JP2007270322A - 洗浄装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】めっき槽を通過したフィルムをローラで搬送する際に、ローラを少量の洗浄液で効率よく確実に洗浄し、汚れの付着やめっき液の析出を防止する。
【解決手段】めっき槽６０Ａから洗浄装置７０Ａに感光ウエブ１８を搬送するローラ７４、７６が配置されている。ローラ７４、７６には、それぞれ洗浄装置２００Ａ、２０２Ａが設けられている。洗浄装置２００Ａ、２０２Ａは、ローラ７６の下部が洗浄水２０５に浸漬される洗浄液受け槽２０４と、洗浄液受け槽２０４の洗浄水２０５の水面を一定に保つオーバーフロー堰２０６を備えている。ローラ７６には、洗浄水２０５中でフレキシブルブレード２１２が当接している。洗浄液受け槽２０４には、上部の洗浄水管理槽２２０から導入管２１８、供給管２１６を通って洗浄水２０５が供給される。
【選択図】図２
【解決手段】めっき槽６０Ａから洗浄装置７０Ａに感光ウエブ１８を搬送するローラ７４、７６が配置されている。ローラ７４、７６には、それぞれ洗浄装置２００Ａ、２０２Ａが設けられている。洗浄装置２００Ａ、２０２Ａは、ローラ７６の下部が洗浄水２０５に浸漬される洗浄液受け槽２０４と、洗浄液受け槽２０４の洗浄水２０５の水面を一定に保つオーバーフロー堰２０６を備えている。ローラ７６には、洗浄水２０５中でフレキシブルブレード２１２が当接している。洗浄液受け槽２０４には、上部の洗浄水管理槽２２０から導入管２１８、供給管２１６を通って洗浄水２０５が供給される。
【選択図】図２
Description
本発明は、帯状長尺のフィルムを複数のローラで搬送しながらフィルム導電面にめっき被膜を形成するめっき被膜付きフィルムの製造装置に用いられ、ローラを洗浄する洗浄装置、及びこの洗浄装置を備えためっき被膜付きフィルムの製造装置に関する。
従来、帯状長尺のフィルムに連続的にめっきを行う際には、複数のローラにフィルムを張架してローラの回転によりフィルムを一定方向に搬送し、めっき浴槽を通過させる。このように複数のローラでフィルムを搬送するとき、めっき浴槽の下流側でローラにめっき液成分の析出物や汚れが固着するという問題がある。
ローラを洗浄するために、例えば、特許文献１に示されるように、洗浄水を吹き付けた回転ブラシを、被洗浄ローラに接触させる構成が開示されている。また、特許文献２に示されるように、低ｐＨ状態にあるめっき液をローラに定期的にスプレーして、ローラ表面上に付着堆積した汚れを除去する方法が開示されている。
しかし、特許文献１に記載の構成では、回転ブラシの設置及び洗浄水の吹き付け装置が必要で設備的に大がかりであるため、任意の搬送ローラに設置することは極めて困難であり、回転ブラシからの飛沫の発生で装置系内が汚染されてしまう。また、洗浄水は循環で使用するため、洗浄水が経時で汚染させて、充分な洗浄効果が得られなくなる。
また、特許文献２に記載の洗浄方法では、ローラを常時清浄な状態に保つことが出来ないため、ローラに付着堆積した汚れ物によってフィルムに傷を生じさせてしまう。また、めっき液への洗浄水の混入を防ぐことが出来ず、めっき液の濃度変動が発生し、めっき品質が不安定となる。
特開２００５−２６４１９３号公報
特開平５−２７９８８１号公報
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、フィルムをローラで搬送しながらめっきを行う際に、ローラに付着しためっき液などの汚れを少量の洗浄液で効率よく確実に洗浄する洗浄装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置を提供することである。
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、フィルムの導電面をカソード給電ローラに接触させ、前記導電面にめっき被膜を形成する電解めっき浴の下流側に配置され、次工程へ前記フィルムを空中搬送するローラを洗浄する洗浄装置であって、前記ローラの下部が洗浄液に浸漬される洗浄液受け槽と、前記洗浄液受け槽に洗浄液を供給する供給手段と、を有することを特徴としている。
請求項１に記載の発明によれば、フィルムを空中搬送するローラの下部が、洗浄液受け槽の洗浄液に浸漬されている。洗浄液受け槽には、供給手段によって洗浄液が供給されている。これにより、ローラの回転に伴い、ローラの下部が洗浄液によって洗浄され、ローラの表面が清浄な状態に保たれる。また、洗浄液はローラの下部にのみ接触するので少量で済む。このため、ローラに付着しためっき液などの汚れを少量の洗浄液で効率よく確実に洗浄することが可能となる。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄装置において、前記洗浄液受け槽の側部に、前記洗浄液受け槽内の洗浄液をオーバーフローさせて洗浄液量を一定に保つオーバーフロー堰を設けたことを特徴としている。
