JP2007253566A - 凹凸状シートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】パターン構造の精度低下や剥離不良などの欠陥のない、高品質な凹凸状シートを製造する。
【解決手段】シートWの表面に、エンボスローラ13表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法である。帯状可撓性のシートWを連続走行させる工程と、このシートの表面に放射線硬化樹脂を塗布し塗布層を形成する工程と、シートを回転するエンボスローラに巻き掛け、塗布層にローラ表面の凹凸を転写する工程と、シートがローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し塗布層を硬化させる工程と、シートを凹凸ローラから剥離させる工程と、を含み、温度及び湿度がそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御されるケーシング40内部において転写から硬化、剥離までのプロセスを行うことにより、前記課題を解決する。
【選択図】 図1
【解決手段】シートWの表面に、エンボスローラ13表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法である。帯状可撓性のシートWを連続走行させる工程と、このシートの表面に放射線硬化樹脂を塗布し塗布層を形成する工程と、シートを回転するエンボスローラに巻き掛け、塗布層にローラ表面の凹凸を転写する工程と、シートがローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し塗布層を硬化させる工程と、シートを凹凸ローラから剥離させる工程と、を含み、温度及び湿度がそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御されるケーシング40内部において転写から硬化、剥離までのプロセスを行うことにより、前記課題を解決する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、凹凸状シートの製造方法に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を、欠陥なく高品質で製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法に関する。
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている(特許文献1〜6参照)。
たとえば、図6に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ1の表面に塗布手段2で樹脂を塗布し、連続走行されるシート3をスタンパーローラ1とニップローラ4とで挟み、スタンパーローラ1の樹脂をシート3に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート3をリリースローラ5に巻き掛けてスタンパーローラ1より剥離させる内容が開示されている。
また、図7に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート3の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート3を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ1とニップローラ4とで挟み、スタンパーローラ1の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート3をリリースローラ5に巻き掛けてスタンパーローラ1より剥離させる内容が開示されている。
特開平11−262958号公報
特開平11−300768号公報
特開2001−314815号公報
特開2002−67057号公報
特開2002−365405号公報
特開2001−314815号公報
しかしながら、既述の特許文献1〜6には、転写から硬化、剥離までのプロセスにおける雰囲気条件について言及しているものはない。このようなプロセスが行われる雰囲気の温度や湿度の変動範囲が大きいと、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などによる欠陥が生じやすくなるという問題がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などによる欠陥のない、良好な品質の状態で製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、前記目的を達成するために、シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、帯状可撓性のシート状体を連続走行させるシート走行工程と、連続走行している前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布し塗布層を形成する塗布工程と、連続走行している前記シート状体を回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記塗布層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写する転写工程と、連続走行している前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し前記塗布層を硬化させる硬化工程と、連続走行している前記シート状体を前記凹凸ローラから剥離させる剥離工程と、を含み、前記転写工程、前記硬化工程、及び前記剥離工程をケーシング内部で行い、前記ケーシング内部の温度及び湿度をそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御することを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。
本発明によれば、温度及び湿度がそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御されるケーシング内部で転写から硬化、剥離までのプロセスが行われるので、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などによる欠陥のない、品質の良好な凹凸状シートを製造することができる。
なお、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン(エンボス形状用が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン(エンボス形状)が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
