラットパネルディスプレイ用ガラス板を使用したフラットパネルディスプレイである。   Moreover, this invention is a flat panel display which uses the said glass plate for flat panel displays.

上記構成のエッチング方法に係る発明によれば、エッチング液にガラス板を浸漬することなくガラス板表面にエッチング液を均一に吹き付けることによってエッチングを行うので、均一性の高いガラス表面のエッチングを実現することができる。ガラス板にマスキング剤が被覆されている場合には、吹き付けられているエッチング液によってマスキング剤が押圧されているので、エッチング中におけるマスキング剤の剥離が抑制される。   According to the invention relating to the etching method having the above configuration, etching is performed by spraying the etching solution uniformly on the surface of the glass plate without immersing the glass plate in the etching solution, thereby realizing highly uniform etching of the glass surface. be able to. When the masking agent is coated on the glass plate, the masking agent is pressed by the sprayed etching solution, and therefore, peeling of the masking agent during etching is suppressed.

また、上記構成のエッチング装置は、エッチング液にガラス板を浸漬することなくガラス板表面にエッチング液を均一に吹き付けることによってエッチングを行うので、高均一性のガラス表面のエッチングを実現することができるエッチング装置となる。ガラス板にマスキング剤が被覆されている場合には、エッチング液をガラス板に吹き付けることによる押圧によって、マスキング剤の剥離を抑制するエッチング装置となる。   Further, the etching apparatus having the above configuration performs etching by spraying the etching solution uniformly on the surface of the glass plate without immersing the glass plate in the etching solution, so that highly uniform etching of the glass surface can be realized. It becomes an etching apparatus. When the glass plate is coated with a masking agent, an etching apparatus that suppresses peeling of the masking agent by pressing by spraying an etching solution onto the glass plate is obtained.

本発明に係るガラス板表面のエッチング方法は、ガラス板表面に所定のパターンでマスキング剤を被覆するマスキング剤被覆工程と、前記所定のパターンでマスキング剤を被覆したガラス板表面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングするエッチング工程と、前記吹き付けたエッチング液を前記ガラス板から除去するエッチング液除去工程と、前記ガラス板表面に被覆されたマスキング剤を除去するマスキング剤除去工程を経ることによって行われる。エッチング工程におけるエッチング液の吹き付けは、ガラス板表面に対して、略垂直方向からエッチング液を吹き付けることが好ましい。   The glass plate surface etching method according to the present invention includes a masking agent coating step of coating a masking agent on the glass plate surface with a predetermined pattern, and spraying an etching solution onto the glass plate surface coated with the masking agent with the predetermined pattern. By passing through an etching step for etching the glass plate surface, an etching solution removal step for removing the sprayed etching solution from the glass plate, and a masking agent removal step for removing the masking agent coated on the glass plate surface Done. In the etching step, the etching solution is preferably sprayed from a substantially vertical direction with respect to the glass plate surface.

図2は、マスキング剤20が被覆されたガラス板19を表す図である。図2(a)は、ガラス板19の平面図であり、図2(b)は、図2(a)のA−A間断面図である。図2のガラス板19は、マスキングされていない9つの矩形開口部が所定の位置に配置するようにマスキング剤19が被覆されたものとなっている。マスキング剤20が被覆されたガラス板19表面の反対面がエッチングされないようにする必要があれば、この反対面にマスキング剤を被覆しても良く、反対面に所定の凹部パターンを形成する場合には、この凹部パターンに対応したマスキング剤の被覆を行っても良い。   FIG. 2 is a view showing the glass plate 19 coated with the masking agent 20. Fig.2 (a) is a top view of the glass plate 19, and FIG.2 (b) is sectional drawing between AA of Fig.2 (a). The glass plate 19 in FIG. 2 is coated with a masking agent 19 so that nine unmasked rectangular openings are arranged at predetermined positions. If it is necessary to prevent the opposite surface of the surface of the glass plate 19 coated with the masking agent 20 from being etched, the opposite surface may be coated with a masking agent, and a predetermined concave pattern is formed on the opposite surface. May be coated with a masking agent corresponding to the concave pattern.

マスキング剤被覆工程におけるマスキング剤の被覆は、スクリーン印刷法、ラミネートフィルム法、レジスト塗布フォトリゾ法によって行うことができる。またその他、公知のマスキング剤被覆方法を採っても良い。   The masking agent can be coated in the masking agent coating step by a screen printing method, a laminate film method, or a resist coating photolithography method. In addition, a known masking agent coating method may be employed.

スクリーン印刷法は、マスキング剤の通過する部分と通過しない部分を備えたスクリーンをガラス板表面に当接し、このスクリーンのマスキング剤が通過可能な部分からマスキング剤を押し出してガラス板表面にマスキング剤の被覆を行う方法である。ラミネートフィルム法は、片面に粘着層を有するフィルムをマスキング剤として使用し、このフィルムをガラス表面に貼り付ける方法である。レジスト塗布フォトリソ法は、フォトレジストをガラス板表面に塗布後、塗布したフォトレジストに光を照射するマスキング方法である。スクリーン印刷法を使用してマスキング剤を被覆することが好適である。   In the screen printing method, a screen having a portion through which the masking agent passes and a portion through which the masking agent does not pass is brought into contact with the surface of the glass plate, and the masking agent is extruded from the portion of the screen through which the masking agent can pass. This is a method of coating. The laminate film method is a method in which a film having an adhesive layer on one side is used as a masking agent, and this film is attached to a glass surface. The resist coating photolithography method is a masking method in which a photoresist is applied to the surface of a glass plate and then light is applied to the applied photoresist. It is preferred to coat the masking agent using a screen printing method.

エッチング工程は、マスキング剤20を被覆したガラス板19表面を底面にして、ガラス板19を略水平にし、このガラス板19の底面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングすることが好適である。略水平にしたガラス板19の底面の反対面をエッチングする場合には、この反対面にエッチング液を吹き付けても良い。   In the etching step, it is preferable to etch the glass plate surface by spraying an etching solution onto the bottom surface of the glass plate 19 with the glass plate 19 surface coated with the masking agent 20 as a bottom surface and the glass plate 19 being substantially horizontal. is there. In the case of etching the opposite surface of the bottom surface of the glass plate 19 that is made substantially horizontal, an etching solution may be sprayed on the opposite surface.

またエッチング工程は、ガラス板19を略鉛直にし、このガラス板の表面にエッチング液を吹き付けても良い。このとき、エッチングは、エッチングを行うエッチング対象面にエッチング液を吹き付けることによって行われる。   In the etching step, the glass plate 19 may be made substantially vertical, and an etching solution may be sprayed on the surface of the glass plate. At this time, the etching is performed by spraying an etching solution on the etching target surface to be etched.