請求項２に記載の発明によれば、洗浄液受け槽の側部にオーバーフロー堰が設けられているので、洗浄液受け槽内の洗浄液がオーバーフローして洗浄液量が一定に保たれる。このため、低コストで洗浄液受け槽内の洗浄液量を調整できる。
請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の洗浄装置において、前記供給手段は、水位が一定に管理された洗浄液管理槽と、前記洗浄液管理槽から各前記洗浄液受け槽までの水頭差が一定とされた送液路と、前記送液路に設けられた流量調整バルブと、を備えることを特徴としている。
請求項３に記載の発明によれば、水位が一定に管理された洗浄液管理槽を備えており、洗浄液管理槽から各洗浄液受け槽までの水頭差が一定とされた送液路を通って各洗浄液受け槽に洗浄液が供給される。送液路には流量調整バルブが設けられており、洗浄液受け槽に供給される洗浄液量が一定に保たれる。このため、洗浄液受け槽へ供給される洗浄液が不足することが抑制される。
請求項４に記載の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の洗浄装置において、前記洗浄液受け槽の洗浄液内に、前記ローラの周面に当接するフレキシブルブレードを設けたことを特徴としている。
請求項４に記載の発明によれば、洗浄液受け槽の洗浄液内にローラの周面に当接するフレキシブルブレードが設けられており、ローラに付着した汚れが除去され、ローラ表面にめっき液の析出物が出ることが抑制される。
請求項５に記載の発明に係るめっき被膜付きフィルムの製造装は、フィルムの導電面をカソード給電ローラに接触させ、前記導電面にめっき被膜を形成する電解めっき浴と、前記電解めっき浴の下流側に配置され、次工程へ前記フィルムを空中搬送するローラと、前記ローラを洗浄する請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の洗浄装置と、を有することを特徴としている。
請求項５に記載の発明によれば、電解めっき浴の下流側に、次工程へフィルムを空中搬送するローラが設けられており、ローラが請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の洗浄装置によって洗浄される。これにより、ローラに付着しためっき液などの汚れを少量の洗浄液で効率よく確実に洗浄することが可能となる。
本発明は、上記のように構成したので、長尺広幅帯状のフィルムをローラで搬送しながら連続的にめっきを行う際に、ローラに付着しためっき液や汚れを少量の洗浄液で効率よく確実に洗浄することができる。
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面を通して同じ符号を付与し、重複する説明は省略する場合がある。
図１は、本発明の一実施形態に係る洗浄装置２００Ａが搭載されためっき被膜付きフィルムの製造装置１０を示す概略構成図である。
このめっき被膜付きフィルムの製造装置１０は、図１に示すように、露光装置１２、現像装置１４、洗浄装置７０Ａを備えた電解めっき装置１６、後処理装置１７及び巻取装置１９から構成されている。
まず、露光装置１２について説明する。露光装置１２は、被めっき素材として、銀塩含有層が設けられた長尺幅広フィルムからなる光透過性感光ウエブ１８を搬送しながら、所望の細線状パターン（例えば、格子状、ハニカム状などのパターン）露光を行う装置である。このパターン露光により、感光ウエブ１８の銀塩含有層の露光部にはパターン化された細線状の金属銀部が形成される。
露光装置１２には、光透過性感光ウエブ１８の搬送路に沿って複数の搬送ローラ対２０が設けられており、これらの搬送ローラ対２０は、駆動ローラとニップローラとから構成される。
露光装置１２には、搬送方向の最上流部に供給部が設けられている。供給部には、ローラ状に巻かれた長尺幅広の光透過性感光ウエブ１８を収納するマガジン２２がセットされる。光透過性感光ウエブ１８には、光透過性感光ウエブ１８を引き出して下流側に向けて搬送するための引出ローラ２２Ａが設けられている。