本発明において、前記ケーシング内部は給排気がなされ、フィルタにより除塵された空気が前記ケーシング内部に供給されることが好ましい。クリーンな環境下で転写から硬化、剥離までのプロセスを行うことができ、良好な品質の凹凸状シートを製造することができる。
また、本発明において、前記ケーシング内部の気圧を外部の気圧よりも高くすることが好ましい。ケーシング内部の温度及び湿度が、ケーシングの隙間を介してケーシング外部の雰囲気より影響を受けるのを防ぐことができ、ケーシング内部の温度及び湿度の制御をより安定した状態で行うことができる。
また、本発明において、前記凹凸ローラ内部に冷却水を供給することが好ましい。放射線照射による凹凸ローラの加熱を抑えることができ、凹凸ローラを一定の温度に維持することができる。これにより、ケーシング内部の温度及び湿度の制御をより安定した状態で行うことができる。
また、本発明において、前記放射線硬化樹脂が紫外線硬化樹脂であり、前記放射線が紫外線であることが好ましい。また、前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが100μm以下であることが好ましい。また、前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることが好ましい。
本発明によれば、温度及び湿度がそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御されるケーシング内部で転写から硬化、剥離までのプロセスが行われるので、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などによる欠陥のない、品質の良好な凹凸状シートを製造することができる。
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図1は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置10の構成を示す構成図である。
このエンボスシートの製造装置10は、シート供給手段11と、塗布手段12と、乾燥手段19と、凹凸ローラであるエンボスローラ13と、ニップローラ14と、樹脂硬化手段15と、剥離ローラ16と、欠陥検査手段21と、保護フィルム供給手段17と、シート巻き取り手段18等とより構成される。そして、シート状体であるシートWが、上流側(シート供給手段11)より下流側(シート巻き取り手段18)まで、ガイドローラG、G…に支持されて搬送されるようになっている。
シート状体供給手段であるシート供給手段11は、シート状体であるシートWを送り出すもので、シートWが巻回された送り出しロール等より構成される。
シート供給手段11と塗布手段12との間には、第1のサクションドラム24が設けられている。この第1のサクションドラム24は、後述する第2のサクションドラム26と同様に、シートWを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートWを連続走行させる手段である。シートWの吸引保持は、ドラムの外周面に形成された多数の孔からの吸引による構成でもよく、ドラムの外周面に形成された複数の溝により保持する構成(グルーブドサクションドラム)でもよい。
第1のサクションドラム24の下流には、除塵機28が設けられている。この除塵機28により、シートWの表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。除塵機28の形式としては、静電除塵された乾燥エアを吹き付けるタイプのものや、図示のように、粘着ローラにシートWを巻き掛けるタイプのもの等、公知の各種のタイプが採用できる。
塗布手段12は、シートWの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源と、液供給装置(送液ポンプ)と(以上、図示略)、塗布ヘッド12Cと、塗布の際にシートWを巻き掛けて支持する支持ローラ12Dと、液供給源より塗布ヘッド12Cまで放射線硬化樹脂液を供給するための図示しない配管等より構成される。なお、塗布ヘッド12Cとしては、ダイコータ(エクストルージョン方式のコータ)の塗布ヘッドが採用されている。
乾燥手段19は、たとえば図1に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートWに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
図1に示される乾燥手段19は、4ブロックのトンネル状装置に分割されており、上流側より、第1ブロック19A、第2ブロック19B、第3ブロック19C、第4ブロック19Dの順で配されており、個別に温度設定ができるようになっている。
エンボスローラ13としては、シートWの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ13としては、金属製のローラが好ましい。
エンボスローラ13の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。エンボスローラ13の概略断面図を図2に示す。
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をXY方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ13の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
エンボスローラ13の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ13の表面をダイヤモンドバイト(シングルポイント)で切削加工する方法、エンボスローラ13の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ13とする方法が採用できる。
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ13とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、1つの原盤(マザー)より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
エンボスローラ13の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ13の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ13には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ13は、図示の矢印ように、時計方向(CW)に回転する。
