JP2007250283A - Method of manufacturing plasma display panel, and plasma display panel - Google Patents

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JP2007250283A JP2006070043A JP2006070043A JP2007250283A JP 2007250283 A JP2007250283 A JP 2007250283A JP 2006070043 A JP2006070043 A JP 2006070043A JP 2006070043 A JP2006070043 A JP 2006070043A JP 2007250283 A JP2007250283 A JP 2007250283A
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太郎 直井
Kosuke Masuda
耕輔 増田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a plasma display panel which provides stable quality by preventing charge of static electricity caused by ejection of a cutting material in cutting work. <P>SOLUTION: In an electrode forming process to form address electrodes 121 and extraction electrodes 310, the extraction parts 320 are formed at the location of the non-display region 132 of a work with the interval of a region 140 wider than the width dimension between adjacent address electrodes 121 in a display region 131 between, by collectively forming the extraction electrodes 310. The extraction electrodes 310 located in the region 140 of the adjacent extraction parts 320 are connected to one address electrode 121 in the display region 131, and formed with the extraction electrodes 310 branched form the address electrode 121. A potential difference becomes 0 V between the extraction parts 320 by the extraction electrodes 310 connected to the address electrode 121, inconvenience caused by charge of static electricity at the time of sand blasting can be prevented with a simple structure. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、切削材を噴射して被加工体をサンドブラスト加工するプラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to a plasma display panel manufacturing method and a plasma display panel in which a workpiece is sandblasted by jetting a cutting material.

従来、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:PDP)は、一対の平面基板同士が放電空間を介して互いに対向配置され、一方の平面基板の内面上に井桁状もしくはストライプ状の隔壁を設けている。このことにより、PDPは、放電空間が複数個の放電セルに区画される。そして、PDPは、複数個の放電セル内で選択的に放電発光させることにより画像表示を行う装置である。
このようなPDPは、隔壁を形成する際、精度の点からサンドブラスト法により形成されることが多くなっている。サンドブラスト法によって隔壁を形成する場合、あらかじめ基板上にアドレス電極を形成しておき、この基板上にガラスペーストなどを塗布して隔壁材料層を形成し、この上に隔壁のパターンに対応するレジストマスクを被覆する。そして、レジストマスクおよび隔壁材料層が形成された基板に対して、切削材を含んだドライエアを噴射ノズルから噴射することにより、隔壁材料層のレジストマスクに覆われていない部分を除去し、次いでレジストマスクを剥離してから基板を焼成する手順が採られている。
そして、サンドブラスト法によって隔壁を形成する場合に隔壁の形状精度を向上させつつレジストパターンの剥離作業を容易化・確実化させる製造方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1に記載のものは、隣り合ったアドレス電極の外部接続端子部分同士の間隔が他の間隔よりも広く設定した幅広間隙を設け、レジストパターンで外部接続端子部分を被覆する際に、レジストパターンのうち、幅広間隙を覆う部分に、スリット状の切欠を形成する構成が採られている。また、外部接続端子部分同士の他の間隔よりも広い間隔の部分として、駆動回路接続用の間隙も設けている。
Conventionally, in a plasma display panel (PDP), a pair of planar substrates are arranged to face each other via a discharge space, and a grid-like or striped partition is provided on the inner surface of one planar substrate. As a result, the PDP has a discharge space partitioned into a plurality of discharge cells. The PDP is an apparatus that displays an image by selectively discharging light in a plurality of discharge cells.
Such a PDP is often formed by a sandblasting method from the point of accuracy when the partition is formed. When a partition is formed by sandblasting, an address electrode is previously formed on a substrate, a glass paste or the like is applied on the substrate to form a partition material layer, and a resist mask corresponding to the partition pattern is formed thereon. Coating. A portion of the partition wall material layer not covered with the resist mask is removed by spraying dry air containing a cutting material from the spray nozzle onto the substrate on which the resist mask and the partition wall material layer are formed. A procedure for firing the substrate after removing the mask is employed.
And when forming a partition by the sandblasting method, the manufacturing method which makes the peeling operation | movement of a resist pattern easy and reliable, improving the shape precision of a partition is known (for example, refer patent document 1).
The one described in Patent Document 1 is provided with a wide gap in which the interval between the external connection terminal portions of the adjacent address electrodes is set wider than other intervals, and when the external connection terminal portion is covered with a resist pattern, In the resist pattern, a slit-shaped cutout is formed in a portion covering the wide gap. In addition, a gap for connecting the drive circuit is provided as a portion having a wider interval than other intervals between the external connection terminal portions.

