JP2007258157A - エレクトロルミネッセント素子を含む画像表示システムおよびその製造方法 - Google Patents

エレクトロルミネッセント素子を含む画像表示システムおよびその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 EL素子を含む画像表示システムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 エレクトロルミネッセント素子を含む画像表示システムであって、複数の画素領域、前記各画素領域に形成されるインクジェットプリントカラーフィルター層、前記インクジェットプリントカラーフィルター層を囲むダム、前記インクジェットプリントカラーフィルター層と前記ダムの上に形成された平坦層、および前記インクジェットプリントカラーフィルター層109の真上の前記平坦層の上に形成される有機発光ダイオードを含むシステム。
【選択図】 図4

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセント素子に関し、特に、カラーフィルターを有するフルカラーアクティブマトリクスの有機エレクトロルミネッセント素子に関するものである。
いくつかの方法が有機エレクトロルミネッセント素子のフルカラー発光を達成するために用いられている。一般的に、RGB発光層の方法、またはカラーチェンジ法(color changing method)によって、フルカラーの有機エレクトロルミネッセント素子を作るのが主な傾向である。これらの方法での、いわゆる“カラーチェンジ法”は、白色有機発光ダイオードが対応する赤色、緑色と、青色カラーフィルター上にそれぞれ形成されて、バイアス電圧によって駆動され、赤色、緑色と、青色をそれぞれ放射することを示す。
従来のフルカラーアクティブマトリクスの有機エレクトロルミネッセント素子では、そのRGBカラーフィルターは、一般的に、顔料分散プロセス(pigment dispersion process)によって形成される。顔料分散プロセスでは、顔料が分散された感光性樹脂層がスピンコーティングによって基板の上に形成され、パターニングプロセスが行われて、単一カラーのパターンを得る。続いて、R、Gと、Bのカラーフィルター層を形成するために、このプロセスは、各カラーにそれぞれ1度、行われる。即ち、プロセスが全部で3度、繰り返されるため、製造プロセスは、複雑化され、時間が掛かる。また、感光性樹脂の90%以上がスピンコーティングのプロセス中に浪費される。
また、カラーフィルター層として機能する感光性樹脂が通常、ネガ型フォトレジストであることから、マスクされていない感光性樹脂は、外部からの光源により、望ましくなく架橋され、接触孔に残り、開回路または断路となる。
上述の欠点を克服するために、例えば、電着または染料印刷法(dye printing)などのカラーフィルターを形成する各種の方法が開発されている。しかし、上述の方法は、有機エレクトロルミネッセント素子の応用に適さない。電着法では、形成されるパターンの形に制限が掛けられる。染料印刷法では、低い解像力と悪い表面粗さによりファインピッチのパターンの形成が困難である。
よって、フルカラーアクティブマトリクスの有機エレクトロルミネッセント素子のパフォーマンスと信頼性を増すことができる、シンプルで効率的な製造方法と構造を提供することが望ましい。
画像表示システムを提供する。
これに関して、例えば、フルカラーアクティブマトリクスの有機エレクトロルミネッセント素子のエレクトロルミネッセント素子を含むシステムの実施例は、複数の画素領域を含む。インクジェットプリントカラーフィルター層は、各画素領域に形成される。各インクジェットプリントカラーフィルター層は、ダムに囲まれる。平坦層は、画素領域の上に形成され、インクジェットプリントカラーフィルター層とダムを覆う。有機発光ダイオードは、陽極、エレクトロルミネッセント(EL)層と、陰極を含み、インクジェットプリントカラーフィルター層109の真上の平坦層の上に形成される。
また、画像表示システムの製造方法を提供する。複数の画素領域を有する薄膜トランジスタアレイ基板が提供される。絶縁層が各画素領域に形成される。絶縁層の一部の表面が既定のカラーフィルター領域として定義される。複数のダムが形成され、各既定のカラーフィルター領域をそれぞれ囲む。RGBカラーフィルター層は、インクジェットプリントによって対応する既定のカラーフィルター領域にそれぞれ形成される。平坦層は、基板の上に全面的に形成される。有機発光ダイオードは、カラーフィルター層の真上の平坦層の上に形成される。