エッチング工程及びエッチング液除去工程は、本発明に係るエッチング装置を使用することが好適である。図1は、本発明に係るエッチング装置の概略図である。図1のエッチング装置は、ガラス板表面のエッチングを行うエッチング室1、エッチング室1内に送液されるエッチング液を貯留するエッチング液貯留槽3、使用後のエッチング液をエッチング室1から回収するエッチング液回収装置4、エッチング液除去室2、及びエッチング液除去室2内に送液される水を貯留する水貯留槽5を備えている。   It is preferable to use the etching apparatus according to the present invention in the etching step and the etching solution removing step. FIG. 1 is a schematic view of an etching apparatus according to the present invention. The etching apparatus of FIG. 1 collects from the etching chamber 1 an etching chamber 1 that etches the glass plate surface, an etching solution storage tank 3 that stores the etching solution fed into the etching chamber 1, and an etching solution after use. An etching solution recovery device 4, an etching solution removal chamber 2, and a water storage tank 5 that stores water fed into the etching solution removal chamber 2 are provided.

エッチング室1内には、ガラス板支持部とエッチング液をガラス板に向けて噴射するエッチング液噴射ノズル8備えられている。さらにエッチング室1内の出口近傍には、エッチング液を脱液するためのエアナイフが、エッチングされたガラス板に空気を吹き付け可能なように配置されている。このエッチング室1内の底面は、ノズル8から噴射してガラス板に吹き付けられたエッチング液を効率よく回収するために傾斜した底面となっている。   In the etching chamber 1, an etching solution spray nozzle 8 that sprays a glass plate supporting portion and an etching solution toward the glass plate is provided. Further, in the vicinity of the outlet in the etching chamber 1, an air knife for removing the etching solution is arranged so that air can be blown onto the etched glass plate. The bottom surface in the etching chamber 1 is an inclined bottom surface for efficiently recovering the etching solution sprayed from the nozzle 8 and sprayed on the glass plate.

ガラス板支持部は、ガラス板を固定又は移動可能な状態で、ガラス板を支持することができるものである。このガラス板支持部は、ガラス板を略水平又は略鉛直にして支持可能なものであることが好ましく。このうち略水平にして支持できるものであることが好適である。なお、ガラス板支持部は、後述するガラス板収納ユニット6にガラス板を収納して支持可能であると良い。本実施形態におけるエッチング室内1のガラス板支持部には、ガラス板搬送装置となるガラス板を収納したガラス板収納ユニット6を水平にして搬送することが可能な搬送ローラー7が備えられている。   A glass plate support part can support a glass plate in the state which can fix or move a glass plate. The glass plate support part is preferably capable of supporting the glass plate substantially horizontally or vertically. Of these, it is preferable that the support can be made substantially horizontal. In addition, it is good for a glass plate support part to accommodate and support a glass plate in the glass plate storage unit 6 mentioned later. The glass plate support part in the etching chamber 1 in this embodiment is provided with a transport roller 7 that can transport a glass plate storage unit 6 that stores a glass plate serving as a glass plate transport device in a horizontal position.

ガラス板収納ユニット6を搬送方向の前後から搬送ローラーで支持するとガラス収納ユニット6が搬送ローラー間に落下するおそれがあり、その上、エッチング液を吹き付けることができるガラス板表面積を減少させることになるので、搬送ローラーは、ガラス板収納ユニット6の搬送方向の左右両端を支持することができるものとしている。本実施形態では、ガラス板収納ユニット6の底面端を支持しつつガラス板収納ユニット6を搬送することができるように、搬送ローラー7は、適宜な間隔をおいて配置している。この搬送ローラー7は、基部となる円柱形のローラーとこのローラーよりも小径の円柱形のローラーとを両ローラーの平面で連結した形状である。搬送ローラーを構成する2個の円柱形ローラーの中心軸は、一直線上に位置する。搬送ローラー7の小径ローラーでガラス板収納ユニット6を支持することになる。なお、本実施形態の搬送ローラー7は、ガラス収納ユニット6の底面端を支持するように配置されているが、ガラス収納ユニット6を挟持して搬送可能とするため、別の搬送ローラーをガラス収納ユニット6の底面端を支持する搬送ローラー7に対向させて設けても良い。この場合、ガラス収納ユニット6がエッチング液によって移動することを抑制することができる。   If the glass plate storage unit 6 is supported by the transfer rollers from before and after in the transfer direction, the glass storage unit 6 may fall between the transfer rollers, and the glass plate surface area on which the etching solution can be sprayed is reduced. Therefore, the conveyance roller can support the left and right ends in the conveyance direction of the glass plate storage unit 6. In the present embodiment, the transport rollers 7 are arranged at an appropriate interval so that the glass plate storage unit 6 can be transported while supporting the bottom end of the glass plate storage unit 6. The transport roller 7 has a shape in which a cylindrical roller serving as a base and a cylindrical roller having a smaller diameter than that of the roller are connected by planes of both rollers. The central axes of the two cylindrical rollers constituting the transport roller are positioned on a straight line. The glass plate storage unit 6 is supported by the small-diameter roller of the transport roller 7. In addition, although the conveyance roller 7 of this embodiment is arrange | positioned so that the bottom face end of the glass storage unit 6 may be supported, in order to pinch | interpose and convey the glass storage unit 6, another conveyance roller is glass accommodation. The unit 6 may be provided to face the conveying roller 7 that supports the bottom end of the unit 6. In this case, it can suppress that the glass storage unit 6 moves with an etching liquid.

エッチング液噴射ノズル8は、エッチング液を霧状に噴射することが可能なノズルを選択すると良く、エッチング液だけを噴射する一流体ノズル又はエッチング液と気体を混合した後にこれを噴射する二流体ノズルの何れを使用しても良い。   The etchant spray nozzle 8 may be selected from a nozzle capable of spraying the etchant in a mist form. One-fluid nozzle for spraying only the etchant or a two-fluid nozzle for spraying the etchant and gas after mixing them Either of these may be used.