特開2003−281996号公報JP 2003-281996 A

ところで、サンドブラスト法では、加工時に静電気が発生することが問題となる。一般に、静電気は、物質同士の接触圧力が大きい程、物質同士が接触してから乖離するまでの時間が短い程、あるいは、環境中の湿度が低い程、発生し易くなる。サンドブラスト法により隔壁を形成する場合は、高い噴射圧力で隔壁材料層に切削材を衝突させるために、切削材の噴射にドライエアを使用するので、静電気が発生し易くなり、この静電気が基板の品質に悪影響を与えるおそれがある。
そして、特許文献1に記載のような隣接する外部接続端子部分間の間隔が表示領域における隣接するアドレス電極間の間隔より広い間隙を有する従来のPDP、すなわち、例えば図1に示すような駆動回路接続用の間隙501のように、表示領域514における隣接するアドレス電極511間の間隔より隣接する外部接続端子512間の間隔が広い部分が存在すると、外部接続端子512が集合する領域520と、幅広い領域である間隙501とでは、帯電状態に差が生じる。このことにより、領域520と領域(間隙)501のエッジ部分により静電気による帯電が発生し易い。すなわち、領域520における領域501側に隣接する最端側の外部接続端子512、すなわち領域(間隙)501を介して隣接する外部接続端子512に電荷が一番発生し易い。そして、表示領域514におけるアドレス電極511の間隔が領域(間隙)501の幅寸法より幅狭であることから、アドレス電極511の方が発生した電荷の影響を受け易い。
すなわち、外部接続端子512のエッジ部分で発生した電荷は、アドレス電極511に伝わり、間隙が狭いアドレス電極511同士の部分で残留することとなり、サンドブラストにより隔壁の残渣が電荷の残留する部分に発生したり、残留する電荷により隣接するアドレス電極511間で放電して隔壁材料層の一部が破壊されてピンホールが発生しアドレス電極511が露出するという不具合が生じるなど、隔壁やリブの欠陥が生じるおそれがある問題点が一例として挙げられる。
By the way, the sandblasting method has a problem that static electricity is generated during processing. In general, static electricity is more likely to be generated as the contact pressure between materials increases, the time from contact between the materials to separation becomes shorter, or the humidity in the environment decreases. When partition walls are formed by the sandblasting method, since the cutting material collides with the partition material layer at a high spray pressure, dry air is used to inject the cutting material. May be adversely affected.
A conventional PDP in which the interval between adjacent external connection terminal portions as described in Patent Document 1 is wider than the interval between adjacent address electrodes in the display region, that is, a drive circuit as shown in FIG. When there is a portion where the interval between the adjacent external connection terminals 512 is wider than the interval between the adjacent address electrodes 511 in the display area 514, such as the connection gap 501, the area 520 where the external connection terminals 512 are gathered is wide. There is a difference in the charged state from the gap 501 that is the region. As a result, charging due to static electricity is likely to occur due to the edge portions of the region 520 and the region (gap) 501. That is, electric charge is most likely to be generated in the external connection terminal 512 adjacent to the region 501 side in the region 520, that is, the external connection terminal 512 adjacent through the region (gap) 501. The address electrode 511 in the display area 514 is narrower than the width dimension of the area (gap) 501, so that the address electrode 511 is more susceptible to the generated charges.
That is, the charges generated at the edge portion of the external connection terminal 512 are transmitted to the address electrodes 511 and remain in the portions between the address electrodes 511 having a narrow gap, and the residue of the partition wall is generated in the portion where the charges remain due to sandblasting. In other words, defects such as barrier ribs or ribs may occur, such as a discharge between adjacent address electrodes 511 due to residual charges and a part of the barrier rib material layer being destroyed to cause pin holes and exposing the address electrodes 511. One possible problem is an example.

