JP2007118448A - 凹凸状シートの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】シートＷの表面に、エンボスローラ１３表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法である。帯状可撓性のシートＷを連続走行させる工程と、連続走行しているシートＷの表面より異物を除去する工程と、連続走行しており異物が除去されたシートＷ状体の表面に放射線硬化樹脂を塗布し塗布層を形成する工程と、シートを回転するエンボスローラに巻き掛け、塗布層にローラ表面の凹凸を転写する工程と、シートがローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し塗布層を硬化させる工程と、シートを凹凸ローラから剥離させる工程を含む。
【選択図】 図１

Description

本発明は、凹凸状シートの製造方法に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法に関する。

近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている（特許文献１〜３等参照）。

たとえば、図７に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１の表面に塗布手段２で樹脂を塗布し、連続走行されるシート３をスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の樹脂をシート３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている。

また、図８に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート３の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート３を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ１とニップローラ４とで挟み、スタンパーローラ１の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３をリリースローラ５に巻き掛けてスタンパーローラ１より剥離させる内容が開示されている。
特開平１１−２６２９５８号公報 特開平１１−３００７６８号公報 特開２００５−５３０３９号公報

しかしながら、光学シートの製造に適用されるこのようなエンボスシートの生産ラインにおいて、塵埃等の汚染により品質が低下し、また、歩留りが低下するという問題点がある。

特に、スタンパーローラ１の凹凸パターン形状をシート３に転写させる前に、シート３の表面に、微小なゴミ（塵埃）等が付着すると、製品の中にゴミが埋め込まれてしまい、光学特性や品質に大きな影響を及ぼす。少なくとも、スタンパーローラ１によって、シート３の表面にパターンが形成されるまでは、最大限、ゴミを除去しておかなければならない。

ゴミ付着の態様としては、以下の場合が考えられる。

１）シートに元々付着していたゴミ
２）放射線硬化樹脂に元々含まれていたゴミ
３）ローラの駆動に使用されるモータなどから発生するゴミ
４）走行するシートとローラとの滑りによって、シート表面が削られることにより発生するゴミ（特にシートのローラに対するラップ角が小さく、かつ、回転駆動されないローラ上を走行するシートの場合に多い）
これに対処すべく、たとえば既述の特許文献３には、粘着ローラによりシート上のゴミを除去する構成が開示されている。ところが、このような粘着ローラのみでは微小なゴミ（塵埃）等の付着を防止することは非常に困難であり、品質の低下や歩留りの低下は避け難い。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法を提供することを目的とする。

本発明は、前記目的を達成するために、シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、帯状可撓性のシート状体を連続走行させる工程と、連続走行している前記シート状体の表面より異物を除去する工程と、連続走行しており異物が除去された前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂を塗布し塗布層を形成する工程と、連続走行している前記シート状体を、回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記塗布層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写する工程と、連続走行している前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し前記塗布層を硬化させる工程と、連続走行している前記シート状体を前記凹凸ローラから剥離させる工程と、を含むことを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。

本発明によれば、上流側からの一連の工程により、連続走行しているシート状体の表面に放射線硬化樹脂を塗布し、このシート状体を凹凸ローラに巻き掛け表面の凹凸を転写している状態で放射線を照射して塗布層を硬化させ、このシート状体を凹凸ローラから剥離し、片面又は両面に保護フイルムをラミネートし、ロール状に巻き取る。したがって、一連の工程で巻き取りまで行えるので、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造することができる。

特に、シート状体の表面より異物を除去する工程の後に放射線硬化樹脂の塗布がなされるので、微小なゴミ（塵埃）等の付着を防止することが容易であり、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造できる。

なお、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン（エンボス形状用が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。

本発明において、前記シート状体の表面より異物を除去する工程において、乾式又は湿式の洗浄装置を使用することが好ましい。このように、異物の除去に乾式又は湿式の洗浄装置を使用すれば、微小なゴミ（塵埃）等の除去が容易にできる。

なお、乾式の洗浄装置とは、いわゆるドライ洗浄の装置であり、たとえば不活性ガス方式、蒸気方式、プラズマ方式、紫外線方式、その他の方式（粘着ローラ方式等）等の装置であり、湿式の洗浄装置の洗浄装置とは、たとえば溶剤方式、洗剤方式、超純水方式等の装置である。

また、本発明において、塗布前の前記放射線硬化樹脂をポア径１０μｍ未満のフィルタ手段により濾過することが好ましい。このようなフィルタリングにより、放射線硬化樹脂に元々含まれていたゴミが効果的に除去できる。なお、フィルタリングは、樹脂液の供給（塗布）の際に行ってもよいし（オンライン方式）、事前に別タンク等で行ってもよい（オフライン方式）。

