JP2007257775A - 狭幅の下部層を有する薄膜素子の製造方法及び該素子を備えた薄膜磁気ヘッド - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板の素子形成面に第1の膜を形成し、この第1の膜上に第2の膜を形成し、次いで、この第2の膜をトリミングした幅WUPを有する第2の層を形成し、その後、この第2の層を覆うように、第1の膜よりもエッチングレートが小さいマスク膜を形成し、次いで、第1の膜の少なくとも上部と第2の層を覆ったマスク膜とを一括してトリミングした、幅WUPよりも大きい幅WTRを有するパターンを形成し、その後又はそれと同時に、第2の層の幅WUPを変えずに第1の膜をトリミングすることによって、幅WUPよりも小さい幅WLOを有する、又は幅WUPよりも小さい幅WLOの部分を有する第1の層を形成する薄膜素子の製造方法が提供される。
【選択図】 図8
Description
下部磁極層及び第1の上部磁極層の飽和磁束密度が少なくとも2.0テスラ以上であり、
下部磁極層のトラック幅方向の幅WLOが記第1の上部磁極層及び第2の上部磁極層のトラック幅方向の幅WUPよりも小さくなっており、幅WUPと幅WLOとの差の半分ΔW/2=0.5(WUP−WLO)(μm)が、
TLP≦(42LG・tanθSK)−1・(a(ΔW/2)3+b(ΔW/2)2+c(ΔW/2)+d)(ここで、TLP(μm)は下部磁極層の厚さ、LG(μm)はギャップ層の厚さ、θSK(deg)はヘッドのトラックに対するスキュー角であり、a=3333355.0、b=−7500.0、c=14.0、及びd=0.1である。)の関係を満たす薄膜磁気ヘッドが提供される。
(1) TLP≦(42LG・tanθSK)−1・(a(ΔW/2)3+b(ΔW/2)2+c(ΔW/2)+d)
ここで、TLP(μm)は下部磁極層3401の厚さ、LG(μm)はギャップ層341の厚さ、θSK(deg)はヘッドのトラックに対するスキュー角であり、a=3333355.0、b=−7500.0、c=14.0、及びd=0.1である。
(1) TLP≦(42LG・tanθSK)−1・(a(ΔW/2)3+b(ΔW/2)2+c(ΔW/2)+d)
但し、a=3333355.0、b=−7500.0、c=14.0、及びd=0.1である。
11 スピンドルモータ
12 アセンブリキャリッジ装置
13 記録再生回路
14 駆動アーム
15 ボイスコイルモータ(VCM)
16 ピボットベアリング軸
17 ヘッドジンバルアセンブリ(HGA)
20 サスペンション
21 スライダ
210 スライダ基板
22 ロードビーム
23 フレクシャ
24 ベースプレート
25 配線部材
30 浮上面(ABS)
300 ヘッド端面
31 素子形成面
32 磁気ヘッド素子
33 MR効果素子
330 下部電極層
332 MR積層体
334 上部電極層
34、34′ 電磁コイル素子
340 下部磁性層
3400 下部ヨーク層
3401 下部磁極層
340′ 主磁極層
3400′ 主磁極主要層
3401′ 主磁極補助層
341、341′、50 ギャップ層
343、343′ コイル層
344、344′ コイル絶縁層
345 上部磁性層
3450 第1の上部磁極層
3451 第2の上部磁極層
3452 上部ヨーク層
3453 上部磁極層
3454 バックコンタクト磁極層
345′ 補助磁極層
3450′ トレーリングシールド部
35、36 信号端子電極
40、75 絶縁層
41、51 非磁性層
42 被覆層
45 バッキングコイル部
450 バッキングコイル層
451 バッキングコイル絶縁層
46 素子間シールド層
70、71、72、74、78 平坦化層
73 バックギャップ部
760 上部磁極層−ヨーク接合部
761 バックコンタクト磁極層−ヨーク接合部
762 コイル引き出し部
77 コイルリード層
80 下部ヨーク膜
81 下部磁極膜
82 ギャップ膜
83 第1の上部磁極膜
84 第2の上部磁極膜
85、94 非磁性マスク膜
86、95 パターン
90 第1の非磁性膜
91 主磁極膜
92 フォトレジストパターン膜
93 パターン
96 第2の非磁性膜
Claims (10)
- 基板の素子形成面に第1の膜を形成し、該第1の膜上に第2の膜を形成し、次いで、イオンビームエッチング又は反応性イオンエッチングを行って該第2の膜をトリミングした幅WUPを有する第2の層を形成し、その後、該第2の層を覆うように、該第1の膜よりもエッチングレートが小さいマスク膜を形成し、次いで、イオンビームエッチング又は反応性イオンエッチングを行って、該第1の膜の少なくとも上部と該第2の層を覆ったマスク膜とを一括してトリミングした、幅WUPよりも大きい幅WTRを有するパターンを形成し、その後又はそれと同時に、イオンビームエッチング又は反応性イオンエッチングによって該第2の層の幅WUPを変えずに該第1の膜をトリミングすることによって、幅WUPよりも小さい幅WLOを有する、又は幅WUPよりも小さい幅WLOの部分を有する第1の層を形成することを特徴とする、狭幅の下部層を有する薄膜素子の製造方法。