本発明は、このような実情などに鑑みて、切削材の噴出による切削加工における静電気の帯電を防止し安定した品質を提供するプラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネルを提供することを1つの目的とする。   In view of such circumstances, the present invention provides a method for manufacturing a plasma display panel and a plasma display panel that provide a stable quality by preventing electrostatic charging in cutting processing by ejecting cutting material. Objective.

請求項1に記載の発明は、基板上に複数の電極を形成する電極形成工程と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に絶縁体層を形成する絶縁体層形成工程と、前記基板の絶縁体層上に隔壁材料層を形成するとともに、この隔壁材料層上に隔壁パターンに対応した開口を有するマスクを順次形成し、切削材の噴射により前記マスクの開口を介して前記隔壁材料層を切削加工して隔壁を形成する隔壁形成工程と、を実施するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極形成工程では、前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で前記電極の外部接続される引出電極を複数形成して引出電極群の集合体に構成するとともに、隣接する前記引出電極群間の間隙側に位置する前記引出電極同士を前記表示領域内で接続する状態に前記電極を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。   The invention according to claim 1 is an electrode forming step for forming a plurality of electrodes on a substrate, and an insulator layer for forming an insulator layer in a region corresponding to a display region on the surface of the substrate on which the electrodes are formed Forming a partition wall material layer on the insulator layer of the substrate, and sequentially forming a mask having openings corresponding to the partition wall pattern on the partition wall material layer, and cutting the mask openings by spraying a cutting material; A partition wall forming step of forming a partition wall by cutting the partition wall material layer, wherein the electrode forming step includes: A plurality of extraction electrodes that are externally connected to the electrodes are formed in a non-display area outside the display area at an interval wider than the distance between the electrodes in the display area to form an assembly of extraction electrode groups. Both a method of manufacturing a plasma display panel, characterized in that the lead electrodes are positioned in the gap side to form the electrode in a state of connecting with the display area between adjacent said extraction electrode group.

請求項2に記載の発明は、基板上に複数の電極を形成する電極形成工程と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に絶縁体層を形成する絶縁体層形成工程と、前記基板の絶縁体層上に隔壁材料層を形成するとともに、この隔壁材料層上に隔壁パターンに対応した開口を有するマスクを順次形成し、切削材の噴射により前記マスクの開口を介して前記隔壁材料層を切削加工して隔壁を形成する隔壁形成工程と、を実施するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極形成工程では、前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に形成され前記電極の外部接続される引出電極のうちのいずれかを、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で前記表示領域の位置から対をなして分岐して形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。   According to a second aspect of the present invention, there is provided an electrode forming step of forming a plurality of electrodes on a substrate, and an insulator layer for forming an insulator layer in a region corresponding to a display region on the surface of the substrate on which the electrodes are formed Forming a partition wall material layer on the insulator layer of the substrate, and sequentially forming a mask having openings corresponding to the partition wall pattern on the partition wall material layer, and cutting the mask openings by spraying a cutting material; A partition wall forming step of forming a partition wall by cutting the partition wall material layer, wherein the electrode forming step includes: Any one of the extraction electrodes formed in a non-display area outside the display area and externally connected to the electrode is arranged at a position wider than the distance between the electrodes in the display area. It is formed by branching in pairs from a method of manufacturing a plasma display panel according to claim.