また、本発明において、前記シート状体を連続走行させる工程において、前記シート状体をローラ部材により支持し、前記シート状体の巻き掛け角度が２０度未満となる前期ローラ部材に駆動手段を設け、前期ローラ部材の周速度を前記シート状体の走行速度と一致させることが好ましい。

このように、シート状体の巻き掛け角度が小さいローラ部材に駆動手段を設け、ローラ部材の周速度をシート状体と同期させれば、走行するシート状体とローラとの滑りによって、シート表面が削られることにより発生するゴミはなくなる。

また、本発明において、前記塗布層を形成する工程をクラス１０００未満の清浄度に維持するとともに、前記各工程をクラス５０００未満の清浄度に維持することが好ましい。このように、塗布工程を良好なクリーン度に維持するのみならず、工程全体を良好なクリーン度に維持することにより凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造できる。

また、本発明において、前記各工程において、発塵箇所を囲いで覆って密閉状態とし、該囲い内部を吸引手段に連通させて減圧状態とすることが好ましい。このように、発塵箇所を囲いで覆い、かつ減圧状態とすれば、工程内への発塵はなくなり、ローラの駆動に使用されるモータなどから発生するゴミはなくなる。

また、本発明において、前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることが好ましい。また、本発明において、前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることが好ましい。

以上説明したように、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造することができる。

以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す構成図である。

このエンボスシートの製造装置１０は、シート状体供給手段１１と、除塵機２８と、洗浄装置２２と、塗布手段１２と、乾燥手段１９と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、欠陥検査手段２１と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８等とより構成される。そして、シート状体であるシートＷが、上流側（シート状体供給手段１１）より下流側（シート巻き取り手段１８）まで、ガイドローラＧ、Ｇ…に支持されて搬送されるようになっている。

なお、上記の装置（手段）のうち、除塵機２８と洗浄装置２２は、シートＷ（シート状体）の表面より異物を除去する工程に該当する。

シート状体供給手段であるシート供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。

シート供給手段１１と塗布手段１２との間には、第１のサクションドラム２４が設けられている。この第１のサクションドラム２４は、後述する第２のサクションドラム２６と同様に、シートＷを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートＷを連続走行させる手段である。シートＷの吸引保持は、ドラムの外周面に形成された多数の孔からの吸引による構成でもよく、ドラムの外周面に形成された複数の溝により保持する構成（グルーブドサクションドラム）でもよい。

第１のサクションドラム２４の下流には、除塵機２８が設けられている。この除塵機２８により、シートＷの表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。除塵機２８の形式としては、静電除塵された乾燥エアを吹き付けるタイプのものや、図示のように、粘着ローラにシートＷを巻き掛けるタイプのもの等、公知の各種のタイプが採用できる。なお、この除塵機２８は乾式の洗浄装置の一種である。

洗浄装置２２としては、乾式又は湿式の洗浄装置を使用することができる。このうち、乾式の洗浄装置とは、いわゆるドライ洗浄の装置であり、たとえば不活性ガス方式、蒸気方式、プラズマ方式、紫外線方式、その他の方式（粘着ローラ方式等）等の装置であり、湿式の洗浄装置の洗浄装置とは、たとえば溶剤方式、洗剤方式、超純水方式等の装置である。

ドライ洗浄装置のうち、不活性ガス方式は、パーティクル除去の高度化やランニングコストの低減に特に優れており、たとえば、超低温のアルゴン微粒子を使用するものが挙げられる。

ドライ洗浄装置のうち、蒸気方式は、洗浄の高度化やランニングコストの低減に特に優れており、たとえば、湿式（ウェット）洗浄と組み合わせて使用するものが挙げられる。

ドライ洗浄装置のうち、プラズマ方式は、有機物除去の高度化やランニングコストの低減に特に優れており、たとえば、大気圧に開放しない方式の装置や、大気圧付近でのプラズマ洗浄のものが挙げられる。

ドライ洗浄装置のうち、紫外線方式は、有機物除去の高度化やランニングコストの低減に特に優れており、たとえば、紫外線の波長や発生源に特徴をもたせたものや、雰囲気ガスに特徴をもたせたものが挙げられる。

塗布手段１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源と、液供給装置（送液ポンプ）と（以上、図示略）、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、液供給源より塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための図示しない配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。

乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。

図１に示される乾燥手段１９は、４ブロックのトンネル状装置に分割されており、上流側より、第１ブロック１９Ａ、第２ブロック１９Ｂ、第３ブロック１９Ｃ、第４ブロック１９Ｄの順で配されており、個別に温度設定ができるようになっている。

エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。

エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。エンボスローラ１３の概略断面図を図２に示す。

製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。

エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。

その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。

エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。

ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。

エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。

樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。なお、図１では、円柱状照射ランプを筐体内部に配したランプハウスが２組配されている。

剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。

なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６に冷却手段を設ける構成も採用できる。

なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（３時の位置）から剥離箇所（９時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。

剥離ローラ１６の下流側には、欠陥検査手段２１が配されている。このような欠陥検査手段２１により、シートＷに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。欠陥検査手段２１の形式としては、公知の各種タイプの検査装置（たとえば、ＣＣＤ撮像装置）が使用できる。

欠陥検査手段２１の下流側には、張力制御手段であるダンサーローラ３０が配されている。このダンサーローラ３０は、固定ローラ３０Ａ及び３０Ｂと、固定ローラ３０Ａ、３０Ｂの間に設けられた移動ローラ３０Ｃにより構成される。そして、移動ローラ３０Ｃの昇降動作によりシートＷの張力が制御されるようになっている。

ダンサーローラ３０の下流側には、第２のサクションドラム２６が配されている。この第２のサクションドラム２６は、既述したように、第１のサクションドラム２４と同様に、シートＷを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートＷを連続走行させる手段である。

第２のサクションドラム２６の下流側には、エッジ位置制御手段（エッジポジションコントローラ）３２が配されている。このエッジ位置制御手段３２は、連続走行しているシートＷの幅方向の端部位置を検出してシートＷの幅方向位置を制御する装置である。

このエッジ位置制御手段３２は、固定ローラ３２Ａ及び３２Ｂと、固定ローラ３２Ａ、３２Ｂの間に設けられた傾斜ローラ３２Ｃ及び３２Ｄにより構成される。そして、図示しないエッジ位置センサ（たとえば、レーザ方式の位置センサ）の検出結果により、シートＷの幅方向位置が正規に位置になるように、傾斜ローラ３２Ｃ及び３２Ｄの傾斜動作によりシートＷの幅方向位置が制御されるようになっている。

シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。

次に、エンボスシートの製造装置１０におけるゴミ除去の手段について説明する。なお、このうち既述の除塵機２８と洗浄装置２２の説明は省略する。

エンボスシートの製造装置１０の全体は、清浄度クラス５０００未満のクリーンルーム内に設置されている。また、洗浄装置２２と塗布手段１２は更にクリーンベンチ内に設置されており、清浄度クラス１０００未満の状態が確保されている。このように、塗布工程を良好なクリーン度に維持するのみならず、工程全体を良好なクリーン度に維持することにより凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造できる。

また、塗布前の放射線硬化樹脂はポア径１０μｍ未満のフィルタ手段により濾過される。このようなフィルタリングにより、放射線硬化樹脂に元々含まれていたゴミが効果的に除去できる。なお、フィルタリングは、樹脂液の供給（塗布）の際に行ってもよいし（オンライン方式）、事前に別タンク等で行ってもよい（オフライン方式）。

また、シートＷを連続走行させる工程の部材である既述のガイドローラＧ、Ｇ…において、シートＷの巻き掛け角度が２０度未満となるガイドローラＧに駆動手段を設け、ガイドローラＧの周速度をシートＷの走行速度と一致させている。

このように、シートＷの巻き掛け角度が小さいガイドローラＧ、たとえば乾燥手段１９内部のガイドローラＧ、Ｇ…に駆動手段を設け、ガイドローラＧ、Ｇ…の周速度をシートＷと同期させているので、走行するシートＷとガイドローラＧ、Ｇ…との滑りによって、シート表面が削られることにより発生するゴミはなくなる。

また、各工程において、発塵箇所（たとえば、モータ）を図示しない囲いで覆って密閉状態とし、この囲い内部を吸引手段に連通させて減圧状態とし、これより吸引したエアを屋外に排出している。このように、発塵箇所を囲いで覆い、かつ減圧状態としてあるので、工程内への発塵はなくなり、ローラの駆動に使用されるモータなどから発生するゴミはなくなる。

次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。

シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。

これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。

また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。

本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。

特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。

この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。

このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。

更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。

また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。

ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。

更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。

加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。

これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。

ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。

以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。

光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。

光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。

本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。

更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。

ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上 ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、Ｆ780（以上 大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。