ノズル8の配置は、搬送されているガラス板の下方からエッチング液をガラス板に向けて噴射可能なように配置されている。このノズルの配置は、ガラス板表面に対して略垂直方向からエッチング液がガラス板表面に吹き付けられるように配置されることが好ましい。そして、ガラス板のエッチング対象面全体にエッチング液を均一に吹き付けることができるように、ノズル8は、適宜配置されている。なお、ノズル8を搬送しているガラス板の上方からも噴射することができるように配置しても良く、略鉛直にしてガラス板を支持又は搬送する場合には、このガラス板の表面にエッチング液が均一に吹き付けられるようにノズル8の配置位置を変更しても良い。また、ノズル8をガラス板表面と平行に往復可動可能にして設けても良い。   The arrangement of the nozzle 8 is arranged so that the etching solution can be sprayed toward the glass plate from below the glass plate being conveyed. The nozzles are preferably arranged so that the etching solution is sprayed onto the glass plate surface from a direction substantially perpendicular to the glass plate surface. And the nozzle 8 is suitably arrange | positioned so that etching liquid can be sprayed uniformly on the whole etching object surface of a glass plate. The nozzle 8 may be arranged so that it can be sprayed from above the glass plate that is transporting. When the glass plate is supported or transported substantially vertically, etching is performed on the surface of the glass plate. You may change the arrangement position of the nozzle 8 so that a liquid may be sprayed uniformly. Further, the nozzle 8 may be provided so as to be reciprocally movable in parallel with the glass plate surface.

ノズル8は、エッチング液貯留槽3と配管で接続される。このノズル8とエッチング液貯留槽3との配管途中には、エッチング液貯留槽3内のエッチング液をノズル8へ送液するためのポンプ9が備えられている。   The nozzle 8 is connected to the etching solution storage tank 3 by piping. A pump 9 for feeding the etching solution in the etching solution storage tank 3 to the nozzle 8 is provided in the middle of the piping between the nozzle 8 and the etching solution storage tank 3.

エッチング液貯留槽3には、エッチング液貯留槽3内のエッチング液に生じたスラッジを除去するための貯留エッチング液内スラッジ除去装置となるポンプ11及びフィルター12が備えられている。なお、フィルター12は、スラッジを除去するものであるため、同じくスラッジを除去することが可能なフィルター、フィルタープレス、液体サイクロン及び沈殿槽等のスラッジ除去装置から一種以上を選択して、フィルター12と置換しても良い。   The etchant storage tank 3 is provided with a pump 11 and a filter 12 that serve as a stored etchant sludge removal device for removing sludge generated in the etchant in the etchant storage tank 3. Since the filter 12 removes sludge, one or more kinds of sludge removing devices such as a filter, a filter press, a hydrocyclone, and a sedimentation tank that can remove sludge are selected, and the filter 12 It may be replaced.

エッチング液貯留槽3には、さらに、エッチング液貯留槽3内部のエッチング液を攪拌可能な攪拌装置10が備えられている。そして、図示されていないエッチング液の温度を制御して一定に保つためのエッチング液の加熱装置及び冷却装置が備えられている。エッチング液の温度を一定に保つことによって、ガラス表面のエッチング速度を安定化させる。   The etching solution storage tank 3 is further provided with a stirring device 10 capable of stirring the etching solution inside the etching solution storage tank 3. Further, an etching solution heating device and a cooling device for controlling the temperature of the etching solution (not shown) to keep them constant are provided. By keeping the temperature of the etching solution constant, the etching rate of the glass surface is stabilized.

ポンプ11及びフィルター12は、エッチング液を循環可能とするため、配管と共に、エッチング液貯留槽3に外設されている。貯留槽3内のエッチング液は、ポンプ11によって吸引及びフィルター12に向けて送液され、フィルター12を通じた後に貯留槽3に流入される。このようにエッチング液をフィルター12に通じさせることによって、エッチング貯留槽3内で事後的に析出したスラッジの除去を可能とする。   The pump 11 and the filter 12 are provided outside the etching solution storage tank 3 together with piping so that the etching solution can be circulated. The etching solution in the storage tank 3 is sucked and sent to the filter 12 by the pump 11, and flows into the storage tank 3 after passing through the filter 12. By allowing the etching solution to pass through the filter 12 in this way, it is possible to remove sludge that has been deposited in the etching reservoir 3 later.

エッチング液貯留槽3には、ガラス溶解性の薬品を含有する水溶液がエッチング液として貯留されている。ガラス溶解性の薬品には、フッ化物を含有する水溶液を使用すると良く、フッ化物としては、フッ化水素、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムが例示される。またエッチング液に無機酸及び/又は有機酸を含有させても良い。無機酸としては、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸等から一種又は二種以上を選択すると良く、有機酸としては、酢酸、コハク酸等から一種又は二種以上を選択すると良い。さらにエッチング液には、陰イオン系界面活性剤及び両性界面活性剤のうち一種以上添加しても良い。陰イオン系界面活性剤としては、スルホン酸塩系界面活性剤が例示される。両性界面活性剤としては、例えば、アミン系界面活性剤がある。このエッチング液は、10〜50℃の温度範囲における一定温度に保たれている。   In the etching solution storage tank 3, an aqueous solution containing a glass-soluble chemical is stored as an etching solution. An aqueous solution containing a fluoride may be used as the glass-soluble chemical, and examples of the fluoride include hydrogen fluoride, ammonium fluoride, potassium fluoride, and sodium fluoride. Further, the etching solution may contain an inorganic acid and / or an organic acid. As the inorganic acid, one or more kinds may be selected from hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid and the like, and as the organic acid, one kind or two kinds or more may be selected from acetic acid, succinic acid and the like. Further, one or more of an anionic surfactant and an amphoteric surfactant may be added to the etching solution. Examples of the anionic surfactant include sulfonate surfactants. Examples of amphoteric surfactants include amine surfactants. This etching solution is kept at a constant temperature in a temperature range of 10 to 50 ° C.

エッチング液回収装置4は、エッチング液をエッチング室1から送液するためのポンプ13、開閉弁15a、15b及びフィルター14a、14bが配管によって接続されたものである。この配管の一端は、エッチング室1の底部に接続される。配管の他の一端は、エッチング液貯留槽3又は図示されていないエッチング液回収槽に接続され、本実施形態では、エッチング液貯留槽3に接続している。ポンプ13、開閉弁14及びフィルター15は、エッチング室1側からこの順序で配置されている。このエッチング装置によって、エッチング室1内のエッチング液をエッチング液貯留槽に送液回収する際に、このエッチング液内のスラッジをフィルター15a、15bで除去することができる。   The etching solution recovery device 4 is a device in which a pump 13 for sending an etching solution from the etching chamber 1, open / close valves 15a and 15b, and filters 14a and 14b are connected by piping. One end of this pipe is connected to the bottom of the etching chamber 1. The other end of the pipe is connected to the etching solution storage tank 3 or an etching solution recovery tank (not shown), and is connected to the etching solution storage tank 3 in this embodiment. The pump 13, the on-off valve 14, and the filter 15 are arranged in this order from the etching chamber 1 side. With this etching apparatus, when the etching solution in the etching chamber 1 is sent and collected to the etching solution storage tank, sludge in this etching solution can be removed by the filters 15a and 15b.