請求項6に記載の発明は、基板上に形成される複数の電極と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に形成される絶縁体層と、前記基板の前記絶縁体層上に形成され前記表示領域内に複数の放電セルを区画形成する隔壁と、を備えたプラズマディスプレイパネルであって、前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に形成され前記電極の外部接続される引出電極が、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で複数のブロック状の引出電極群に集合する状態で、かつ、複数の前記電極のうち隣接する前記引出電極群間の間隙側に位置する前記引出電極同士が前記表示領域内で接続する状態に形成されたことを特徴としたプラズマディスプレイパネルである。   According to a sixth aspect of the present invention, there are provided a plurality of electrodes formed on a substrate, an insulator layer formed in a region corresponding to a display region on a surface of the substrate where the electrodes are formed, and the substrate A plasma display panel comprising a partition wall formed on an insulator layer and defining a plurality of discharge cells in the display region, wherein the plasma display panel has a surface outside the display region on the surface on which the electrode is formed. In a state where the extraction electrodes formed in the non-display area and externally connected to the electrodes are gathered into a plurality of block-shaped extraction electrode groups at intervals wider than the distance between the electrodes in the display area, and a plurality of In the plasma display panel, the extraction electrodes positioned on the gap side between the adjacent extraction electrode groups among the electrodes are connected to each other in the display region.

請求項7に記載の発明は、基板上に形成される複数の電極と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に形成される絶縁体層と、前記基板の前記絶縁体層上に形成され前記表示領域内に複数の放電セルを区画形成する隔壁と、を備えたプラズマディスプレイパネルであって、前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に形成され前記電極の外部接続される引出電極のうちのいずれかが、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で前記表示領域の位置から対をなして分岐する状態に形成されたことを特徴としたプラズマディスプレイパネルである。   According to a seventh aspect of the present invention, there are provided a plurality of electrodes formed on a substrate, an insulator layer formed in a region corresponding to a display region on a surface of the substrate on which the electrodes are formed, and the substrate A plasma display panel comprising a partition wall formed on an insulator layer and defining a plurality of discharge cells in the display region, wherein the plasma display panel has a surface outside the display region on the surface on which the electrode is formed. Any one of the lead electrodes formed in the non-display area and externally connected to the electrodes branches in pairs from the position of the display area at an interval wider than the distance between the electrodes in the display area It is the plasma display panel characterized by being formed in this.

以下、本発明の実施の一形態を図面に基づいて説明する。
図2は、本実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルの内部構造を示す一部を切り欠いた分解斜視図である。図3は、本実施の形態におけるプラズマディスプレイパネルを製造する製造方法の隔壁を形成する際に、切削材を噴射して切削加工するサンドブラスト加工を実施するサンドブラスト装置を示す概略構成図である。図4は、サンドブラスト加工する背面基板となるワークを示す一部を省略した平面図である。図5は、ワークの非表示領域近傍の電極パターンを概略的に示す平面図である。図6は、プラズマディスプレイパネルを構成する背面基板の形成のためにサンドブラスト加工するワークを示す一部を切り欠いた斜視図である。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 is an exploded perspective view with a part cut away showing the internal structure of the plasma display panel in the present exemplary embodiment. FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a sand blasting apparatus that performs sand blasting by injecting a cutting material when forming a partition wall of the manufacturing method for manufacturing the plasma display panel according to the present embodiment. FIG. 4 is a plan view in which a part of the work to be the back substrate to be sandblasted is omitted. FIG. 5 is a plan view schematically showing an electrode pattern in the vicinity of the non-display area of the workpiece. FIG. 6 is a perspective view with a part cut away showing a workpiece to be sandblasted to form a back substrate constituting the plasma display panel.