ニップローラ14は、エンボスローラ13と対になってシートWを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ14表面の縦弾性係数(ヤング率)は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ14には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ14は、反時計方向(CCW)に回転する。
エンボスローラ13とニップローラ14との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ13とニップローラ14のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ13とニップローラ14との隙間(クリアランス)を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ13とニップローラ14のいずれかに設けることが好ましい。
樹脂硬化手段15は、ニップローラ14の下流側においてエンボスローラ13に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段15は、光照射によってシートWを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光(放射線)を照射でき、シートWの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段15として、たとえば、シートWの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。なお、図1では、円柱状照射ランプを筐体内部に配したランプハウスが2組配されている。
剥離ローラ16は、エンボスローラ13と対になってエンボスローラ13からシートWを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ13の周面上に巻き掛けられたシートWを回転するエンボスローラ13と剥離ローラ16とで挟みながら、シートWをエンボスローラ13から剥離させて剥離ローラ16に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ16には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ16は、反時計方向(CCW)に回転する。
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートWを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ16に冷却手段を設ける構成も採用できる。
なお、図示は省略したが、エンボスローラ13の押圧箇所(3時の位置)から剥離箇所(9時の位置)までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ13とでシートWを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
エンボスローラ13、ニップローラ14、樹脂硬化手段15、及び剥離ローラ16はケーシング(筐体)40内部に配置され、ケーシング40に形成されるスリット状の2つの開口(不図示)を介してシートWがケーシング40内部を通過するように構成されている。これにより、樹脂層が表面に形成されたシートWを、回転するエンボスローラ13に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ13表面の凹凸を転写し、シートWがエンボスローラ13に巻き掛けられている状態で樹脂層に放射線を照射し樹脂層を硬化させ、シートWをエンボスローラ13より剥離する、所謂、転写から硬化、剥離までのプロセスがケーシング40内部で行われる。
本発明において、ケーシング40内部の温度及び湿度をそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御することを特徴としている。転写から硬化、剥離までのプロセスが行われる雰囲気の温度や湿度の変動が大きいと、樹脂の硬化速度や粘度、ロールの表面状態、剥離に要する力などにばらつきが生じてしまい、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などによる欠陥が生じやすくなる。このため、ケーシング40内部の温度及び湿度を制御する際には、これらの変動範囲を小さく抑えるようにすることが好ましく、目標温度の±2℃、目標湿度の±3%RHの変動範囲で制御することがより好ましく、目標温度の±1℃、目標湿度の±2%RHの変動範囲で制御することが更に好ましい。
また、放射線照射によりオゾンなどが発生することから、ケーシング40内部は給排気がなされ、フィルタにより除塵された空気がケーシング40内部に吸気されることが好ましく、ケーシング内部40が清浄度クラス1000以下となるように吸気されることがより好ましい。クリーンな雰囲気の中で転写から硬化、剥離までのプロセスを行うことができ、良好な品質の製品を製造することができる。なお、フィルタとしては、例えば、HEPAやULPAなどを採用できる。
また、ケーシング40内部の気圧を外部の気圧よりも高くすることが好ましく、ケーシング40内部の気圧を1.01〜1.2気圧にすることがより好ましい。ケーシング40の隙間(例えば、シートWを通過させるための開口など)を介して、ケーシング40内部から外部に対する空気の流れができるので、ケーシング40内部の温度及び湿度を制御する際、ケーシング40外部の雰囲気から影響を受けにくくなり、より安定した状態で制御を行うことが可能となる。
また、エンボスローラ13の内部に冷却水を供給することが好ましい。例えば、ロータリージョイントを利用して冷却水をエンボスローラ13内部に供給する方式を採用することができる。放射線照射によってエンボスローラ13が加熱される場合があるが、冷却水によってエンボスローラ13を一定の温度に維持することができる。これにより、ケーシング40内部の温度及び湿度の制御をより安定した状態で行うことができる。なお、冷却水に代えて、他の冷媒を採用することも可能である。
剥離ローラ16の下流側には、欠陥検査手段21が配されている。このような欠陥検査手段21により、シートWに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。欠陥検査手段21の形式としては、公知の各種タイプの検査装置(たとえば、CCD撮像装置)が使用できる。