エレクトロルミネッセント素子を含む画像表示システムおよびその製造方法によれば、開回路または断路となるのを防ぎ、且つ、パターン化の複雑さが簡易化することで、フルカラーアクティブマトリクスの有機エレクトロルミネッセント素子のパフォーマンスと信頼性を増すことができる、シンプルで効率的な製造方法と構造を提供することができる。
本発明についての目的、特徴、長所が一層明確に理解されるよう、以下に実施形態を例示し、図面を参照にしながら、詳細に説明する。
図1は、本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子100の画素領域の上面概略図である。有機エレクトロルミネッセント素子100は、マトリクス状に配列された複数の画素領域を含む。各画素領域は、Y方向に沿って延伸したデータライン102に電気的接続されたTFT101、X方向に沿って延伸したスキャンライン104、コンデンサ103、有機発光ダイオードの透明陰極105と、陰極105と電力線108に電気的接続するもう1つのTFT107を含む。ダム(dam)110によって囲まれたインクジェットカラーフィルター層109は、透明陰極105の下方に形成される。図2a〜2gは、本発明の実施例の画像表示システムに基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造プロセスを表している図1のラインA−A’に沿った断面図である。
図2aに示すように、画素領域113を有する基板120が提供される。TFT107は、基板120の上に形成され、ゲート誘電体層114と絶縁層115は、画素領域113に配置される。TFT107は、半導体層124、ゲート電極121、誘電体層123、ソース領域125と、ドレイン領域126を含む。TFT107の選択は、制限がなく、アモルファスシリコン薄膜トランジスタ、低温ポリシリコン薄膜トランジスタ(LTPS−TFT)、または有機薄膜トランジスタ(OTFT)であることができる。TFT107の構造は、例として表しており、本発明を限定するものではない。また、TFT107は、ソース電極125’とドレイン電極126’を含むこともでき、ソース電極125’とドレイン電極126’は、ソース領域125とドレイン領域126にそれぞれ電気的接続される。ゲート電極121とスキャンライン104は、同じ材料で同じプロセスによって形成され、データライン102と、ソースとドレイン電極125’と126’は、同じ材料で同じプロセスによって形成される。ここでは、基板120は、ガラスまたはプラスチックなどの透明絶縁材料である。ゲート誘電体層114は、窒化ケイ素、酸化ケイ素、またはその積層を含むことができる。
図2bに示すように、中空四辺形の形状のダム(dam)110は、画素領域113の絶縁層115の上に形成され、既定のカラーフィルター領域131を囲む。ダムの形状は、例として表しており、本発明を限定するものではなく、四辺形、錐形、または逆錐形であることができる。好ましくは、ダムは、ポジ型フォトレジストを用いたフォトリソグラフィープロセスによって形成され、ドレイン電極126’上のフォトレジスト残留の蓄積を防ぐ。いくつかの実施例では、ダムは、誘電材料からなり、エッチングによってパターン化されることができる。
図2cに示すように、カラーフィルター層109は、インクジェットプリントによって、既定のカラーフィルター領域113の上に形成され、ダムによって囲まれることになる。カラーフィルター層109は、異なる色で選択的に替えることができる。例えば、赤色、緑色と、青色樹脂が対応する既定のカラーフィルター領域の中に注入される。インクジェットプリントのプロセスでは、RGBカラーフィルター層は、同時に、または順次に形成されることができる。また、2つの異なるカラーフィルターは、フルカラー画像の形成に用いられることもできる。主な特徴と重要な側面として、カラーフィルターのインクがダムからドレイン電極126’の中に流れるのを防ぎ、更に、開回路または断路となるのを防ぐために、ダムとインクジェットプリントカラーフィルター層の間の高さ比は、3:1〜20:19、好ましくは2:1〜4:3の範囲でなければならない。