エッチング装置における開閉弁及びフィルターは、複数の開閉弁及びフィルターが備えられ、本実施形態では、各2個の開閉弁15a、15b、フィルター14a、14bが備えられている。開閉弁15a、15b及びフィルター14a、14bは、一方の開閉弁15aと一方のフィルター14aが直列に接続され、他の開閉弁15bと他のフィルター14bが直列に接続されている。さらに、直列に接続された開閉弁15a及びフィルター14a並びに開閉弁15b及びフィルター14bは、並列に接続されている。本実施形態におけるエッチング装置を使用する場合、一方の開閉弁が開放されているときには、他方の開閉弁は閉鎖された状態で使用されるようにしている。そのため、エッチング室1内のエッチング液回収を中断なく行うことを可能としている。   The on-off valves and filters in the etching apparatus are provided with a plurality of on-off valves and filters. In this embodiment, two on-off valves 15a and 15b and filters 14a and 14b are provided. The on-off valves 15a and 15b and the filters 14a and 14b have one on-off valve 15a and one filter 14a connected in series, and the other on-off valve 15b and another filter 14b connected in series. Furthermore, the on-off valve 15a and the filter 14a connected in series, and the on-off valve 15b and the filter 14b are connected in parallel. When the etching apparatus according to this embodiment is used, when one of the on-off valves is open, the other on-off valve is used in a closed state. For this reason, the etching solution in the etching chamber 1 can be recovered without interruption.

なお、エッチング液回収装置4に使用されているフィルターは、使用後のエッチング液内に存在するスラッジを除去するものであるので、このフィルターを他のスラッジ除去装置と置換しても良い。スラッジ除去装置としては、例えば、フィルター、フィルタープレス、液体サイクロン及びスラッジ沈殿槽がある。   Since the filter used in the etching solution recovery device 4 removes sludge present in the used etching solution, this filter may be replaced with another sludge removal device. Examples of the sludge removal device include a filter, a filter press, a hydrocyclone, and a sludge settling tank.

エッチング液除去室2には、エッチング室1から搬出されたガラス板収納ユニット6を水平にして搬送することが可能な搬送ローラー18が備えられている。また、搬送されているガラス板搬送ユニット6の上下から水を噴射して洗浄するためのノズル16が、ガラス板搬送ユニット6及びこのユニット内のガラス板に、均一に水を拭き付けられるように適宜配置されている。エッチング液除去室2内の底部は、ノズル16から噴射してガラス板に吹き付けられた水を効率よく回収するために傾斜した底部となっている。   The etchant removal chamber 2 is provided with a transport roller 18 that can transport the glass plate storage unit 6 unloaded from the etch chamber 1 in a horizontal position. Moreover, the nozzle 16 for injecting and cleaning water from the upper and lower sides of the glass plate conveyance unit 6 being conveyed can wipe the water uniformly on the glass plate conveyance unit 6 and the glass plate in the unit. Arranged appropriately. The bottom portion in the etching solution removal chamber 2 is an inclined bottom portion for efficiently collecting water sprayed from the nozzle 16 and sprayed onto the glass plate.

エッチング液除去室2内の搬送ローラー18は、ガラス板収納ユニット6の搬送方向の左右両端を支持することができるものである。この搬送ローラー18は、収納ユニット6の底面から支持することが可能な配置がとられる。また、エッチング室1内の搬送ローラーと同様に、ガラス板収納ユニット6の端の上下を挟持しつつガラス板収納ユニット6を搬送することができるように、上下に対向して適宜な間隔をおいて搬送ローラーを配置していても良い。   The conveyance rollers 18 in the etching solution removal chamber 2 can support both left and right ends of the glass plate storage unit 6 in the conveyance direction. The transport roller 18 is arranged so as to be supported from the bottom surface of the storage unit 6. Similarly to the transport roller in the etching chamber 1, the glass plate storage unit 6 can be transported while sandwiching the top and bottom of the end of the glass plate storage unit 6 so as to face each other at an appropriate interval. And a conveyance roller may be arranged.

エッチング液除去室2内のノズル16は、水貯留槽5と配管で接続されている。このノズル16と水貯留槽5との配管途中には、水貯留槽5内のエッチング液をノズル16へ送液するためのポンプ17が備えられている。   The nozzle 16 in the etching solution removal chamber 2 is connected to the water storage tank 5 by piping. A pump 17 for feeding the etching solution in the water storage tank 5 to the nozzle 16 is provided in the middle of the piping between the nozzle 16 and the water storage tank 5.

上記エッチング装置を使用して、ガラス板表面のエッチング及びガラス板からのエッチング液の除去が行われる。ガラス板表面のエッチングは、前記マスキング剤を施したガラス板を上記ガラスエッチング装置のエッチング室1内を搬送させることによって行われる。一方、ガラス板からのエッチング液の除去は、エッチング室1内を搬送した後のガラス板収納ユニット6を、エッチング液除去室2内を搬送させることによって行われる。本実施形態では、ガラス板収納ユニット6に収納したガラス板をエッチング室1及びエッチング液除去室2内を搬送することによってガラス板表面のエッチング及びガラス板からのエッチング液の除去が行われる。   Etching of the glass plate surface and removal of the etchant from the glass plate are performed using the etching apparatus. Etching of the glass plate surface is performed by transporting the glass plate to which the masking agent has been applied in the etching chamber 1 of the glass etching apparatus. On the other hand, the removal of the etching solution from the glass plate is performed by transporting the inside of the etching solution removal chamber 2 by the glass plate storage unit 6 after the inside of the etching chamber 1 is transported. In the present embodiment, the glass plate stored in the glass plate storage unit 6 is transported through the etching chamber 1 and the etchant removal chamber 2 to etch the surface of the glass plate and remove the etchant from the glass plate.