〔プラズマディスプレイパネルの構成〕
図2において、100はプラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel:PDP)で、このPDP100は、放電空間101を介して前面基板110と背面基板120とが対向配置されている。
前面基板110の内面側には、複数の透明電極111、複数のバス電極112、複数のブラックストライプ113、誘電体層114および保護膜115がそれぞれ設けられている。
背面基板120の内面側には、この背面基板120上に複数のアドレス電極121がそれぞれ平行に設けられ、これらアドレス電極121を覆うように背面基板120の内面側に絶縁体層であるアドレス電極保護層122が設けられ、さらにこのアドレス電極保護層122上にストライプ形状の隔壁123が設けられ、これら隔壁123により、複数個の放電セル124が区画形成される。
複数個の放電セル124の内部には、それぞれ赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の蛍光体層(125R、125G、125B)が順に形成されている。放電空間101の内部、すなわちそれぞれの放電セル124の内部は、ネオンガスなどの放電ガスが充填され、外気との間で密閉されている。
[Configuration of plasma display panel]
In FIG. 2, reference numeral 100 denotes a plasma display panel (PDP). In this PDP 100, a front substrate 110 and a rear substrate 120 are arranged to face each other with a discharge space 101 interposed therebetween.
On the inner surface side of the front substrate 110, a plurality of transparent electrodes 111, a plurality of bus electrodes 112, a plurality of black stripes 113, a dielectric layer 114, and a protective film 115 are provided.
A plurality of address electrodes 121 are provided in parallel on the rear substrate 120 on the inner surface side of the rear substrate 120, and address electrode protection that is an insulator layer on the inner surface side of the rear substrate 120 so as to cover the address electrodes 121. A layer 122 is provided, and stripe-shaped barrier ribs 123 are provided on the address electrode protective layer 122, and a plurality of discharge cells 124 are partitioned by these barrier ribs 123.
Inside the plurality of discharge cells 124, phosphor layers (125R, 125G, 125B) of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) are sequentially formed. The inside of the discharge space 101, that is, the inside of each discharge cell 124, is filled with a discharge gas such as neon gas and sealed with the outside air.

〔サンドブラスト装置の構成〕
図3において、200はサンドブラスト装置で、このサンドブラスト装置200は、PDP100を構成する背面基板120の形成のために被加工物である基板としてのワークWに切削材を噴射して切削加工、すなわちサンドブラスト加工を実施する装置である。
このサンドブラスト装置200は、サンドブラスト室201内に配設されている。このサンドブラスト室201は、内部に加湿調整手段202が設けられ、この加湿調整手段202によって内部の湿度が高い状態に保持されている。
この加湿調整手段202は、サンドブラスト室201内の空気を加湿する加湿器などで、例えば、水を加熱して蒸気を発生させるもの、あるいは、超音波で蒸気を発生させるもの、その他の手段で蒸気を発生させるいずれのものを採用することができる。この加湿調整手段202は、例えば湿度を50〜60%に調整することが好ましい。すなわち、加湿調整手段202は、サンドブラスト加工時にワークWの表面に付着する水分量を増大させてワークWの表面における電気伝導率を向上させて蓄積する静電気を大気中に放出させる高湿度に、サンドブラスト室201内を保持する。
[Configuration of sandblasting equipment]
In FIG. 3, reference numeral 200 denotes a sand blasting device. The sand blasting device 200 injects a cutting material onto a workpiece W as a substrate to be processed for forming a back substrate 120 constituting the PDP 100, that is, sand blasting. It is an apparatus for performing processing.
This sandblasting device 200 is disposed in a sandblasting chamber 201. The sand blast chamber 201 is provided with a humidification adjusting means 202 inside, and the humidity inside the sandblast chamber 201 is maintained in a high state.
This humidification adjusting means 202 is a humidifier that humidifies the air in the sandblast chamber 201, for example, one that generates steam by heating water, one that generates steam with ultrasonic waves, or other means that generates steam. Any device that generates the above can be adopted. The humidification adjusting means 202 preferably adjusts the humidity to 50 to 60%, for example. That is, the humidification adjusting means 202 increases the amount of water adhering to the surface of the workpiece W during the sandblasting process to improve the electrical conductivity on the surface of the workpiece W, thereby releasing the accumulated static electricity into the atmosphere at a high humidity. The inside of the chamber 201 is held.