欠陥検査手段21の下流側には、張力制御手段であるダンサーローラ30が配されている。このダンサーローラ30は、固定ローラ30A及び30Bと、固定ローラ30A、30Bの間に設けられた移動ローラ30Cにより構成される。そして、移動ローラ30Cの昇降動作によりシートWの張力が制御されるようになっている。
ダンサーローラ30の下流側には、第2のサクションドラム26が配されている。この第2のサクションドラム26は、既述したように、第1のサクションドラム24と同様に、シートWを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートWを連続走行させる手段である。
第2のサクションドラム26の下流側には、エッジ位置制御手段(エッジポジションコントローラ)32が配されている。このエッジ位置制御手段32は、連続走行しているシートWの幅方向の端部位置を検出してシートWの幅方向位置を制御する装置である。
このエッジ位置制御手段32は、固定ローラ32A及び32Bと、固定ローラ32A、32Bの間に設けられた傾斜ローラ32C及び32Dにより構成される。そして、図示しないエッジ位置センサ(たとえば、レーザ方式の位置センサ)の検出結果により、シートWの幅方向位置が正規に位置になるように、傾斜ローラ32C及び32Dの傾斜動作によりシートWの幅方向位置が制御されるようになっている。
シート巻き取り手段18は、剥離後のシートWを収納するもので、シートWを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段18において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段17より供給される保護フィルムHがシートWの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段18に収納される。
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートWとしては、樹脂フィルム、紙(レジンコーティッド紙、合成紙、等)、金属箔(アルミニウムウェブ等)等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、PET(ポリエチレンテレフタレート)、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
シートWの幅としては、0. 1〜3mが、シートWの長さとしては、1000〜100000mが、シートWの厚さとしては、1〜300μmのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
これらのシートWは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートWの表面粗さRaはカットオフ値0.25mmにおいて3〜10nmが好ましい。
また、シートWには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートWとして1層構成のもののみならず、2層以上の構成のものも採用できる。また、シートWは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
本発明に使用可能な樹脂は(メタ)アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
特に硬化の速さからは、(メタ)アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも(メタ)アクリレ−ト、ウレタン(メタ)アクリレ−ト、エポキシ(メタ)アクリレ−ト、ポリエステル(メタ)アクリレ−トなどの(メタ)アクロイル基含有化合物が好ましい。
この(メタ)アクロイル基含有化合物としては(メタ)アクロイル基が1個あるいは2個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
このような、(メタ)アクロイル基含有化合物としては、たとえば、(メタ)アクロイル基含有化合物を1個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、へキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートが挙げられる。
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキシドを反応させたp−クミルフェノールの(メタ)アクリレート、2−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,6−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスM113、M110、M101、M102、M5700、TO−1317(以上、東亞合成(株)製)、ビスコート#192、#193、#220、3BM(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルAMP−10G、AMP−20G(以上、新中村化学工業(株)製)、ライトアクリレートPO−A、P−200A、エポキシエステルM−600A、ライトエステルPO(以上、共栄社化学(株)製)、ニューフロンティアPHE、CEA、PHE−2、BR−30、BR−31、BR−31M、BR−32(以上、第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。
また、(メタ)アクリロイル基を分子中に2つ有する不飽和モノマーとしては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート#700、#540(以上、大阪有機化学工業(株)製)、アロニックスM−208、M−210(以上、東亞合成(株)製)、NKエステルBPE−100、BPE−200、BPE−500、A−BPE−4(以上、新中村化学(株)製)、ライトエステルBP−4EA、BP−4PA、エポキシエステル3002M、3002A、3000M、3000A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARAD R−551、R−712(以上、日本化薬(株)製)、BPE−4、BPE−10、BR−42M(以上、第一工業製薬(株)製)、リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子(株)製)、ネオポールV779、ネオポールV779MA(日本ユピカ(株)製)等が挙げられる。