図3は、図2のマスキング剤20が被覆されたガラス板19を収納したガラス板収納ユニット6を説明するための図である。図3(a)は、図2のマスキング剤20が被覆されたガラス板19を収納したガラス板収納ユニット6の分解図であり、図3(b)は、図3(a)に示すガラス板収納ユニット6の容体6bのB−B間断面図である。ガラス板収納ユニット6は、マスキング剤20が被覆されたガラス板19の底部よりもやや大きな底部を有し、かつ、底部に開口部6cを有する容体6bと、この容体6bにガラス板19を収容した後にガラス板19を固定するための押さえ板6aからなる。この収納ユニット6に収納された状態でガラス板19が搬送ローラー7によって搬送され、ガラス板19の表面が搬送ローラー7に接することがないので、ガラス板19表面の損傷が防止される。また、容体6bにガラス板19を収容した後に押え板6aによってガラス板19の端部が挟持固定されるので、ガラス板6がガラス板収納ユニット6内で動じることが防止されることになり、その結果、ガラス板19の端部の破損も防止されることになる。   FIG. 3 is a view for explaining the glass plate storage unit 6 in which the glass plate 19 coated with the masking agent 20 of FIG. 2 is stored. 3A is an exploded view of the glass plate storage unit 6 that stores the glass plate 19 coated with the masking agent 20 of FIG. 2, and FIG. 3B is the glass plate shown in FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of the container 6b of the storage unit 6 between BB. The glass plate storage unit 6 has a container 6b having a bottom slightly larger than the bottom of the glass plate 19 coated with the masking agent 20 and having an opening 6c at the bottom, and the glass plate 19 is stored in the container 6b. After that, it consists of a pressing plate 6a for fixing the glass plate 19. Since the glass plate 19 is conveyed by the conveyance roller 7 in the state of being accommodated in the storage unit 6 and the surface of the glass plate 19 is not in contact with the conveyance roller 7, damage to the surface of the glass plate 19 is prevented. Moreover, since the edge part of the glass plate 19 is clamped and fixed by the holding plate 6a after accommodating the glass plate 19 in the container 6b, it will be prevented that the glass plate 6 moves within the glass plate storage unit 6, As a result, breakage of the end portion of the glass plate 19 is also prevented.

容体6bの底部の開口部6cは、マスキング剤が被覆されていないガラス板19の表面にエッチング液を吹き付け可能とするため、容体6bの底部を格子状の形状をとることによって形成されている。本実施形態では、マスキング剤19が被覆されていない部分がガラス板19表面上に9つ存在するため、容体6bの底面の開口部6cは、9つ均等に配置している。なお、ガラス板表面にマスキング剤20を被覆せずにガラス板表面のエッチングを行う場合、開口部6cは、ガラス板を支持することが可能な程度に、容体6b底面に広く設けられていれば良い。   The opening 6c at the bottom of the container 6b is formed by taking a lattice-like shape at the bottom of the container 6b so that the etching solution can be sprayed onto the surface of the glass plate 19 that is not coated with the masking agent. In the present embodiment, since there are nine portions on the surface of the glass plate 19 that are not covered with the masking agent 19, the nine openings 6c on the bottom surface of the container 6b are arranged uniformly. In addition, when etching the glass plate surface without coating the masking agent 20 on the glass plate surface, the opening 6c should be widely provided on the bottom surface of the container 6b to such an extent that the glass plate can be supported. good.

押さえ板6aは、貫通した孔のない一枚板であるが、ガラス板19のマスキング剤20被覆面の反対面をエッチングする必要がある場合には、この反対面に開口部を設けても良い。   The pressing plate 6a is a single plate having no through-holes. However, when it is necessary to etch the surface opposite to the masking agent 20 covering surface of the glass plate 19, an opening may be provided on the opposite surface. .

ガラス板収納ユニット6へのガラス板19の収納は、容体6bに、マスキング剤20被覆表面を底面としてガラス板19を嵌め込み、ガラス板19を押え板6aで押えることによってガラス板収納ユニットが組み立てられる。このガラス板収納ユニット6へのガラス板19の収納は、ガラス板がエッチング室1内を水平に搬送されるように行われる。   The glass plate 19 is stored in the glass plate storage unit 6 by fitting the glass plate 19 into the container 6b with the masking agent 20-coated surface as the bottom surface, and pressing the glass plate 19 with the holding plate 6a. . The glass plate 19 is stored in the glass plate storage unit 6 so that the glass plate is conveyed horizontally in the etching chamber 1.

ガラス板は、次の動作が生じているエッチング装置のエッチング室1及びエッチング液除去室2内をガラス収納ユニット6が搬送されている間に、エッチング及びエッチング液の除去が行われる。   The glass plate is etched and removed while the glass storage unit 6 is transported through the etching chamber 1 and the etching solution removal chamber 2 of the etching apparatus in which the following operation occurs.

エッチング液貯留槽3に貯留されている一定温度に保たれたエッチング液がポンプ9によってエッチング室1内のノズル8に供給される。エッチング液が供給されたノズル8は、エッチング液をガラス板表面に対して略垂直、かつ、均一に吹き付ける。吹き付けられた後のエッチング液は、エッチング室1底部に集まり、この集まったエッチング液は、エッチング液回収装置4のポンプ13によってエッチング室1内から吸引され、ポンプ13から吐出したエッチング液はフィルター14a又は14bを通過した後、エッチング液貯留槽3に送液される。   The etching liquid kept at a constant temperature stored in the etching liquid storage tank 3 is supplied to the nozzle 8 in the etching chamber 1 by the pump 9. The nozzle 8 to which the etching solution is supplied sprays the etching solution substantially perpendicularly to the glass plate surface and uniformly. The etchant after spraying gathers at the bottom of the etching chamber 1, the collected etching solution is sucked from the etching chamber 1 by the pump 13 of the etching solution recovery device 4, and the etching solution discharged from the pump 13 is filtered by the filter 14 a. Alternatively, after passing through 14b, the solution is sent to the etching solution storage tank 3.

