JP2005158192A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法、ならびに磁性層パターンの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 磁束の放出部分としての磁極部分層を形成する際に、開口33Kを画定する2つのフレーム部33R,33Lが互いに異なる幅を有するようにフォトレジストパターン33を形成し、そのフォトレジストパターン33を加熱してフレーム部33R,33Lを変形させることにより開口33Kの幅をシード層12に近づくにしたがって次第に狭めたのち、そのフォトレジストパターン33の開口33Kに前駆磁極部分層13AZを形成し、その前駆磁極部分層13AZを研磨してエアベアリング面を形成することにより、エアベアリング面に露出した露出面が左右非対象の逆台形状となるように磁極部分層を形成する。この露出面の形状的特徴的に基づき、サイドイレーズの発生抑制とオーバーライト特性の確保とが両立される。
【選択図】 図7
Description
Claims (12)
- 磁束を発生させる薄膜コイルと、媒体進行方向に移動する記録媒体に対向する記録媒体対向面から後方に向かって延在すると共に前記薄膜コイルにおいて発生した磁束を前記記録媒体に向けて放出する磁極部分を有する磁極層と、を備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
前記磁極層のうちの前記磁極部分を形成する工程が、
下地層上に、幅方向に対向配置されて開口を画定する第1および第2のフレーム部を有すると共にこれらの第1および第2のフレーム部が互いに異なる幅を有するように、フォトレジストパターンを形成する第1の工程と、
前記フォトレジストパターンを加熱して、前記下地層に近づくにしたがって次第に幅が広がるように前記第1および第2のフレーム部を変形させることにより、前記開口の幅を前記下地層に近づくにしたがって次第に狭まるようにする第2の工程と、
前記フォトレジストパターンを使用して、少なくとも前記開口に前記磁極部分を形成するための前駆磁極部分をパターン形成する第3の工程と、
前記フォトレジストパターンを除去する第4の工程と、
前記記録媒体対向面となる側から前記前駆磁極部分を研磨して前記記録媒体対向面を形成することにより、前記下地層上に、前記記録媒体対向面に露出した露出面を有するように前記磁極部分をパターン形成する第5の工程と、を含み、
前記露出面が、前記媒体進行方向側に位置して第1および第2の底角を規定する一方の端縁を互いに平行な一組の対辺のうちの長い方の対辺とし、かつ前記媒体進行方向側と反対側に位置する他方の端縁を前記一組の対辺のうちの短い方の対辺とすると共に、前記第1および第2の底角が互いに異なる角度を有する台形状となるように、前記磁極部分を形成する
ことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記幅方向において、前記第1のフレーム部に対応して前記第1の底角が位置すると共に、前記第2のフレーム部に対応して前記第2の底角が位置するようにし、
前記第1の工程において、前記第1のフレーム部が前記第2のフレーム部よりも小さい幅を有するように前記フォトレジストパターンを形成することにより、
前記第1の底角が前記第2の底角の角度よりも大きい角度を有するように前記磁極部分を形成する
ことを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記幅方向において、前記第1のフレーム部に対応して前記第1の底角が位置すると共に、前記第2のフレーム部に対応して前記第2の底角が位置するようにし、
前記第1の工程において、前記第1のフレーム部が前記第2のフレーム部よりも大きい幅を有するように前記フォトレジストパターンを形成することにより、
前記第1の底角が前記第2の底角の角度よりも小さい角度を有するように前記磁極部分を形成する
ことを特徴とする請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第3の工程において、前記開口と共に前記フォトレジストパターンの周辺領域に前記前駆磁極部分を形成し、
さらに、前記第4の工程と前記第5の工程との間に、
前記前駆磁極部分のうちの前記開口に形成された部分を覆うようにマスクを形成する第6の工程と、
前記マスクを使用して前記前駆磁極部分を選択的にエッチングすることにより、その前駆磁極部分のうちの前記周辺領域に形成された部分を除去すると共に前記開口に形成された部分を残存させる第7の工程と、
前記マスクを除去することにより、残存した前記前駆磁極部分を露出させる第8の工程と
