JP2007273839A - 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
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- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 25
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q triazanium;borate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]B([O-])[O-] WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q 0.000 claims abstract description 12
- NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N azanium;azane;2,3,4-trihydroxy-4-oxobutanoate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O NGPGDYLVALNKEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 11
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001741 Ammonium adipate Substances 0.000 description 3
- 235000019293 ammonium adipate Nutrition 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.O[Cr](O)(=O)=O WMYWOWFOOVUPFY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
【解決手段】アルミニウム箔表面上に形成されている自然酸化皮膜を除去する皮膜除去工程を行った後、酒石酸アンモニウム水溶液中で第1の陽極酸化工程を行い、次に、第1の陽極酸化工程より高い電圧までホウ酸アンモニウム水溶液中で第2の陽極酸化を行い、非晶質皮膜を形成する。
【選択図】なし
Description
また、所定の電圧到達後、加熱処理や酸浸漬処理により陽極酸化皮膜中のボイドおよびクラックなどを露呈させ、更に再化成を繰り返すことにより陽極酸化皮膜を生成させている(非特許文献1参照)。
永田伊佐也著、「電解液陰極アルミニウム電解コンデンサ(アルミニウム乾式電解コンデンサ増補改訂版)」、日本蓄電器工業株式会社出版、1997年2月24日、第2版第1刷、P311〜314
よって、バリアー型皮膜形成前にポーラス型皮膜を形成することが必要であり、この形成方法により、結晶化が抑制され、非晶質皮膜の形成が可能となる。
アルミニウムは酸素との化学親和性が強く、箔表面は自然酸化皮膜に覆われている。自然酸化皮膜は結晶化の核となるため、この皮膜を除去することにより、さらに結晶化を抑制することができる。
また、アルミニウム箔表面に形成されている自然酸化皮膜は、結晶化の核となるため、この皮膜を除去した後、陽極酸化を行えば、さらに結晶化を抑制することができる。
上記の非晶質皮膜を形成したアルミニウム箔を電極箔に用いた電解コンデンサでは、漏れ電流の低減を図ることができる。
エッチングされたアルミニウム箔を90℃のリン酸−クロム酸混合溶液中に浸漬し、表面上の自然酸化皮膜を溶解除去する(皮膜除去工程)。
次に、加熱処理や酸浸漬処理により酸化皮膜中のボイド、クラックを露呈させ、上記ホウ酸アンモニウム水溶液中で再化成を数回行い、電極箔試料を作製した。
上記の皮膜除去を行わなかった以外は、実施例1と同様にして、電極箔試料を作製した。
実施例1と同様に皮膜除去を行ったが、酒石酸アンモニウム水溶液による第1の陽極酸化は行わず、ホウ酸にアンモニア水を添加した水溶液による、第2の陽極酸化を実施例1と同様に行って、電極箔試料を作製した。
硫酸ボイル劣化率(%)={(耐電圧−60秒後の電圧値)/耐電圧}×100
から皮膜の劣化率(%)を求めた。その結果を表1に示す。
結晶性酸化皮膜は、皮膜の結晶化に伴い、結晶部の周りにボイド(欠陥)を有しており、硫酸によって皮膜が溶解しやすい構造となっている。一方、非晶質皮膜は、結晶部がなく均一な皮膜であり、硫酸によって皮膜が溶解しにくい構造となっている。
従って、硫酸ボイル劣化率が高い(皮膜の溶解量が多い)程、皮膜中の結晶性酸化皮膜の割合が高く、また、硫酸ボイル劣化率が低い(皮膜の溶解が少ない)程、皮膜中の結晶性酸化皮膜の割合が低い。すなわち、非晶質皮膜の割合が高く、コンデンサでの耐充放電特性やリプル特性に優れている。
よって、実施例1、2は比較例より非晶質皮膜の割合が高く、耐充放電特性やリプル特性に優れているといえる。
Claims (2)
- アルミニウム箔を酒石酸アンモニウム水溶液中で陽極酸化し、皮膜を形成する第1の陽極酸化工程と、
前記第1の陽極酸化工程の後、当該第1の陽極酸化より高い電圧までホウ酸アンモニウム水溶液中で陽極酸化し、皮膜を形成する第2の陽極酸化工程とを有することを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の製造方法。 - 前記第1の陽極酸化工程の前に、前記アルミニウム箔表面上に形成されている自然酸化皮膜を除去する皮膜除去工程を有することを特徴とする請求項1に記載の電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006099154A JP4653687B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2006099154A JP4653687B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007273839A true JP2007273839A (ja) | 2007-10-18 |
JP4653687B2 JP4653687B2 (ja) | 2011-03-16 |
Family
ID=38676306
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006099154A Active JP4653687B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4653687B2 (ja) |
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