水貯留槽5に貯留された水は、ポンプ17を通じてノズル16に供給される。供給された水は、ノズル16からガラス板に向けて吹き付けられる。吹き付けられた後の水は、エッチング液除去室2の底部に集まり、この底部に集まった水は、エッチング液除去室2の底部に設けられた弁を開放することによってエッチング液除去室から排出される。   The water stored in the water storage tank 5 is supplied to the nozzle 16 through the pump 17. The supplied water is sprayed from the nozzle 16 toward the glass plate. The sprayed water collects at the bottom of the etchant removal chamber 2, and the water collected at the bottom is discharged from the etchant removal chamber by opening a valve provided at the bottom of the etchant removal chamber 2. The

図4は、ガラス板収納ユニット6が搬送ローラー7によってガラスエッチング室内を搬送される状態を表した平面図である。図5は、図4のC−C間断面模式図である。ガラス板収納ユニット6は、その底面が搬送ローラー7の小径の円柱形ローラーに支持されながら搬送される。このとき、ガラス板収納ユニット6が進行方向の左右に揺動することは、小径の円柱形ローラーに連結した円柱形ローラーがその左右の揺動範囲を制限することになるので、抑制されることになる。
また、ガラス板収納ユニット6が水平にして搬送することに伴い、ユニット6内のガラス板19も水平にして搬送される。搬送速度は、ガラス表面のエッチング量がガラス表面とエッチング液との接触時間に関係するため、目的とするガラス表面のエッチング量によって適宜変更されることになる。ガラス収納ユニット6は、エッチング室1内を搬送された後に、続いてエッチング液除去室2に搬送されることによって、エッチング液が除去されることになる。
FIG. 4 is a plan view illustrating a state in which the glass plate storage unit 6 is transported in the glass etching chamber by the transport roller 7. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line CC in FIG. The glass plate storage unit 6 is conveyed while its bottom surface is supported by a small-diameter cylindrical roller of the conveyance roller 7. At this time, it is suppressed that the glass plate storage unit 6 swings to the left and right in the traveling direction because the cylindrical roller connected to the small-diameter cylindrical roller restricts the swing range of the left and right. become.
Further, as the glass plate storage unit 6 is transported horizontally, the glass plate 19 in the unit 6 is transported horizontally. Since the etching amount on the glass surface is related to the contact time between the glass surface and the etching solution, the conveyance speed is appropriately changed depending on the target etching amount on the glass surface. After the glass storage unit 6 is transported through the etching chamber 1, the glass storage unit 6 is subsequently transported to the etchant removal chamber 2, whereby the etching solution is removed.

図6は、ガラス板19表面がエッチングされる過程を説明するための図である。図6(a)は、図2(b)のマスキング剤20が被覆されたガラス板19の上下を逆にした図である。このガラス板19は、エッチング前の表面形状をとっている。   FIG. 6 is a diagram for explaining a process in which the surface of the glass plate 19 is etched. FIG. 6A is a diagram in which the glass plate 19 covered with the masking agent 20 of FIG. 2B is turned upside down. The glass plate 19 has a surface shape before etching.

図6(b)は、マスキング剤20が被覆されたガラス板20にエッチング液が吹き付けられている状態を示した図である。マスキング剤20が被覆されていないガラス板19の表面にエッチング液を吹き付けることによって、エッチングされ、ガラス板表面19の表面には、凹状部分が形成する。図7は、図6の破線部分の拡大図である。ガラス板19にエッチング液の吹き付け22が行われているので、形成される凹部の角にまでエッチング液が行き渡り、凹部底面の曲面化が抑制された凹部形成が可能となる。また、ガラスとエッチング液との反応によって生じたスラッジが、形成される凹状部分に付着しても即座に除去されることになる。また、ガラス板19とマスキング剤20の隙間21があっても、マスキング剤20がエッチング液の吹き付け22によって押さえつけられることになり、隙間21にエッチング液が侵入して隙間21の拡大を抑制するので、マスキング剤20の剥離が抑制される。   FIG. 6B is a view showing a state where an etching solution is sprayed on the glass plate 20 coated with the masking agent 20. Etching is performed by spraying an etching solution on the surface of the glass plate 19 that is not coated with the masking agent 20, and a concave portion is formed on the surface of the glass plate surface 19. FIG. 7 is an enlarged view of a broken line portion of FIG. Since the etching liquid is sprayed 22 on the glass plate 19, the etching liquid reaches the corners of the concave portions to be formed, and the concave portions can be formed in which the curved bottom surface of the concave portions is suppressed. Moreover, even if the sludge generated by the reaction between the glass and the etching solution adheres to the concave portion to be formed, it is immediately removed. Even if there is a gap 21 between the glass plate 19 and the masking agent 20, the masking agent 20 is pressed by the spray 22 of the etching solution, and the etching solution enters the gap 21 and suppresses the expansion of the gap 21. , Peeling of the masking agent 20 is suppressed.

図6(c)は、ガラス板19表面のエッチング終了後、エッチング液を除去及びマスキング剤20を除去したガラス板19を表す図である。   FIG. 6C is a view showing the glass plate 19 from which the etching solution is removed and the masking agent 20 is removed after the etching of the surface of the glass plate 19 is completed.

上記のようにエッチングしたガラス板19を、所定の切断パターンで切断して、ELDパネルのガラスキャップに使用することができる。また、このガラスキャップを使用したELDパネルを使用してELDを製造する事が可能である。   The glass plate 19 etched as described above can be cut with a predetermined cutting pattern and used for a glass cap of an ELD panel. Moreover, it is possible to manufacture ELD using the ELD panel using this glass cap.

上記の実施形態では、ガラス板表面にマスキング剤を被覆した実施形態を示したものであるが、ガラス板にマスキング剤を被覆していない場合であっても良い。なお、マスキング剤が被覆されていないガラス板は、LCDパネルやPDPパネルに使用することができる。   In the above embodiment, an embodiment in which the masking agent is coated on the glass plate surface is shown, but the glass plate may not be coated with the masking agent. In addition, the glass plate which is not coat | covered with a masking agent can be used for an LCD panel or a PDP panel.

図8は、マスキング剤が被覆されていないガラス板24を収納したガラス板収納ユニット23を説明するための図である。図8(a)は、ガラス板24を収納したガラス板収納ユニット23の分解図であり、図8(b)は、図8(a)に示すガラス板収納ユニット23の容体23bのD−D間断面図である。LCDパネルやPDPパネルに使用することができるガラス板は、例えば、図8に示したガラス板収納ユニットを使用してエッチングされる。ガラス板収納ユニット23は、図3に示した収納ユニット6と同じく、ガラス板24を収容できる容体23bと、この容体23bに収容されたガラス板24を押さえる押さえ板23aからなる。容体23bには、エッチング液をガラス板に吹き付けることができるように、開口部23cが設けられている。図8に示した収納ユニット23は、容体23bの開口部23cの形状が単一の矩形となっていることのみ図3に示した収納ユニット6と異なり、これ以外の点については、図3に示した収納ユニットと異なるところはない。   FIG. 8 is a view for explaining a glass plate storage unit 23 that stores a glass plate 24 that is not coated with a masking agent. Fig.8 (a) is an exploded view of the glass plate storage unit 23 which accommodated the glass plate 24, FIG.8 (b) is DD of the container 23b of the glass plate storage unit 23 shown to Fig.8 (a). FIG. A glass plate that can be used for an LCD panel or a PDP panel is etched using, for example, a glass plate storage unit shown in FIG. Similar to the storage unit 6 shown in FIG. 3, the glass plate storage unit 23 includes a container 23 b that can store the glass plate 24 and a pressing plate 23 a that presses the glass plate 24 stored in the container 23 b. The container 23b is provided with an opening 23c so that an etching solution can be sprayed onto the glass plate. The storage unit 23 shown in FIG. 8 is different from the storage unit 6 shown in FIG. 3 only in that the shape of the opening 23c of the container 23b is a single rectangle. There is no difference from the storage unit shown.