を含むことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の工程において、前記下地層としてのシード層上に前記フォトレジストパターンを形成し、
前記第3の工程において、前記シード層を使用してめっき膜を成長させることにより前記前駆磁極部分を形成し、
さらに、前記第4の工程と前記第6の工程との間に、前記前駆磁極部分をマスクとして前記シード層を選択的にエッチングすることにより、そのシード層のうちの前記前駆磁極部分により覆われていない部分を除去すると共に前記前駆磁極部分により覆われている部分を残存させる第9の工程を含み、
前記第7の工程において、前記前駆磁極部分のうちの前記周辺領域に形成された部分と共に、前記シード層のうち、前記前駆磁極部分のうちの前記周辺領域に形成された部分により覆われている部分を併せて除去する
ことを特徴とする請求項4記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の工程において、化学増幅型のフォトレジストを使用して前記フォトレジストパターンを形成し、
前記第2の工程において、前記フォトレジストパターンを加熱しながらそのフォトレジストパターンに紫外線を照射することにより、前記第1および第2のフレーム部を変形させる
ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - さらに、前記第8の工程と前記第5の工程との間に、前記前駆磁極部分を両幅方向からエッチングすることにより、その前駆磁極部分の幅を狭める第10の工程を含む
ことを特徴とする請求項4ないし請求項6のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - さらに、前記第8の工程と前記第5の工程との間に、
前記前駆磁極部分およびその周辺領域を覆うように絶縁層を形成する第11の工程と、
前記絶縁層と共に前記前駆磁極部分を研磨して平坦化することにより、前記前駆磁極部分の周囲に前記絶縁層を埋設する第12の工程と
を含むことを特徴とする請求項4ないし請求項7のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 前記記録媒体をその表面と直交する方向に磁化させるための磁束を放出するように、前記磁極部分を形成する
ことを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - 所定の延在方向に延在する磁性層パターンの形成方法であって、
下地層上に、幅方向に対向配置されて開口を画定する第1および第2のフレーム部を有すると共にこれらの第1および第2のフレーム部が互いに異なる幅を有するように、フォトレジストパターンを形成する第1の工程と、
前記フォトレジストパターンを加熱して、前記下地層に近づくにしたがって幅が広がるように前記第1および第2のフレーム部を変形させることにより、前記開口の幅を前記下地層に近づくにしたがって次第に狭まるようにする第2の工程と、
前記フォトレジストパターンを使用して、前記開口に磁性層パターンを形成する第3の工程と、
前記フォトレジストパターンを除去する第4の工程と、を含み、
前記延在方向の端面が、第1および第2の底角を規定する一方の端縁を互いに平行な一組の対辺のうちの長い方の対辺とし、かつ前記一方の端縁に対向する他方の端縁を前記一組の対辺のうちの短い方の対辺とすると共に、前記第1および第2の底角が互いに異なる角度を有する台形状となるように、前記磁性層パターンを形成する
ことを特徴とする磁性層パターンの形成方法。 - 前記幅方向において、前記第1のフレーム部に対応して前記第1の底角が位置すると共に、前記第2のフレーム部に対応して前記第2の底角が位置するようにし、
前記第1の工程において、前記第1のフレーム部が前記第2のフレーム部よりも小さい幅を有するように前記フォトレジストパターンを形成することにより、
前記第1の底角が前記第2の底角の角度よりも大きい角度を有するように前記磁性層パターンを形成する
ことを特徴とする請求項10記載の磁性層パターンの形成方法。 - 前記幅方向において、前記第1のフレーム部に対応して前記第1の底角が位置すると共に、前記第2のフレーム部に対応して前記第2の底角が位置するようにし、
前記第1の工程において、前記第1のフレーム部が前記第2のフレーム部よりも大きい幅を有するように前記フォトレジストパターンを形成することにより、
前記第1の底角が前記第2の底角の角度よりも小さい角度を有するように前記磁性層パターンを形成する
ことを特徴とする請求項10記載の磁性層パターンの形成方法。
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