更に、3官能以上の(メタ)アクリレート不飽和モノマ−としては、3価以上の多価アルコールの(メタ)アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスM305、M309、M310、M315、M320、M350、M360、M408(以上、東亞合成(株)製)、ビスコート#295、#300、#360、GPT、3PA、#400(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルTMPT、A−TMPT、A−TMM−3、A−TMM−3L、A−TMMT(以上、新中村化学(株)製)、ライトアクリレートTMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARAD PET−30、GPO−303、TMPTA、TPA−320、DPHA、D−310、DPCA−20、DPCA−60(以上、日本化薬(株)製)等が挙げられる。
加えてウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン(メタ)アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール;コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ(無水)フタル酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール;ポリε−カプロラクトン変性ポリオール;ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール;エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールA、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA等のビスフェノールA骨格アルキレンオキシド変性ポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールF、プロピレンオキシド付加ビスフェノールF等のビスフェノールF骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートから製造されるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
これらウレタン(メタ)アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスM120、M−150、M−156、M−215、M−220、M−225、M−240、M−245、M−270(以上、東亞合成(株)製)、AIB、TBA、LA、LTA、STA、ビスコート#155、IBXA、ビスコート#158、#190、#150、#320、HEA、HPA、ビスコート#2000、#2100、DMA、ビスコート#195、#230、#260、#215、#335HP、#310HP、#310HG、#312(以上、大阪有機化学工業(株)製)、ライトアクリレートIAA、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DMP−A、THF−A、IB−XA、HOA、HOP−A、HOA−MPL、HOA−MPE、ライトアクリレート3EG−A、4EG−A、9EG−A、NP−A、1,6HX−A、DCP−A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARADTC−110S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620(以上、日本化薬(株)製)、FA−511A、512A、513A(以上、日立化成(株)製)、VP(BASF製)、ACMO、DMAA、DMAPAA(以上、興人(株)製)等が挙げられる。
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート、(b)有機ポリイソシアネート及び(c)ポリオールの反応物として得られるものであるが、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートと(b)有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで(c)ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばIrgacure184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI11850、CG24−61、Darocurl116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、LucirinLR8728、8893X(以上BASF社製)、ユベクリルP36(UCB社製)、KIP150(ランベルティ社製)等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはLucirinLR8893Xが好ましい。
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、0.01〜10重量%、特に0.5〜7重量%配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
ここで、酸化防止剤としては、たとえばIrganox1010、1035、1076、1222(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Antigen P、3C、FR、GA−80(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばTinuvin P、234、320、326、327、328、329、213(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Seesorb102、103、110、501、202、712、704(以上、シプロ化成(株)製)等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばTinuvin 292、144、622LD(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、サノールLS770(三共(株)製)、Sumisorb TM−061(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、SH6062、6030(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KBE903、603、403(以上、信越化学工業(株)製)等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはDC−57、DC−190(以上、ダウ コーニング社製)、SH−28PA、SH−29PA、SH−30PA、SH−190(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KF351、KF352、KF353、KF354(以上、信越化学工業(株)製)、L−700、L−7002、L−7500、FK−024−90(以上、日本ユニカー(株)製)、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはFC−430、FC−171(以上、3M(株)製)、メガファックF−176、F−177、R−08、F780(以上、大日本インキ(株)製)等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフA208F(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