ここで、サンドブラスト加工を施すワークWは、前工程において電極であるアドレス電極、アドレス電極保護層および隔壁形成層が生成されたものである。
すなわち、サンドブラスト装置200は、電極形成工程、絶縁体層形成工程と、隔壁形成工程における隔壁材料層形成工程と、隔壁形成工程におけるマスク形成工程と、が実施されたワークWを、隔壁形成工程におけるサンドブラスト工程でサンドブラスト加工する装置である。
そして、電極形成工程は、基板上に複数の電極であるアドレス電極を形成する工程である。
Here, the workpiece W subjected to sandblasting is one in which an address electrode, an address electrode protection layer, and a partition wall formation layer, which are electrodes, are generated in the previous step.
That is, the sand blasting apparatus 200 performs the work W on which the electrode forming process, the insulator layer forming process, the partition material layer forming process in the partition forming process, and the mask forming process in the partition forming process are performed in the partition forming process. This is an apparatus for sandblasting in the sandblasting process.
The electrode forming step is a step of forming address electrodes as a plurality of electrodes on the substrate.

この電極形成工程において、アドレス電極121の形成として、図4および図5に示すように、PDP100の背面基板120における表示領域131に対応する位置にアドレス電極121を複数ストライプ状に形成するとともに、表示領域131外の非表示領域132に位置して各アドレス電極121に接続する状態に複数の引出電極310が形成される。なお、図4および図5は、説明の都合上、アドレス電極121および引出電極310を概略的に粗な状態で示した図である。また、図5は、説明の都合上、引出電極310を誇張するとともに一部を省略した概略図である。
これら引出電極310は、図4および図5に示すように、外部接続のための外部接続端子部311と、アドレス電極121および外部接続端子部311を接続するアドレス電極引出部312を有している。そして、外部接続端子部311は、ブロック状の集合である引出電極群としての引出部320として、所定の間隔でまとまって形成される。
これら引出部320およびアドレス電極引出部312にて区画される図4および図5に示す間隙である領域140は、外部接続端子部311の並列方向で表示領域131における隣接するアドレス電極121間の幅寸法より幅広で、引出部320が例えば図示しない駆動回路毎に接続させるのに必要な幅寸法に設定されている。すなわち、駆動回路毎にまとまって外部接続端子部311をブロック状の集合体に形成して引出部320を構成させている。なお、引出部320における外部接続端子部311は、略等間隔に形成される。
さらに、電極形成工程では、引出部320における領域140側の最端に位置し領域140に臨む2つの外部接続端子部311は、アドレス電極引出部312により1つのアドレス電極121に接続する状態に形成される。すなわち、引出電極310は、アドレス電極121の長手方向の端部から略V字状にアドレス電極引出部312に分岐して、領域140を介して隣接する対をなす外部接続端子部311に接続する状態に形成される。
In this electrode formation process, as shown in FIGS. 4 and 5, the address electrodes 121 are formed in a plurality of stripes at positions corresponding to the display areas 131 on the back substrate 120 of the PDP 100, and display A plurality of extraction electrodes 310 are formed in the non-display area 132 outside the area 131 and connected to each address electrode 121. 4 and 5 are diagrams schematically showing the address electrode 121 and the extraction electrode 310 in a rough state for convenience of explanation. FIG. 5 is a schematic diagram in which the extraction electrode 310 is exaggerated and a part thereof is omitted for convenience of explanation.
As shown in FIGS. 4 and 5, these lead electrodes 310 have an external connection terminal portion 311 for external connection and an address electrode lead portion 312 for connecting the address electrode 121 and the external connection terminal portion 311. . Then, the external connection terminal portions 311 are formed together at a predetermined interval as the extraction portion 320 as an extraction electrode group that is a block-like assembly.
4 and FIG. 5 defined by the lead-out portion 320 and the address electrode lead-out portion 312 is a width 140 between the adjacent address electrodes 121 in the display region 131 in the parallel direction of the external connection terminal portion 311. It is wider than the dimension, and is set to a width dimension necessary for connecting the lead-out portion 320 to each drive circuit (not shown), for example. That is, the lead-out portion 320 is configured by forming the external connection terminal portion 311 into a block-like aggregate together for each drive circuit. Note that the external connection terminal portions 311 in the lead-out portion 320 are formed at substantially equal intervals.
Further, in the electrode formation step, the two external connection terminal portions 311 located at the extreme end on the region 140 side in the extraction portion 320 and facing the region 140 are formed in a state of being connected to one address electrode 121 by the address electrode extraction portion 312. Is done. That is, the lead electrode 310 branches from the end portion of the address electrode 121 in the longitudinal direction to the address electrode lead portion 312 in a substantially V shape, and is connected to the adjacent external connection terminal portion 311 through the region 140. Formed into a state.