そして、供給部からの搬送方向下流側は、露光ユニット２４が設けられている。この露光ユニット２４により、光透過性感光ウエブ１８に露光が行われる。露光ユニット２４は、フォトマスクを利用した連続面露光ユニットであってもよく、レーザービームによる走査露光ユニットあってもよい。この走査露光ユニットとしては、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザー又は半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発光光源（ＳＨＧ）等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく適用することができる。また走査露光ユニットとしては、さらにＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ２レーザー等を用いた走査露光方式も適用することができる。
また、走査露光ユニットをコンパクトで、安価なものにするために、露光は、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源（ＳＨＧ）を適用することがよい。特にコンパクトで、安価、さらに寿命が長く、安定性が高い装置を設計するためには、半導体レーザーを適用することがよい。
走査露光ユニットのレーザー光源としては、具体的には、波長４３０〜４６０ｎｍの青色半導体レーザー（２００１年３月の第４８回応用物理学関係連合講演会で日亜化学発表）、半導体レーザー（発振波長約１０６０ｎｍ）を導波路状の反転ドメイン構造を有するＬｉＮｂＯ3のＳＨＧ結晶により波長変換して取り出した約５３０ｎｍの緑色レーザー、波長約６８５ｎｍの赤色半導体レーザー（日立タイプＮｏ．ＨＬ６７３８ＭＧ）、波長約６５０ｎｍの赤色半導体レーザー（日立タイプＮｏ．ＨＬ６５０１ＭＧ）などが好ましく適用でききる。
なお、露光装置１２は、上記構成に限られず、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の露光装置を適用することができる。
次に、現像装置１４について説明する。現像装置１４は、露光装置１２の搬送方向の下流側に配置され、所望の細線状パターン露光が施された光透過性感光ウエブ１８を現像・定着・洗浄を行う装置である。
現像装置１４には、搬送方向の上流側から順に、現像槽２６、漂白定着槽２８、及び水洗槽３０が設けられており、水洗槽３０は、第１水洗槽３０Ａ、第２水洗槽３０Ｂ、第３水洗槽３０Ｃ、及び第４水洗槽３０Ｄからなる。現像槽２６には、例えば、現像液２６Ｌが所定量貯蔵され、漂白定着槽２８には、漂白定着液２８Ｌが所定量貯蔵され、第１水洗槽３０Ａ〜第４水洗槽３０Ｄには、洗浄液３０Ｌが所定量貯蔵されている。各処理槽２６〜３０内のローラとガイドによって感光ウエブ１８が各処理槽２６〜３０の液内を搬送されることで、現像・定着・洗浄の各処理が行われるようになっている。また、現像槽２６の最上流側には、駆動ローラ３２Ａと従動ローラ３２Ｂとを備えた搬入ローラ対３２が配置されており、この搬入ローラ対３２は、露光装置１２から搬出される感光ウエブ１８を現像液２６Ｌ内に案内している。
ここで、現像・定着・洗浄の各処理は、銀塩写真フィルム、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理技術を適用することができる。現像液２６Ｌ、漂白定着液２８Ｌ、洗浄液３０Ｌもこれらに準じて適宜適用することができる。例えば、現像液２６Ｌとしては、特に限定しないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、例えば、富士フィルム社製のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社製のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２などの現像液、又はそのキットに含まれる現像液、また、Ｄ−８５などのリス現像液を用いることができる。なお、定着処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる。
また、現像液２６Ｌには、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えば、ベンゾトリアゾールなどの含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。また、リス現像液を利用する場合特に、ポリエチレングリコールを使用することも好ましい。
なお、現像装置１４では、各処理槽２６〜３０の液内を通過した感光ウエブ１８は、乾燥させず現像装置１４から排出されるようになっている。