- 請求項1に記載された製造方法であって、前記第1の膜が下部磁性膜及び該下部磁性膜上に形成された非磁性材料からなるギャップ膜であり、前記第2の膜が上部磁極膜であり、前記マスク膜が非磁性材料からなる非磁性マスク膜であり、前記第1の層が下部磁性層及び該下部磁性層上に形成された非磁性材料からなるギャップ層であり、前記第2の層が上部磁極層であり、前記幅WUP、前記幅WTR及び前記幅WLOがトラック幅方向の幅であることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 請求項1に記載された製造方法であって、前記第1の膜が下部磁性膜であり、前記第2の膜が非磁性材料からなるギャップ膜及び該ギャップ膜上に形成された上部磁極膜であり、前記マスク膜が非磁性材料からなる非磁性マスク膜であり、前記第1の層が下部磁性層であり、前記第2の層が非磁性材料からなるギャップ層及び該ギャップ層上に形成された上部磁極層であり、前記幅WUP、前記幅WTR及び前記幅WLOがトラック幅方向の幅であることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記下部磁性膜が、下部ヨーク膜と、該下部ヨーク膜よりも飽和磁束密度の高い下部磁極膜とを順次積層して形成され、前記下部磁性層が、下部ヨーク層、及び該下部ヨーク層上に形成されており該下部ヨーク層よりも飽和磁束密度の高い下部磁極層であることを特徴とする請求項2又は3に記載の製造方法。
- 前記上部磁極膜が、第1の上部磁極膜と、該第1の上部磁極膜を電極としためっき法を用いて該第1の上部磁極膜上に形成された第2の上部磁極膜とから形成され、前記上部磁極層が、第1の上部磁極層、及び該第1の上部磁極層上に形成された第2の上部磁極層であることを特徴とする請求項2から4のいずれか1項に記載の製造方法。
- 基板の素子形成面に形成された第1の非磁性層上に、主磁極膜を形成し、該主磁極膜上に、マスクとなるフォトレジストパターン膜を形成し、次いで、イオンビームエッチング又は反応性イオンエッチングを行って該主磁極膜の少なくとも上部と該フォトレジストパターン膜とを一括してトリミングした、トラック幅方向の幅WTEを有する第1のパターンを形成し、その後、該第1のパターンを覆うように、該主磁極膜よりもエッチングレートが小さい非磁性材料からなる非磁性マスク膜を形成し、次いで、少なくとも該第1の非磁性層の上面に達するまでイオンビームエッチング又は反応性イオンエッチングを行って、該主磁極膜と該主磁極膜を取り囲んでいる非磁性マスク膜とを一括してトリミングした、幅WTEよりも大きいトラック幅方向の幅WPAを有する第2のパターンを形成し、その後又はそれと同時に、イオンビームエッチング又は反応性イオンエッチングによって該主磁極膜の幅WTEを有する上部を変えずに該第2のパターンをアンダーカットすることによって、ベベル角を有する主磁極層の側面と、幅WTEよりも小さいトラック幅方向の幅WLEを有する主磁極層の最下面とを形成し、次いで、アンダーカットされた該第2のパターンを覆うように第2の非磁性膜を形成し、その後、該第2の非磁性膜及び該主磁極膜の上部を研磨して、第1及び第2の非磁性層に囲まれた主磁極層を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記非磁性マスク膜が、Al2O3又はAlN膜であることを特徴とする請求項2から6のいずれか1項に記載の製造方法。
- 基板の素子形成面に形成された下部ヨーク層と、該下部ヨーク層のヘッド端面側の端部上に形成された下部磁極層と、第1の上部磁極層と、該第1の上部磁極層上に形成された第2の上部磁極層と、ヘッド端面側の端部が該第2の上部磁極層上に位置する上部ヨーク層と、ヘッド端面側の端部が該下部磁極層及び該第1の上部磁極層に挟持されたギャップ層と、少なくとも該下部ヨーク層及び該上部ヨーク層の間を通過するように形成されているコイル層とを有する電磁コイル素子を備えた薄膜磁気ヘッドであって、
前記下部磁極層及び前記第1の上部磁極層の飽和磁束密度が少なくとも2.0テスラ以上であり、
前記下部磁極層のトラック幅方向の幅WLOが、前記第1の上部磁極層及び前記第2の上部磁極層のトラック幅方向の幅WUPよりも小さくなっており、該幅WUPと該幅WLOとの差の半分ΔW/2=0.5(WUP−WLO)(μm)が、
TLP≦(42LG・tanθSK)−1・(a(ΔW/2)3+b(ΔW/2)2+c(ΔW/2)+d)(ここで、TLP(μm)は前記下部磁極層の厚さ、LG(μm)は前記ギャップ層の厚さ、θSK(deg)はヘッドのトラックに対するスキュー角であり、a=3333355.0、b=−7500.0、c=14.0、及びd=0.1である。)
の関係を満たすことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 請求項8に記載の薄膜磁気ヘッドと、該薄膜磁気ヘッドを支持する支持機構とを備えていることを特徴とするヘッドジンバルアセンブリ。
- 請求項9に記載のヘッドジンバルアセンブリを少なくとも1つ備えており、少なくとも1つの磁気記録媒体と、該少なくとも1つの磁気記録媒体に対して前記薄膜磁気ヘッドが行う書き込み及び読み出し動作を制御するための記録再生回路とをさらに備えていることを特徴とする磁気ディスク装置。
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