このようにアドレス電極121および引出電極310を形成する電極形成工程の後に実施される絶縁体層形成工程は、電極形成工程によりアドレス電極121が形成された背面基板120を構成するワークWのアドレス電極形成面における表示領域131に対応する領域に、アドレス電極保護層122となる図示しない絶縁体層を生成する工程である。
隔壁材料層形成工程は、絶縁体層形成工程により絶縁体層が形成されたワークWの絶縁体層の上面に、図6に示すように隔壁材料層123Aを形成する工程である。なお、隔壁材料層123Aを形成する隔壁材料としては、比重が比較的に小さい低融点ガラスなどが利用される。
マスク形成工程は、隔壁材料層形成工程で形成した隔壁材料層123Aの上面に、隔壁の形状に対応した隔壁パターンが開口形成された図示しないレジストマスクを被覆形成する工程である。
As described above, the insulator layer forming step performed after the electrode forming step for forming the address electrode 121 and the extraction electrode 310 is the address electrode of the work W constituting the rear substrate 120 on which the address electrode 121 is formed by the electrode forming step. This is a step of generating an insulating layer (not shown) to be the address electrode protection layer 122 in a region corresponding to the display region 131 on the formation surface.
The partition wall material layer forming step is a step of forming a partition wall material layer 123A as shown in FIG. 6 on the upper surface of the insulator layer of the work W on which the insulator layer is formed by the insulator layer forming step. As the partition wall material for forming the partition wall material layer 123A, low melting point glass having a relatively small specific gravity is used.
The mask formation step is a step of covering and forming a resist mask (not shown) in which a partition wall pattern corresponding to the shape of the partition wall is formed on the upper surface of the partition wall material layer 123A formed in the partition wall material layer formation step.

そして、サンドブラスト装置200は、図3に示すように、ワークWを搬送する搬送ローラ203と、ブラストガン210、加工室220、ブラストキャビネット230、材料供給タンク240、分離フィルタ250、遠心分離機260、集塵機270、切削材タンク280、定量供給装置290、などを備えている。
ブラストガン210は、切削材をドライエアと共にワークWにこのワークWの平面に対して交差する方向に噴射するもので、加工室220の内部に設けられる。このブラストガン210は、ワークWの移動に連動して揺動可能に設けられている。このブラストガン210による切削材の噴射によって、ワークWにおける図示しないレジストマスクで被覆されていない隔壁材料層が切削・除去され、切削後の隔壁材料と切削材となどが混在した切削加工屑が発生する。なお、サンドブラスト装置200でサンドブラスト加工に利用する切削材としては、比重が比較的に大きいガラスビーズや、炭化珪素(SiC)、酸化珪素(SiO2)、酸化アルミニウム(Al23)、酸化ジルコニウム(ZrO2)などの粒子などが利用される。
As shown in FIG. 3, the sandblasting apparatus 200 includes a transport roller 203 that transports the workpiece W, a blast gun 210, a processing chamber 220, a blast cabinet 230, a material supply tank 240, a separation filter 250, a centrifuge 260, A dust collector 270, a cutting material tank 280, a quantitative supply device 290, and the like are provided.
The blast gun 210 sprays a cutting material onto the workpiece W together with dry air in a direction intersecting the plane of the workpiece W, and is provided inside the processing chamber 220. The blast gun 210 is provided so as to be swingable in conjunction with the movement of the workpiece W. The cutting material sprayed by the blast gun 210 cuts and removes the partition wall material layer that is not covered with a resist mask (not shown) on the workpiece W, and generates cutting scraps in which the partition wall material and the cutting material after cutting are mixed. To do. In addition, as a cutting material used for sandblasting by the sandblasting apparatus 200, glass beads, silicon carbide (SiC), silicon oxide (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide having a relatively large specific gravity are used. Particles such as (ZrO 2 ) are used.