次に、電解めっき装置１６について説明する。電解めっき装置１６は、露光・現像を施され、細線状の金属銀部が形成された感光ウエブ１８に対し、電解めっき処理を施し、当該金属銀部に導電性微粒子を担持させめっき（導電性金属部）を形成する装置である。
電解めっき装置１６には、感光ウエブ１８の搬送方向上流側に、水洗槽３０を通過した後の感光ウエブ１８の水分を除去する水分除去装置４０Ａが配設されている。水分除去装置４０Ａには、感光ウエブ１８の両側にエアーナイフ装置４２、４４が配置されており、感光ウエブ１８の両側からエアーナイフを吹き付けることで、感光ウエブ１８に付着した水分を除去する。
図２に示すように、水分除去装置４０Ａを通過した感光ウエブ１８は、支持ローラ４６と支持ローラ４８によって案内され、感光ウエブ１８の金属銀部に接触しながら給電を行うカソード給電ローラ５０Ａに搬送される。感光ウエブ１８を挟んでカソード給電ローラ５０Ａと対向する位置には、感光ウエブ１８の金属銀部をカソード給電ローラ５０Ａに押圧して接触させる弾性ローラ５２Ａが配設されている。この弾性ローラ５２Ａは、回転可能に支持された芯金の外周面にゴムなどからなる弾性体層を備えるものである。弾性体層としてウレタンゴムなどが用いられる。弾性ローラ５２Ａを押圧することで、感光ウエブ１８とカソード給電ローラ５０Ａとを密着させることができる。
カソード給電ローラ５０Ａより感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、めっき液６１で満たされためっき槽６０Ａが配置されている。この工程では、カソード給電ローラ５０Ａに接触させた感光ウエブ１８の金属銀部をめっき槽６０Ａのめっき浴中で液中ローラ６２Ａにより搬送する。銅ボールを積層充填したケース６４Ａをアノード電極にして、カソード電極をカソード給電ローラ５０Ａとして、直流電源（整流器）６６Ａにより給電し、感光ウエブ１８に層状のめっき被膜を形成する。本実施形態では、直流電源６６Ａにより、カソード給電ローラ５０Ａからアノード電極であるケース６４Ａへ給電し、感光ウエブ１８に、０．２〜１０Ａ／ｄｍ2の電流密度となるようにしてめっき被膜を形成する。
ここで、電解めっき処理として、例えば、プリント配線板などで用いられている電解めっき技術を適用することができ、電解めっきは電解銅めっきであることが好ましい。本実施形態では、めっき液６１として、電解銅めっき浴液が適用されている。電解銅めっき浴としては、硫酸銅浴、ピロリン酸銅浴、ホウフッ化銅浴等が挙げられる。電解銅めっき液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、めっき液の安定性、導電性を高め、均一電着性の増加を図る硫酸、アノードの溶解促進及び添加剤の補助効果作用の塩素、浴の安定化やめっき緻密性を向上させるための添加剤としてポリエチレンオキサイド、ビピリジン等が挙げられる。
なお、めっき槽６０Ａの下部には循環パイプ（図示省略）が連結されており、めっき槽６０Ａ内のめっき液６１が循環パイプに供給され、フィルター（図示省略）を通すことでめっき液６１中の異物が除去され、めっき槽６０Ａ内に戻される構成となっている。
図２に示すように、めっき槽６０Ａより感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、感光ウエブ１８を洗浄する洗浄水７１で満たされた洗浄装置７０Ａが配設されている。めっき槽６０Ａの上部と洗浄装置７０Ａの上方には、感光ウエブ１８を空中搬送する２つのローラ７４、７６が略水平に設けられている。ローラ７４、７６は、感光ウエブ１８の移動に伴って従動回転する。また、洗浄装置７０Ａ内には、液中ローラ７２Ａが設けられている。これにより、感光ウエブ１８は、めっき槽６０Ａのめっき液６１内を通過した後、２つのローラ７４、７６によって案内され、洗浄装置７０Ａの洗浄水７１内に搬送される。洗浄装置７０Ａを通過した感光ウエブ１８は、液中ローラ７２Ａと上部に配置された支持ローラ８０に案内されて搬送される。
また、めっき槽６０Ａの上部であってローラ７４より搬送方向上流側には、感光ウエブ１８の表裏に圧接される１対の液絞りローラ８２が配設されている。また、洗浄装置７０Ａの上部であって支持ローラ８０より搬送方向上流側には、感光ウエブ１８の表裏に圧接される１対の液絞りローラ８４が配設されている。液絞りローラ８２、８４は、感光ウエブ１８の移動に伴って従動回転する。液絞りローラ８２の周面はめっき液６１と接触し、液絞りローラ８４の周面は洗浄水７１と接触しており、液絞りローラ８２、８４は常に濡れた状態で使用される。液絞りローラ８２、８４は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）で形成されている。液絞りローラ８２によって感光ウエブ１８に付着しためっき液６１が絞られ、液絞りローラ８４によって感光ウエブ１８に付着した洗浄液７１が絞られるように構成されている。