本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。

有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。

ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。

したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。

本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。

しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。

本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。

シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。

特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。

一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は１０〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。

本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。

屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５５以上が好ましく、１．５６以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５５未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。

軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。

次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。シート状体供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは第１のサクションドラム２４に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。次いで、シートＷは除塵機２８へ送り込まれ、シートＷの表面に付着した塵が取り除かれる。更に、シートＷは洗浄装置２２へ送り込まれ、シートＷの表面に付着した塵や汚染が取り除かれる。

次いで、シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、所定量の溶剤分が蒸発する。

次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の３時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。

次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の９時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。

なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。

剥離されたシートＷは、欠陥検査手段２１に搬送され、シートＷに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査される。このような欠陥検査手段２１により、シートＷに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。

次いで、シートＷはダンサーローラ３０に搬送され、固定ローラ３０Ａ、３０Ｂの間に設けられた移動ローラ３０Ｃの昇降動作によりシートＷの張力が制御される。このようなダンサーローラ３０（張力制御手段）によりシートＷの張力を制御するので、シートＷの走行速度が安定し、転写形状が良好となる。

次いで、シートＷは第２のサクションドラム２６に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。

次いで、シートＷはエッジ位置制御手段３２に搬送され、シートＷの幅方向位置が制御される。本発明の凹凸状シートは、シート表面に微細なパターンを形成するため、シート搬送時の寄りや変動があると、非常に敏感に欠陥発生につながるが、このように、シート状体の幅方向位置を制御することができれば、上記の欠陥発生を有効に防止できる。

次いで、シートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。このようなシートＷの完成後の概略断面形状を図３に示す。シートＷの表面には、エンボスローラ１３表面の凹凸が転写された樹脂層Ｆが形成されている。

この巻き取りロールにより巻き取られ、収納された完成後のシートＷを一連の工程の後にオフラインで製品サイズに裁断することもできる。このような完成後のシートＷは光学フイルムとして好ましく使用される。

以上説明した本実施の形態によれば、上流側からの一連の工程により、連続走行しているシートＷの表面に放射線硬化樹脂を塗布し、このシートＷをエンボスローラ１３に巻き掛け表面の凹凸を転写している状態で放射線を照射して塗布層を硬化させ、このシートＷをエンボスローラ１３から剥離し、片面又は両面に保護フイルムＨをラミネートし、ロール状に巻き取る。したがって、一連の工程で巻き取りまで行えるので、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。

特に、シートＷの表面より異物を除去する工程である除塵機２８及び洗浄装置２２の後に放射線硬化樹脂の塗布がなされ、また、各種のゴミ除去の施策が導入されているので、微小なゴミ（塵埃）等の付着を防止することが容易であり、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ生産性よく製造できる。

以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。

たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。

以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

［樹脂液の調整］
図４の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、樹脂液を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。

ＥＢ３７００：エベクリル３７００、ダイセルＵＣ（株）製、
ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート、
（粘度：２２００ｍＰａ・ｓ／６５°Ｃ）
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、
（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＢＲ−３１ ：ニューフロンティアＢＲ−３１、第一工業製薬工業（株）製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
（常温で固体、融点５０°Ｃ以上）
ＬＲ８８９３Ｘ：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の光ラジカル発生剤、
エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＭＥＫ ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。

シートＷとして、幅５００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。

エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ１３の概略断面図は既述の図２に示される。

塗布手段１２としてダイコータを使用した。塗布手段１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。

塗布液Ｆ（樹脂液）として、既述の図４の表に記載の液を使用し各実施例および比較例のサンプルの製造を行った。

塗布液Ｆ（樹脂液）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が２０μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液Ｆの供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。

乾燥手段１９として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は１００°Ｃに設定した。

ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。

樹脂硬化手段１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーで照射を行った。

以上により、後述する図６の表に示された各実施例及び比較例に対応する、凹凸パターンが形成されたシートＷを得た。

［エンボス形状の評価］
このシートＷを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して測定することによりエンボス形状の評価を行った。シートＷ（エンボスシート）の概略断面形状は既述の図３に示されている。

［硬化膜物性の評価］
下記に示すような方法にて別途硬化膜を作成し、硬化膜物性を測定した。

［屈折率の測定］
スピナーを用いてガラス板上に液状硬化性組成物を塗布し、１００°Ｃに設定したオーブンにて１分間乾燥させた。この膜に、窒素雰囲気の下で、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の強度の紫外線を照射して硬化膜を得た。アッベ屈折計を用いて、この硬化膜の２５°Ｃにおける屈折率を測定した。