また、上記実施形態は、ELDパネルに使用するガラスキャップを製造することに利用することができるエッチング方法であるが、マスキング剤の被覆を行うパターンに応じて、種々の形状の凹部をガラス板表面上に形成することも可能である。例えば、円柱状の凹部分をガラス表面に形成することも可能であり、この凹部分をアライメントマークとして使用することも可能である。   Moreover, although the said embodiment is an etching method which can be utilized for manufacturing the glass cap used for an ELD panel, according to the pattern which coat | covers a masking agent, the recessed part of various shapes is a glass plate surface. It is also possible to form it on top. For example, a cylindrical concave portion can be formed on the glass surface, and this concave portion can be used as an alignment mark.

以下、実施例に基づき本発明のエッチング方法によって形成される凹部について説明する。400mm×500mm×0.7mmのガラス板表面にマスキング剤を被覆した後、エッチング、エッチング液の除去、マスキング剤の除去操作を順次行うことによって、ガラス表面に凹部を形成した。マスキング剤の被覆及びエッチング操作の詳細は、以下の通りである。   Hereinafter, the recessed part formed by the etching method of this invention is demonstrated based on an Example. After covering the surface of a 400 mm × 500 mm × 0.7 mm glass plate with a masking agent, etching, removal of the etchant, and removal of the masking agent were sequentially performed to form recesses on the glass surface. Details of the masking agent coating and etching operations are as follows.

(マスキング剤の被覆)
スクリーン印刷法を使用してマスキング剤をガラスの一表面に被覆した。このとき、マスキング剤が被覆されていない矩形の部分を形成した。
(Coating with masking agent)
A masking agent was coated on one surface of the glass using a screen printing method. At this time, a rectangular portion not coated with a masking agent was formed.

(エッチング)
開口部を有する容体と押さえ板からなるガラス板収納ユニットにマスキング剤を被覆したガラス板を収納した後、マスキング剤が被覆されていない矩形部分に霧状のエッチング液を吹き付けることによってエッチングを行った。
(etching)
After storing a glass plate coated with a masking agent in a glass plate storage unit consisting of a container having an opening and a pressing plate, etching was performed by spraying a mist-like etching solution on a rectangular portion not covered with the masking agent. .

ガラス収納ユニットへのガラス板の収納は、開口部を有する容体にガラス板を収容し、押さえ板でガラス板を挟持固定することによって行った。容体へのガラス板の収容は、マスキング剤を被覆したガラス表面を、開口部側に向けて収容した。   The glass plate was stored in the glass storage unit by storing the glass plate in a container having an opening and sandwiching and fixing the glass plate with a pressing plate. The glass plate was accommodated in the container with the glass surface coated with the masking agent facing the opening.

マスキング剤が被覆されていない矩形部分への霧状エッチング液の吹き付けは、ガラス収納ユニットを水平かつ開口部が底面となるようにし、矩形部分に対してほぼ垂直にしてエッチング液を矩形部分に吹き付けた。矩形部分は、ガラス板表面が露呈しており、この露呈しているガラス板表面にエッチング液が完全に吹き付けられるようにした。   Spray the mist-like etching solution onto the rectangular part that is not covered with the masking agent by spraying the etching solution onto the rectangular part with the glass storage unit horizontal and the opening at the bottom, almost perpendicular to the rectangular part. It was. The rectangular portion is exposed on the surface of the glass plate, and the etching solution was completely sprayed on the exposed surface of the glass plate.

エッチング液の吹き付けは、エッチング液に、フッ化水素が4.0重量%、硝酸3.0%の水溶液を使用し、温度を25±1℃に保って、ノズルから3.2L/分でエッチング液を噴射することによってエッチング液の吹き付けを行った。このとき、ガラス板表面を約300μmエッチングした。   The etchant is sprayed using an aqueous solution of 4.0% by weight of hydrogen fluoride and 3.0% nitric acid as the etchant, maintaining the temperature at 25 ± 1 ° C., and etching at 3.2 L / min from the nozzle. The etching solution was sprayed by spraying the solution. At this time, the surface of the glass plate was etched by about 300 μm.

上記エッチングを行ったガラス表面には、凹部が形成されていることが目視で確認できた。また、目視で確認したところ、マスキング剤の剥離は認められず、形成された凹部の底部の角形状は、曲面化していることも確認されなかった。   It was confirmed visually that a recess was formed on the etched glass surface. Moreover, when visually confirmed, peeling of a masking agent was not recognized and it was not confirmed that the square shape of the bottom part of the formed recessed part was curving.

本発明に係るエッチング装置の概略図である。1 is a schematic view of an etching apparatus according to the present invention. マスキング剤が被覆されたガラス板を表す図である。It is a figure showing the glass plate with which the masking agent was coat | covered. 図2のマスキング剤が被覆されたガラス板を収納したガラス板収納ユニットを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the glass plate storage unit which accommodated the glass plate coat | covered with the masking agent of FIG. ガラス板収納ユニットが搬送装置によってガラスエッチング室内を搬送される状態を表した平面図である。It is a top view showing the state by which a glass plate storage unit is conveyed in a glass etching chamber by a conveying apparatus. 図4のB−B間断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram between BB of FIG. ガラス板表面がエッチングされる過程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the process in which the glass plate surface is etched. 図6の破線部分の拡大図である。It is an enlarged view of the broken-line part of FIG. マスキング剤が被覆されていないガラス板を収納したガラス板収納ユニットを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the glass plate storage unit which accommodated the glass plate which is not coat | covered with a masking agent. FPDの一つであるELDパネルの一例を表した図である。It is a figure showing an example of the ELD panel which is one of FPD. ガラス板をエッチング液に浸漬してエッチングする場合におけるガラス表面上の変化を表す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the change on the glass surface in the case of immersing and etching a glass plate in etching liquid. 図10の破線部分の拡大図である。It is an enlarged view of the broken-line part of FIG. ガラス板をエッチング液に浸漬した場合のエッチング進行状況を表したガラス板の断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the glass plate showing the etching progress at the time of immersing a glass plate in etching liquid.