ローラ７４とローラ７６の下部には、ローラ７４、７６をそれぞれ洗浄する洗浄装置２００Ａ、２０２Ａが設けられている。洗浄装置２００Ａと洗浄装置２０２Ａは左右対称に配置されており、それぞれ同じ部材によって構成されている。ここでは、洗浄装置２０２Ａの例を、図３に基づき説明する。
洗浄装置２０２Ａは、図３に示すように、ローラ７６の下方部に、洗浄水２０５が満たされた樋状の洗浄液受け槽２０４を備えており、ローラ７６の下部が洗浄水２０５に浸漬されている。この洗浄液受け槽２０４は、ローラ７６の長手方向に沿って配置され、ローラ７６の全長が収まる長さに形成されている。洗浄液受け槽２０４の側部には、オーバーフロー堰２０６が設けられており、このオーバーフロー堰２０６の上部に切り欠き口２０６Ａが形成されている。この切り欠き口２０６Ａで洗浄液受け槽２０４内の洗浄水２０５をオーバーフローさせて洗浄水２０５の量を一定に保つように構成されている。ローラ７６は、洗浄水２０５内に直径の１／３〜１／１０が浸漬されるように設定されている。
洗浄液受け槽２０４のオーバーフロー堰２０６と隣接する側方部には、オーバーフローした洗浄水２０５が流れる排出路２０８が設けられている。排出路２０８の底部には、排出管２１０が接続されており、洗浄水２０５は排出管２１０を通って排出される。
洗浄液受け槽２０４内の下方部には、ローラ７６の周面（長手方向面）に当接するフレキシブルブレード２１２が設けられている。フレキシブルブレード２１２は、ローラ７６の回転方向に対して上流側方向に斜めに配置されており、一定の圧力でローラ７６に押圧されている。フレキシブルブレード２１２は、洗浄水２０５中でローラ７６の周面に当接しており、ローラ７６の周面に付着した汚れや付着物を掻き落とすように構成されている。フレキシブルブレード２１２は、例えば樹脂やゴムで形成されている。
図２に示すように、洗浄液受け槽２０４には、洗浄水２０５を供給する供給管２１６が接続されている。洗浄液受け槽２０４の上方部には、洗浄水管理槽２２０が配設されており、洗浄水管理槽２２０内には、後述するオーバーフロー配管２２６によって所定の水位の洗浄水２０５がストックされている。洗浄水管理槽２２０の底部には、１本の導入管２１８が接続されており、導入管２１８から複数の供給管２１６に分岐されて各洗浄液受け槽２０４に接続されている。導入管２１８及び供給管２１６は、洗浄水管理槽２２０から各洗浄液受け槽２０４との水頭差が一定となるように構成されている。そして、洗浄水管理槽２２０と各洗浄液受け槽２０４との落差を利用して、洗浄液受け槽２０４内の洗浄水２０５が導入管２１８、供給管２１６を通って各洗浄液受け槽２０４に供給される。供給管２１６には、流量調整バルブ２２２が設けられ、洗浄液受け槽２０４に供給される洗浄水２０５の流量がほぼ一定に調整される。これにより、洗浄液受け槽２０４に供給される洗浄水２０５が不足することを防止できる。また、流量計が不要となり、低コスト化が可能となる。
また、洗浄水管理槽２２０の斜め下方側には、洗浄水２０５が貯蔵される洗浄水貯蔵槽２２４が配設されている。また、洗浄水管理槽２２０の側壁には、オーバーフロー配管２２６が接続されており、オーバーフロー配管２２６の他端側は洗浄水貯蔵槽２２４に接続されている。これにより、洗浄水管理槽２２０から洗浄水２０５がオーバーフロー配管２２６を通って洗浄水貯蔵槽２２４に排出され、洗浄水管理槽２２０内の洗浄水２０５の水位が一定に保たれる。
洗浄水貯蔵槽２２４には、新鮮な洗浄水２０５を供給する供給管２２８が接続されている。供給管２２８には、流量調整バルブ２３０、２３２が設けられている。また、洗浄水貯蔵槽２２４内には、洗浄水２０５の水面を検知するセンサ２３４が設けられており、センサ２３４で水面を検知して制御部２３６で流量調整バルブ２３０を制御することで、洗浄水２０５の液面レベルが調整されるようになっている。
洗浄水貯蔵槽２２４の底部には、洗浄水２０５を洗浄水管理槽２２０に供給する供給管２３８が接続されており、供給管２３８には、ポンプ２４０と流量調整バルブ２４２が設けられている。これにより、洗浄水貯蔵槽２２４内に貯蔵された洗浄水２０５が供給管２３８を通って洗浄水管理槽２２０に送られるようになっている。