したがって、有機溶剤の沸点としては50°C以上、150°C以下が好ましく、70°C以上、120°C以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン(bp.79.6°C)、1−プロパノール(bp.97.2°C)などが好ましい。
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、10重量%以上、40重量%以下の範囲であり、好ましくは15重量%以上、30重量%以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常10〜50000mPa・s/25°Cである。
シートWやエンボスローラ13に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、10〜100mPa・sが好ましく、10〜50mPa・sがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ13で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は10〜3000mPa・sである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ13で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ13で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性(屈折率、軟化点)を有するものであることが特に好ましい。
屈折率としては、硬化物の25°Cにおいて1.55以上が好ましく、1.56以上がより好ましい。硬化物の25°Cにおける屈折率が1.55未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
軟化点としては、40°C以上が好ましく、50°C以上がより好ましい。軟化点が40°C未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
次に、図1に戻って、エンボスシートの製造装置10の作用について説明する。シート状体供給手段11より、一定速度でシートWを送り出す。シートWは第1のサクションドラム24に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。次いで、シートWは除塵機28へ送り込まれ、シートWの表面に付着した塵が取り除かれる。
次いで、シートWは塗布手段12へ送り込まれ、シートWの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段19によりシートWに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。このように、シートWをエンボスローラ13に巻き掛けて硬化させる前に、この塗布層に含まれる溶剤を乾燥させる工程を設けているために、添加した溶剤が硬化後も残ることによる製品の機能劣化や硬化膜の強度劣化の心配はない。同様に、製品使用中に溶剤が放出されて悪臭を発生したり、健康に悪影響を与えたりする心配もない。
次いで、シートWはエンボスローラ13とニップローラ14からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートWを、エンボスローラ13の3時の位置において、回転するエンボスローラ13とニップローラ14とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートWを、回転するエンボスローラ13に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ13表面の凹凸を転写する。
次いで、シートWがエンボスローラ13に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段15によりシートWを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ13の9時の位置において、シートWを剥離ローラ16に巻き掛けることによりエンボスローラ13から剥離する。
なお、図1には示していないが、シートWを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
樹脂層が表面に形成されたシートWを、回転するエンボスローラ13に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ13表面の凹凸を転写し、シートWがエンボスローラ13に巻き掛けられている状態で樹脂層に放射線を照射し樹脂層を硬化させ、シートWをエンボスローラ13より剥離する一連のプロセスは、既述のとおり、ケーシング40内部で行われる。このとき、ケーシング40内部の温度及び湿度はそれぞれ目標値に対し所定の変動範囲で制御が行われているので、形成されるパターンの構造変化や剥離不良などによる欠陥のない、良好な品質の製品を製造することができる。
剥離されたシートWは、欠陥検査手段21に搬送され、シートWに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査される。このような欠陥検査手段21により、シートWに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。
次いで、シートWはダンサーローラ30に搬送され、固定ローラ30A、30Bの間に設けられた移動ローラ30Cの昇降動作によりシートWの張力が制御される。このようなダンサーローラ30(張力制御手段)によりシートWの張力を制御するので、シートWの走行速度が安定し、転写形状が良好となる。
次いで、シートWは第2のサクションドラム26に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。