［Ｔｇ（ガラス転移点）の測定］
スピナーを用いてガラス板上に液状硬化性組成物を塗布し、１００°Ｃに設定したオーブンにて１分間乾燥させた。この膜に、窒素雰囲気の下で、１０００ｍＪ／ｃｍ^２の強度の紫外線を照射して、膜厚が約２０μｍの硬化膜を得た。このガラス板上の硬化膜を振子型粘弾性測定器（オリエンテック（株）製、型番：ＤＤＶ−ＯＰＡ）により、昇温混速度５°Ｃ／分にて振り子粘弾性測定を行い、対数減衰曲線が最大値を示す温度をＴｇとした。

なお、振り子粘弾性測定の原理については、一般の成書に記載されているが、たとえば、技術情報協会編「高分子・熱 熱物性分析ノウハウ集」第１版、Ｐ２８７、「剛体振り子型粘弾性装置による高分子系複合材の粘弾性評価」の項に記載されている。

以下、エンボスシートを作製した結果を図５の表に示す。また、上記の評価方法に基づき屈折率及びＴｇを測定した。この結果も図５の表に示す。図５の表によれば、実施例及び比較例において、ゴミ起因の欠陥以外のエンボス形状の評価結果に差は生じなかった。

［ゴミ除去対策及びその評価結果］
既述したゴミ除去対策を下記のように施し、上記の条件で各実施例（実施例１〜４）と比較例の試料を作成し、シートＷの面積１００ｍ^２あたりに発生したゴミ起因の欠陥数をカウントした。結果を図６の表に示す。

実施例１：エンボスシートの製造装置１０において、洗浄装置２２として粘着ローラを使用した。

実施例２：エンボスシートの製造装置１０において、シート状体供給手段１１から剥離ローラ１６までの各工程をクラス１０００未満の清浄度に維持した。

実施例３：エンボスシートの製造装置１０において、シート状体供給手段１１から剥離ローラ１６までの各工程をクラス１００未満の清浄度に維持した。

実施例４：エンボスシートの製造装置１０において、シート状体供給手段１１から剥離ローラ１６までの各工程をクラス１００未満の清浄度に維持し、かつ、洗浄装置２２として粘着ローラを使用した。

比較例１：実施例１〜４のゴミ除去対策は施さなかった。

以上の結果より、各ゴミ除去対策を施すことにより、面状ムラがなく表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ、生産性よく製造することができるという本発明の効果が確認できた。

本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す図 エンボスローラの概要を示す断面図 エンボスシートの概要を示す断面図 樹脂液の調合を示す表 実施例の条件及び結果を示す表 実施例及び比較例の欠陥数を示す表 従来例のエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図 従来例のエンボスシートの製造装置の他の構成を示す概念図

符号の説明

１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給手段、１２…塗布手段、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、２１…欠陥検査手段、２２…洗浄装置、２４…第１のサクションドラム、２６…第２のサクションドラム、２８…除塵機、３０…ダンサーローラ、３２…エッジ位置制御手段、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート

Claims (8)

1. シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、
   帯状可撓性のシート状体を連続走行させる工程と、
   連続走行している前記シート状体の表面より異物を除去する工程と、
   連続走行しており異物が除去された前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂を塗布し塗布層を形成する工程と、
   連続走行している前記シート状体を、回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記塗布層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写する工程と、
   連続走行している前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し前記塗布層を硬化させる工程と、
   連続走行している前記シート状体を前記凹凸ローラから剥離させる工程と、
   を含むことを特徴とする凹凸状シートの製造方法。
2. 前記シート状体の表面より異物を除去する工程において、乾式又は湿式の洗浄装置を使用することを特徴とする請求項１に記載の凹凸状シートの製造方法。
3. 塗布前の前記放射線硬化樹脂をポア径１０μｍ未満のフィルタ手段により濾過することを特徴とする請求項１又は２に記載の凹凸状シートの製造方法。
4. 前記シート状体を連続走行させる工程において、前記シート状体をローラ部材により支持し、前記シート状体の巻き掛け角度が２０度未満となる前期ローラ部材に駆動手段を設け、前期ローラ部材の周速度を前記シート状体の走行速度と一致させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
5. 前記塗布層を形成する工程をクラス１０００未満の清浄度に維持するとともに、前記各工程をクラス５０００未満の清浄度に維持することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
6. 前記各工程において、発塵箇所を囲いで覆って密閉状態とし、該囲い内部を吸引手段に連通させて減圧状態とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
7. 前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
8. 前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
   

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