上記構成の電解めっき装置１６では、まず、長尺幅広の感光ウエブ１８が矢印方向に搬送され、エアーナイフ装置４２、４４によって感光ウエブ１８に付着した水分が除去される。その後、カソード給電ローラ５０Ａと弾性ローラ５２Ａとのニップ部で感光ウエブ１８の金属銀部をカソード給電ローラ５０Ａに接触させた後、めっき槽６０Ａに搬送する。その際、銅ボールを積層、充填したケース６４Ａをアノード電極とし、カソード給電ローラ５０Ａをカソード電極として、直流電源６６Ａにより給電し、感光ウエブ１８の金属銀部の電解めっきにより銅めっき被膜を形成する。さらに、感光ウエブ１８は、めっき槽６０Ａを通過した後、ローラ７４、７６によって案内されて洗浄装置７０Ａに搬送され、感光ウエブ１８に付着しためっき液が洗浄水７１によって洗浄される。
また、電解めっき装置１６では、ローラ７４、７６を洗浄する洗浄装置２００Ａ、２０２Ａが設けられている。洗浄装置２００Ａ、２０２Ａでは、供給管２２８から新鮮な洗浄水２０５が洗浄水貯蔵槽２２４に供給され、洗浄水貯蔵槽２２４内に貯蔵された洗浄水２０５は、供給管２３８を通って洗浄水管理槽２２０に一旦ストックされる。この洗浄水管理槽２２０では、オーバーフロー配管２２６によって洗浄水２０５が所定の水位に保たれている。そして、洗浄水管理槽２２０と各洗浄液受け槽２０４との落差を利用して、洗浄液受け槽２０４内の洗浄水２０５が導入管２１８、供給管２１６を通って各洗浄液受け槽２０４に供給される。その際、流量調整バルブ２２２によって、各洗浄液受け槽２０４に供給される洗浄水２０５の流量がほぼ一定に調整される。
洗浄液受け槽２０４では、オーバーフロー堰２０６によって洗浄水２０５の量が一定に保たれており、回転するローラ７４、７６の下部がそれぞれ浸漬されている。これにより、ローラ７４、７６の周面が洗浄水２０５によって洗浄され、ローラ７４、７６の周面に付着しためっき液や汚れが除去される。また、ローラ７４、７６の周面には、フレキシブルブレード２１２が当接しており、ローラ７４、７６の表面に付着した汚れが掻き取られる。このため、ローラ７４、７６の周面が清浄な状態に保たれる。
洗浄液受け槽２０４からオーバーフロー堰２０６によってオーバーフローした洗浄水２０５は、排出路２０８を流れて排出管２１０から排出される。
このような洗浄装置２００Ａ、２０２Ａでは、ローラ７４、７６に付着しためっき液や汚れを少量の洗浄水２０５で効率よく確実に洗浄することができる。このため、ローラ７４、７６の汚れやめっき液成分の析出物によって感光ウエブ１８に傷などが発生することが抑制される。
図示を省略するが、電解めっき装置１６では、水分除去装置４０Ａと、カソード給電ローラ５０Ａと、めっき槽６０Ａと、洗浄装置７０Ａとを備えたユニットが複数配置されており（本実施形態では８ユニット）、上記のような工程が複数回繰り返されることで、感光ウエブ１８に所定の厚みの銅めっきが形成される。
さらに、感光ウエブ１８の搬送方向下流側には、ニッケルめっきを施すための水分除去装置４０Ｂと、カソード給電ローラ５０Ｂと、めっき槽６０Ｂと、洗浄装置７０Ｂとを備えたユニットが複数配置されており（本実施形態では８ユニット）、上記と同様の工程が複数回繰り返されることで、感光ウエブ１８に所定の厚みのニッケルめっきが形成される。
次いで、図１に示すように、フィルム張力を検出できるローラ１２５を介して、めっき液を除去する水洗部１１４、めっき被膜を保護する防錆処理液１１７の入った防錆処理部１１６を経て、過剰な防錆処理液を除去する水洗部１１８を経て、水分を除去する乾燥炉をもつ乾燥工程部１２０を経て、速度調整部１２１を経て、バランスローラ部１２２を経て、張力調整された後、アキュムレータ１２３を通してローラ状フィルム１２４とする。こうしてめっき被膜付きフィルムが得られる。
実質的なフィルム搬送張力は、５Ｎ／ｍ以上２００Ｎ／ｍ以下とすることが好ましい。実際に張力を５Ｎ／ｍ未満にすると、フィルムが蛇行し始め、搬送経路の制御がうまくいかなかった。また２００Ｎ／ｍを超えると、フィルムの形成されるめっき被膜金属が内部歪みを持つために、製品にカールが発生するなどの問題があった。
搬送張力制御は、張力検出ローラ１２５を用いて、搬送張力を検出し、この張力値が一定になるように速度調整部１２１によって速度を増減させるフィードバック制御を行うと良い。
このようにして、感光ウエブ１８の細線状金属銀部にめっき（導電性金属部）が形成される。このような工程により、めっき被膜付きフィルムを得ることができる。
なお、電解めっき装置１６のめっき槽の数は、所望のめっき膜厚（導電性金属部の厚み）に応じて８セット以上増設してもよい。この数に応じて、所望のめっき膜厚（導電性金属部の厚み）を容易に得ることができる。