次いで、シートWはエッジ位置制御手段32に搬送され、シートWの幅方向位置が制御される。本発明の凹凸状シートは、シート表面に微細なパターンを形成するため、シート搬送時の寄りや変動があると、非常に敏感に欠陥発生につながるが、このように、シート状体の幅方向位置を制御することができれば、上記の欠陥発生を有効に防止できる。
次いで、シートWは、シート巻き取り手段18に搬送され、保護フィルム供給手段17より供給される保護フィルムHがシートWの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段18の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。このようなシートWの完成後の概略断面形状を図3に示す。シートWの表面には、エンボスローラ13表面の凹凸が転写された樹脂層Fが形成されている。
この巻き取りロールにより巻き取られ、収納された完成後のシートWを一連の工程の後にオフラインで製品サイズに裁断することもできる。このような完成後のシートWは光学フイルムとして好ましく使用される。
以上説明した本実施の形態によれば、上流側からの一連の工程により、連続走行しているシートWの表面に放射線硬化樹脂を塗布し、このシートWをエンボスローラ13に巻き掛け表面の凹凸を転写している状態で放射線を照射して塗布層を硬化させ、このシートWをエンボスローラ13から剥離し、片面又は両面に保護フイルムHをラミネートし、ロール状に巻き取る。したがって、一連の工程で巻き取りまで行えるので、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
特に、温度及び湿度がそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御されるケーシング40内部で転写から硬化、剥離までのプロセスが行われるため、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などによる欠陥のない、良好な品質の製品を製造することができる。
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ13を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン(エンボス形状)が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[樹脂液の調整]
図4の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、50°Cに加熱して攪拌溶解し、樹脂液(塗布液)を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
[樹脂液の調整]
図4の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、50°Cに加熱して攪拌溶解し、樹脂液(塗布液)を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
EB3700:エベクリル3700、ダイセルUC(株)製、
ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート、
(粘度:2200mPa・s/65°C)
BPE200:NKエステルBPE−200、新中村化学(株)製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールAメタクリル酸エステル、
(粘度:590mPa・s/25°C)
BR−31 :ニューフロンティアBR−31、第一工業製薬工業(株)製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
(常温で固体、融点50°C以上)
LR8893X:Lucirin LR8893X、BASF(株)製の北ラジカル発生剤、
エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
MEK :メチルエチルケトン
[エンボスシートの製造]
図1に示される構成のエンボスシートの製造装置10を使用してエンボスシートの製造を行った。
ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート、
(粘度:2200mPa・s/65°C)
BPE200:NKエステルBPE−200、新中村化学(株)製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールAメタクリル酸エステル、
(粘度:590mPa・s/25°C)
BR−31 :ニューフロンティアBR−31、第一工業製薬工業(株)製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
(常温で固体、融点50°C以上)
LR8893X:Lucirin LR8893X、BASF(株)製の北ラジカル発生剤、
エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
MEK :メチルエチルケトン
[エンボスシートの製造]
図1に示される構成のエンボスシートの製造装置10を使用してエンボスシートの製造を行った。
シートWとして、幅500mm、厚さ100μmの透明なPET(ポリエチレンテレフタレート)のフィルムを使用した。
エンボスローラ13として、長さ(シートWの幅方向)が700mm、直径が300mmのS45C製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略500mm幅の全周に、ダイヤモンドバイト(シングルポイント)を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが50μmの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が90度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない90度の三角形状である。すなわち、溝幅は50μmであり、溝深さは約25μmである。この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ13により、シートWに断面が三角形のレンチキュラーレンズ(プリズムシート)が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。
塗布手段12としてダイコータを使用した。塗布手段12の塗布ヘッド12Cとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。
既述の図4の表に記載の塗布液F(樹脂液)を使用した。