図2dに示すように、平坦層140は、基板120の上に全面的に形成され、インクジェットプリントカラーフィルター層とダムを覆う。ここでは、平坦層140は、有機樹脂層、または誘電体層、または誘電体材料またはスピンオンガラスなどの絶縁材料であることができる。次に、ビアホール145は、平坦層140を穿通するように形成され、ドレイン電極126’を露出する。
図2eに示すように、透明導電層は、平坦層140の上に形成され、パターン化されて有機発光ダイオードの透明陽極105を形成し、ビアホール145によってドレイン電極126’に電気的接続される。透明陽極105に適する材料は、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、アルミ・亜鉛酸化物(aluminum zinc oxide;AZO)、または酸化亜鉛(ZnO)などの透明な金属、または金属酸化物である。好ましくは、透明陽極105は、スパッタリング、電子ビーム蒸着、熱蒸発、または化学気相堆積によって形成される。
図2fに示すように、パターン化した画素定義層147は、基板の上に形成され、透明陽極105の表面148を露出する。前記表面148は、カラーフィルター層109の真上に位置する。画素定義層147の材料は、例えば、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂などの光電デバイスに用いるのに適する材料であることができる。
図2gに示すように、EL層160と陰極162は、基板120の上に順次に形成される。EL層160は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層と、電子輸送層を含むことができる。EL層160は、例えば、低分子材料、ポリマー、または有機金属錯体などの有機半導体材料を含み、真空熱蒸着、スピンコーティング、浸漬コーティング、ロールコーティング、注入充填、エンボス法、スタンプ法、物理気相成長法、または化学気相堆積によって形成される。陰極162は、有機EL層の中に電子を注入できる材料、例えば、Ca、Ag、Mg、Al、Li、またはそれらの合金などの低仕事関数材料であることができる。透明陽極105、EL層160と、陰極162は、カラーフィルター層109の真上に位置し、有機発光ダイオード170を構成する。
図3に示すように、本発明のもう1つの実施例に基づいて、有機EL素子の開口率を改善するために、ダム110がデータライン102とスキャンライン104の上に更に形成され、よって、カラーフィルター層の寸法を増加することができる。また、図4に示すように、各画素のダムが互いに接続し、格子状構造180を構成してダム110のパターン化の複雑さを簡易化することができる。
図5は、画像を表示するシステムのもう1つの実施例を概略的に表しており、この場合、表示パネル200または電子装置400として実施される。上述のアクティブマトリクス有機EL素子は、OLEDパネルであることができる表示パネルの中に組み込むことができる。図5に示すように、表示パネル200は、例えば、図1と図3に示すアクティブマトリクス有機EL素子100のアクティブマトリクス有機EL素子を含む。表示パネル200は、各種の電子装置(この場合、電子装置400)の一部を形成することができる。一般的に、電子装置400は、表示パネル200と入力ユニット300を含むことができる。また、入力ユニット300は、表示パネル200に動作可能に接続され、入力信号(e.g.画像信号)を表示パネル200に提供して画像を発生する。電子装置400は、携帯電話、デジタルカメラ、PDA、ノート型コンピュータ、デスクトップ型コンピュータ、テレビ、カーディスプレイ、または携帯型DVDプレーヤーなどであることができる。
以上、本発明の好適な実施例を例示したが、これは本発明を限定するものではなく、本発明の精神及び範囲を逸脱しない限りにおいては、当業者であれば行い得る少々の変更や修飾を付加することは可能である。従って、本発明が保護を請求する範囲は、特許請求の範囲を基準とする。
本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の部分上面概略図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法を表している断面図である。 本発明の実施例に基づいたアクティブマトリクスの有機エレクトロルミネッセント素子の部分上面概略図である。 本発明の実施例に基づいた有機エレクトロルミネッセント素子の上面概略図である。 画像表示システムのもう1つの実施例を概略的に表している。