次に、感光ウエブ１８について説明する。被めっき素材としての感光ウエブ１８は、例えば、光透過性支持体上に銀塩（例えばハロゲン化銀）が含有した銀塩含有層を設けた、感光材料からなる長尺幅広フレキシブル基材である。また、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは０．０２〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、さらに好ましくは０．３〜３μｍである。
これらの銀塩含有層や保護層の組成などは、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層（銀塩含有層）や保護層を適宜適用することができる。
特に、感光ウエブ１８（感光材料）としては、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）が好ましく、白黒銀塩写真フィルム（白黒銀塩感光材料）が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。
一方、光透過性支持体としては、単層のプラスチックフィルムや、これを２層以上組み合わせた多層フィルムを適用することができる。プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂；その他、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
これらの中でも、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、支持体としてのプラスチックフィルムは、銀塩写真フィルム（銀塩感光材料）に通常適用されるポリエチレンテレフタレートフィルムやセルロールトリアセテートフィルム、また、その他、ポリイミドフィルムであることが好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。
また、ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合における光透過性支持体の全可視光透過率は７０〜１００％が好ましく、さらに好ましくは８５〜１００％であり、特に好ましくは９０〜１００％である。
感光ウエブ１８の幅は、例えば、５０ｃｍ以上とし、厚みは５０〜２００μｍとすることがよい。
また、感光ウエブ１８には、露光・現像後、その露光部に金属銀部が形成されるが、この金属銀部に含まれる金属銀の質量が、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、その後の電解めっき処理で高い導電性を得ることができるため好ましい。
露光及び現像処理により形成された金属銀部に導電性を付与するために、上述の電解めっき装置１６によって、金属銀部に導電性金属粒子を担持させる電解メッキ処理を行う。すなわち、めっき被膜付きフィルムの製造装置１０では、被めっき素材として、銀塩含有層が設けられた光透過性感光ウエブ１８を用い、これの銀塩含有層に露光・現像を行って被めっき部として所望の細線状金属銀部を形成する。この細線状金属銀部は、銀塩含有層に露光・現像して形成されるため、非常に細い細線でパターン化された細線状金属銀部となる。このような光透過性感光ウエブ１８に対し、電解めっき処理を施すと、細線状金属銀部上に導電性粒子が担持され、これが導電性金属部となる。このため、得られる電磁波遮蔽材料は、非常に細い細線でパターン化された細線状金属部と大面積の光透過部とを有することとなる。
このようなめっき被膜付きフィルムの製造装置１０では、感光ウエブ１８を搬送するローラ７４、７６を洗浄する洗浄装置２００Ａ、２０２Ａが設けられているので、めっき槽６０Ａより感光ウエブ１８が搬出されるとき、ローラ７４、７６にめっき液が付着し、めっき液成分が析出固着することが抑制される。このため、ローラ７４、７６表面の析出物などにより発生する感光ウエブ１８の傷や塵状の固形物の付着がなく、高品質のめっきが得られる。
また、洗浄装置２００Ａ、２０２Ａによって、少量の洗浄水２０５でローラ７４、７６及び感光ウエブ１８を連続的に効率よく確実に洗浄することができる。このため、めっき時の洗浄処理等の負荷が大幅に低減され、生産効率が向上を図ることができ、安価に製品を提供できる。
なお、本実施形態では、ローラ７４、７６が浸漬される洗浄液受け槽２０４の洗浄液２０５をオーバーフローさせて排出したが、下流側のローラ７６が浸漬される洗浄液受け槽２０４は、洗浄液２０５を循環使用する構成としても良い。