符号の説明Explanation of symbols

1 エッチング室
2 エッチング液除去室
3 エッチング液貯留槽
4 エッチング液回収装置
5 水貯留槽
6、23 ガラス板収納ユニット
7、18 搬送ローラー
8、16 ノズル
9、11、13 ポンプ
12、14a、14b フィルター
15a、15b 開閉弁
19、24 ガラス板
20 マスキング剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Etching chamber 2 Etching solution removal chamber 3 Etching solution storage tank 4 Etching solution recovery device 5 Water storage tank 6, 23 Glass plate storage unit 7, 18 Transport roller 8, 16 Nozzle 9, 11, 13 Pump 12, 14a, 14b Filter 15a, 15b On-off valve 19, 24 Glass plate 20 Masking agent

Claims (18)

ガラス板の表面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングするエッチング工程と、
前記吹き付けたエッチング液を前記ガラス板から除去するエッチング液除去工程
を備えることを特徴とするガラス板表面のエッチング方法。
An etching step of etching the glass plate surface by spraying an etching solution on the surface of the glass plate;
The etching method of the glass plate surface provided with the etching-liquid removal process of removing the sprayed said etching liquid from the said glass plate.
前記エッチング方法は、開口部を有し、かつ、ガラス板の端部を挟持固定して収納するガラス板収納ユニットに収納された前記ガラス板の表面をエッチングするものである請求項1に記載のエッチング方法。   The said etching method etches the surface of the said glass plate accommodated in the glass plate storage unit which has an opening part and clamps and fixes the edge part of a glass plate, and is accommodated. Etching method. 前記エッチング工程前に、ガラス板表面に所定のパターンでマスキング剤を被覆するマスキング剤被覆工程を備える請求項1又は2に記載のエッチング方法。   The etching method of Claim 1 or 2 provided with the masking agent coating | coated process which coat | covers a masking agent with a predetermined pattern on the glass plate surface before the said etching process. 前記エッチング工程は、前記ガラス板を略水平にし、前記ガラス板の底面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングする請求項1〜3のいずれかに記載のエッチング方法。   The said etching process is an etching method in any one of Claims 1-3 which makes the said glass plate substantially horizontal, sprays etching liquid on the bottom face of the said glass plate, and etches the said glass plate surface. 前記エッチング工程は、前記ガラス板の底面の反対面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングする請求項4に記載のエッチング方法。   5. The etching method according to claim 4, wherein the etching step etches the surface of the glass plate by spraying an etching solution on a surface opposite to a bottom surface of the glass plate. 前記エッチング工程は、前記ガラス板を略鉛直にし、前記ガラス板の表面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングする請求項1〜3のいずれかに記載のエッチング方法。   The said etching process is an etching method in any one of Claims 1-3 which makes the said glass plate substantially vertical, sprays etching liquid on the surface of the said glass plate, and etches the said glass plate surface. ガラス板を支持可能なガラス板支持部と、
前記支持部に支持されているガラス板に向けてエッチング液を噴射するエッチング液噴射ノズルと、
前記エッチング液を該エッチング液の温度を制御して貯留するエッチング液貯留槽と、
前記噴射されたエッチング液を回収するエッチング液回収装置
を備えることを特徴とするガラス板エッチング装置。
A glass plate support capable of supporting the glass plate;
An etchant spray nozzle that sprays an etchant toward the glass plate supported by the support;
An etchant reservoir for storing the etchant by controlling the temperature of the etchant;
A glass plate etching apparatus comprising an etching solution recovery device for recovering the sprayed etching solution.
前記ガラス板支持部は、ガラス板を略水平に支持可能な支持部であり、前記エッチング液噴射ノズルは、前記ガラスの下方からエッチング液を前記ガラス板の底面に向けて噴射するノズルである請求項7に記載のエッチング装置。   The glass plate support portion is a support portion capable of supporting a glass plate substantially horizontally, and the etchant spray nozzle is a nozzle that sprays an etchant from below the glass toward the bottom surface of the glass plate. Item 8. The etching apparatus according to Item 7. 前記ガラス板支持部は、ガラス板を略鉛直に支持可能な支持部である請求項7に記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to claim 7, wherein the glass plate support portion is a support portion capable of supporting the glass plate substantially vertically. 前記支持部は、ガラス板の端部を支持するものである請求項8に記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to claim 8, wherein the support portion supports an end portion of the glass plate. 前記支持部は、ガラス板を搬送可能な搬送装置である請求項10に記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to claim 10, wherein the support portion is a transport device capable of transporting a glass plate. 前記搬送装置は、搬送する方向の左右からガラス板の両端を支持する搬送ローラーである請求項11に記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to claim 11, wherein the transport device is a transport roller that supports both ends of the glass plate from the left and right in the transport direction. 前記搬送ローラーは、平面を有する基部とこの基部の平面径間よりも小径の略円柱形ローラーとを前記基部の平面と前記ローラーの平面で連結した形状の搬送ローラーであり、前記小径ローラーがガラス板を支持する請求項12に記載のエッチング装置。   The transport roller is a transport roller having a shape in which a base portion having a flat surface and a substantially cylindrical roller having a smaller diameter than the plane diameter of the base portion are connected by the plane of the base portion and the plane of the roller, and the small diameter roller is made of glass. The etching apparatus according to claim 12, which supports a plate. 前記エッチング液噴射ノズルは、前記ガラスの上方からエッチング液を前記ガラス板の底面の反対面に向けて噴射する請求項13に記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to claim 13, wherein the etching liquid spray nozzle sprays an etching liquid from above the glass toward a surface opposite to a bottom surface of the glass plate. 前記回収装置は、回収したエッチング液を前記エッチング液貯留槽に送液するものである請求項7〜14のいずれかに記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to claim 7, wherein the recovery apparatus is configured to send the recovered etching liquid to the etching liquid storage tank. 前記回収装置は、回収するエッチング液中に存在するスラッジ除去装置を備える請求項7〜15のいずれかに記載のエッチング装置。   The etching apparatus according to any one of claims 7 to 15, wherein the recovery apparatus includes a sludge removal apparatus that exists in an etching solution to be recovered. 請求項1〜6のいずれかに記載のエッチング方法によってエッチングしたフラットパネルディスプレイ用ガラス板。   The glass plate for flat panel displays etched by the etching method in any one of Claims 1-6. 請求項17に記載のガラス板を使用したフラットパネルディスプレイ。   A flat panel display using the glass plate according to claim 17.
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