符号の説明
100 EL発光素子
102 データライン
103 コンデンサ
104 スキャンライン
105 透明陰極
107 TFT
108 電力線
109 フィルター層
110 ダム
113 画素領域
114 ゲート誘電体層
115 絶縁層
120 基板
121 ゲート電極
123 誘電体層
124 半導体層
125 ソース領域
126 ドレイン領域
125’ ソース電極
126’ ドレイン電極
131 カラーフィルター領域
140 平坦層
145 ビアホール
147 画素定義層
148 陽極表面
160 EL層
162 陰極
170 有機発光ダイオード
180 格子状構造
200 表示パネル
300 入力ユニット
400 電子装置

Claims (19)

  1. エレクトロルミネッセント素子を含む画像表示システムであって、前記エレクトロルミネッセント素子は、
    複数の画素領域、
    前記各画素領域に形成されるインクジェットプリントカラーフィルター層、
    前記インクジェットプリントカラーフィルター層を囲むダム、
    前記インクジェットプリントカラーフィルター層と前記ダムの上に形成された平坦層、および
    前記インクジェットプリントカラーフィルター層109の真上の前記平坦層の上に形成される有機発光ダイオードを含むシステム。
  2. 前記ダムは、ポジ型フォトレジストで硬化される請求項1に記載のシステム。
  3. 前記ダムは、誘電体材料である請求項1に記載のシステム。
  4. 前記ダムと前記インクジェットプリントカラーフィルター層の間の高さ比は、3:1〜20:19である請求項1に記載のシステム。
  5. 前記ダムと前記インクジェットプリントカラーフィルター層の間の高さ比は、2:1〜4:3である請求項1に記載のシステム。
  6. 前記ダムの形状は、四辺形、錐形、または逆錐形である請求項1に記載のシステム。
  7. 前記ダムの真下にあるスキャンラインとデータラインを更に含む請求項1に記載のシステム。
  8. 前記複数の画素領域の前記ダムは、格子状構造を構成する請求項1に記載のシステム。
  9. 前記エレクトロルミネッセント素子は、前記表示パネルの一部を形成する請求項1に記載のシステム。
  10. 前記表示パネル、および
    前記表示パネルに動作可能に接続され、画像を表示するために前記表示パネルに入力を提供する入力ユニットを含む電子装置を更に含む請求項9に記載のシステム。
  11. 前記電子装置は、携帯電話、デジタルカメラ、PDA、ノート型コンピュータ、デスクトップ型コンピュータ、テレビ、カーディスプレイ、または携帯型DVDプレーヤーである請求項10に記載のシステム。
  12. エレクトロルミネッセント素子を含む画像表示システムの製造方法であって 、
    複数の画素領域を有する薄膜トランジスタアレイ基板を提供するステップ、
    前記各画素領域の上に、その一部の表面が既定のカラーフィルター領域として定義される絶縁層を形成するステップ、
    前記各既定のカラーフィルター領域を囲むダムを形成するステップ、
    インクジェットプリントによって既定のカラーフィルター領域にカラーフィルター層を形成するステップ、
    前記基板の上に平坦層を全面的に形成するステップ、
    前記カラーフィルター層の真上の前記平坦層の上に有機発光ダイオードを形成するステップを含む方法。
  13. 前記ダムは、ポジ型フォトレジストで硬化される請求項12に記載の方法。
  14. 前記ダムは、誘電体材料である請求項12に記載の方法。
  15. 前記ダムと前記インクジェットプリントカラーフィルター層の間の高さ比は、3:1〜20:19である請求項12に記載の方法。
  16. 前記ダムと前記インクジェットプリントカラーフィルター層の間の高さ比は、2:1〜4:3である請求項12に記載の方法。
  17. 前記ダムの形状は、四辺形、錐形、または逆錐形である請求項12に記載の方法。
  18. 前記薄膜トランジスタアレイ基板は、前記ダムの真下にある複数のスキャンラインとデータライン含む請求項12に記載の方法。
  19. 前記ダムは、格子状構造を構成する請求項12に記載の方法。
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