なお、本実施形態では、洗浄液として洗浄水２０５を使用したが、水に限らず、アルカリ洗浄液、酸性洗浄液など、他の洗浄液を使用可能である。
１０ めっき被膜付きフィルム製造装置
１８ 感光ウエブ（フィルム）
６０Ａ めっき槽
６０Ｂ めっき槽
６１ めっき液
７０Ａ 洗浄装置
７０Ｂ 洗浄装置
７４ ローラ
７６ ローラ
２００Ａ 洗浄装置
２０２Ａ 洗浄装置
２０４ 洗浄液受け槽
２０５ 洗浄水（洗浄液）
２０６ オーバーフロー堰
２０８ 排出路
２１２ フレキシブルブレード
２１６ 供給管（送液路）
２１８ 導入管（送液路）
２２０ 洗浄水管理槽（洗浄液管理槽）
２２２ 流量調整バルブ
２２４ 洗浄水貯蔵槽
２２６ オーバーフロー配管
２３８ 供給管
２４０ ポンプ
１８ 感光ウエブ（フィルム）
６０Ａ めっき槽
６０Ｂ めっき槽
６１ めっき液
７０Ａ 洗浄装置
７０Ｂ 洗浄装置
７４ ローラ
７６ ローラ
２００Ａ 洗浄装置
２０２Ａ 洗浄装置
２０４ 洗浄液受け槽
２０５ 洗浄水（洗浄液）
２０６ オーバーフロー堰
２０８ 排出路
２１２ フレキシブルブレード
２１６ 供給管（送液路）
２１８ 導入管（送液路）
２２０ 洗浄水管理槽（洗浄液管理槽）
２２２ 流量調整バルブ
２２４ 洗浄水貯蔵槽
２２６ オーバーフロー配管
２３８ 供給管
２４０ ポンプ
Claims (5)
- フィルムの導電面をカソード給電ローラに接触させ、前記導電面にめっき被膜を形成する電解めっき浴の下流側に配置され、次工程へ前記フィルムを空中搬送するローラを洗浄する洗浄装置であって、
前記ローラの下部が洗浄液に浸漬される洗浄液受け槽と、
前記洗浄液受け槽に洗浄液を供給する供給手段と、
を有することを特徴とする洗浄装置。 - 前記洗浄液受け槽の側部に、前記洗浄液受け槽内の洗浄液をオーバーフローさせて洗浄液量を一定に保つオーバーフロー堰を設けたことを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
- 前記供給手段は、水位が一定に管理された洗浄液管理槽と、
前記洗浄液管理槽から各前記洗浄液受け槽までの水頭差が一定とされた送液路と、
前記送液路に設けられた流量調整バルブと、
を備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の洗浄装置。 - 前記洗浄液受け槽内の下部に、洗浄液中で前記ローラの周面に当接するフレキシブルブレードを設けたことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の洗浄装置。
- フィルムの導電面をカソード給電ローラに接触させ、前記導電面にめっき被膜を形成する電解めっき浴と、
前記電解めっき浴の下流側に配置され、次工程へ前記フィルムを空中搬送するローラと、
前記ローラを洗浄する請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の洗浄装置と、
を有することを特徴とするめっき被膜付きフィルムの製造装置。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
| JP2006100695A JP4786393B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 洗浄装置及びめっき被膜付きフィルムの製造装置 |
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| US11/994,414 US20090166189A1 (en) | 2006-03-31 | 2007-03-20 | Washing apparatus for fabricating plating-filmed web |
| DE112007000757T DE112007000757B4 (de) | 2006-03-31 | 2007-03-20 | Vorrichtung zum Herstellen einer Bahn mit einem Plattierungsfilm |
| CN2007800007564A CN101331248B (zh) | 2006-03-31 | 2007-03-20 | 清洗装置及镀膜料片制造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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