塗布液F(樹脂液)の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が20μmになるように、塗布ヘッド12Cへの塗布液Fの供給量を液供給装置(送液ポンプ)12Bにより制御した。
乾燥手段19として、熱風循環方式の装置を用いた。塗布後の乾燥条件(熱風の温度等)により、塗布液F中の溶剤濃度を調整した。
ニップローラ14として、直径が200mmで、表面にゴム硬度が90のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ13とニップローラ14とでシートWを押圧するニップ圧(実効のニップ圧)は、0.5Paとした。
樹脂硬化手段15として、メタルハライドランプを使用し、1000mJ/cm2のエネルギーで照射を行った。
ケーシング40に形成されるスリット状の開口(シート通過用)は、長辺がシート幅より左右5mmずつ長く(即ち、シート幅+10mm)、短辺がシート厚みより上下5mmずつ長く(即ち、シート厚み+10mm)で設定されている。もちろん、スリット状開口部の構造は、開口サイズを調整できるようになっている。
以上により、図5の表に示されるケーシング40内部の温度及び湿度の制御条件にて各実施例及び比較例のサンプル(凹凸パターンが形成されたシートW)を製造した。
[パターン形状の評価]
まず、評価1として、得られたシートWを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をSEM(走査型電子顕微鏡)を使用して測定することによりパターン形状(プリズム形状)の評価を行い、以下のように判定した。エンボスローラ13の表面形状を再現しているものを○と、若干変形があるもの(1μm未満)を△と、かなり変形があるもの(1μm以上)を×と、3段階で評価した。
まず、評価1として、得られたシートWを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をSEM(走査型電子顕微鏡)を使用して測定することによりパターン形状(プリズム形状)の評価を行い、以下のように判定した。エンボスローラ13の表面形状を再現しているものを○と、若干変形があるもの(1μm未満)を△と、かなり変形があるもの(1μm以上)を×と、3段階で評価した。
また、評価2として、凹凸パターンの複数個所における表面を目視で観察し、以下のような判定も行った。欠陥が5個/m2 以下のものをAと、欠陥が6〜19個/m2 のものをBと、欠陥が20個/m2 以上のものをCと、3段階で評価した。
以下、上記の製造方法にてケーシング40内部の温度及び湿度の制御の有無を変えてエンボスシートを作製した評価結果を図5の表にまとめる。
図5の表によれば、ケーシング40内部の温度及び湿度の制御を目標温度(23℃)の±1℃、目標湿度(60%)の±2%で行った実施例1は、パターン形状の評価結果が○及びAとかなり良好な結果を得られた。また、実施例1と同様の制御において、目標温度(23℃)の±2℃、目標湿度(60%)の±4%で行った実施例2においても、パターン形状の評価結果が○〜△及びAと良好な結果を得られた。
これに対し、ケーシング40内部の温度及び湿度の制御を行わず、温度が20〜25℃、湿度が50〜70%の範囲で変動した比較例1は、パターン形状の評価結果が△〜×及びBであり、総合評価はNGである。また、比較例1と同様に、ケーシング40内部の温度及び湿度の制御を行わず、温度が18〜27℃、湿度が40〜80%の範囲で変動した比較例2は、パターン形状の評価結果が×及びB〜Cと更に悪く、総合評価はNGである。
以上の結果より、本発明の方法を用いることにより、形成されるパターン構造の精度低下や剥離不良などの欠陥のない、高品質な凹凸状シートを製造することができるという本発明の効果が確認できた。
10…エンボスシートの製造装置、11…シート供給手段、12…塗布手段、13…エンボスローラ、14…ニップローラ、15…樹脂硬化手段、16…剥離ローラ、17…保護フィルム供給手段、18…シート巻き取り手段、21…欠陥検査手段、24…第1のサクションドラム、26…第2のサクションドラム、28…除塵機、30…ダンサーローラ、32…エッジ位置制御手段、40…ケーシング、H…保護フィルム、W…シート
Claims (7)
- シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、
帯状可撓性のシート状体を連続走行させるシート走行工程と、
連続走行している前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布し塗布層を形成する塗布工程と、
連続走行している前記シート状体を回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記塗布層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写する転写工程と、
連続走行している前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し前記塗布層を硬化させる硬化工程と、
連続走行している前記シート状体を前記凹凸ローラから剥離させる剥離工程と、を含み、
前記転写工程、前記硬化工程、及び前記剥離工程をケーシング内部で行い、
前記ケーシング内部の温度及び湿度をそれぞれ目標値に対する所定の変動範囲で制御することを特徴とする凹凸状シートの製造方法。 - 前記ケーシング内部は給排気がなされ、フィルタにより除塵された空気が前記ケーシング内部に供給されることを特徴とする請求項1に記載の凹凸状シートの製造方法。
- 前記ケーシング内部の気圧を外部の気圧よりも高くすることを特徴とする請求項1又は2に記載の凹凸状シートの製造方法。
- 前記凹凸ローラ内部に冷却水を供給することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の凹凸状シートの製造方法。
- 前記放射線硬化樹脂が紫外線硬化樹脂であり、前記放射線が紫外線であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の凹凸状シートの製造方法。
- 前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが100μm以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の凹凸状シートの製造方法。
- 前記凹凸状シートが光学フィルムとして使用されることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の凹凸状シートの製造方法。
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