加工室220は、その内部で実際にサンドブラスト加工が行われる筐体であって、加工後の切削材や切削された隔壁材料などの切削加工屑が加工室220の外部に飛散しないように構成されている。具体的には、加工室220は、内部圧力が外部圧力に対して低い状態に保たれている。
この加工室220の一部には、ワークWが搬入される搬入窓221、ワークWが搬出される搬出窓222が開口形成され、これら搬入窓221および搬出窓222を貫通するように、搬送ローラ203によって搬送ラインが形成されている。すなわち、搬送ローラ203は水平面においてワークWの移動方向に対して略垂直に複数個並列に配設され、これら搬送ローラ203によりワークWの移動方向と略平行な搬送ラインが形成される。
また、この加工室220の底部には、排出部223が設けられ、切削加工屑が排出部223を介して加工室220外へ排出可能となっている。
さらに、加工室220の内部には、ヒータ224が設けられ、切削加工屑を乾燥する。
The processing chamber 220 is a housing in which sandblasting is actually performed, and is configured so that cutting scraps such as a processed cutting material and a cut partition wall material are not scattered outside the processing chamber 220. ing. Specifically, the processing chamber 220 is maintained in a state where the internal pressure is lower than the external pressure.
In part of the processing chamber 220, a carry-in window 221 into which the work W is carried in and a carry-out window 222 through which the work W is carried out are formed so as to pass through the carry-in window 221 and the carry-out window 222. A transfer line is formed by 203. That is, a plurality of conveying rollers 203 are arranged in parallel on the horizontal plane substantially perpendicular to the moving direction of the workpiece W, and a conveying line that is substantially parallel to the moving direction of the workpiece W is formed by these conveying rollers 203.
Further, a discharge portion 223 is provided at the bottom of the processing chamber 220, and cutting waste can be discharged out of the processing chamber 220 through the discharge portion 223.
Further, a heater 224 is provided inside the processing chamber 220 to dry the cutting waste.

ブラストキャビネット230は、加工室220および加工室220に対してワークWの搬送方向の下流側に位置して設けられた筐体で、加工室220に飛散する切削加工屑を回収する。このブラストキャビネット230には、ワークWを搬入する搬入窓231およびワークWを搬出する搬出窓232が開口形成されている。そして、ブラストキャビネット230は、搬送ラインが搬入窓231および搬出窓232と加工室220の搬入窓221および搬出窓222とを貫通する状態に構成されている。
また、ブラストキャビネット230には、サンドブラスト加工後のワークWをエアで洗浄することによって、ワークWに付着した切削加工屑を除去する図示しないエア洗浄手段が設けられている。この除去された切削加工屑は、排出部223と同様の図示しない排出部を介して、ブラストキャビネット230外へ排出される。
The blast cabinet 230 is a casing provided on the downstream side in the conveyance direction of the workpiece W with respect to the processing chamber 220 and the processing chamber 220, and collects cutting scraps scattered in the processing chamber 220. The blast cabinet 230 has an opening 231 for carrying the work W and an exit window 232 for carrying the work W open. The blast cabinet 230 is configured such that the conveyance line passes through the carry-in window 231 and the carry-out window 232 and the carry-in window 221 and the carry-out window 222 of the processing chamber 220.
The blast cabinet 230 is provided with an air cleaning means (not shown) for removing cutting waste adhering to the workpiece W by cleaning the workpiece W after sandblasting with air. The removed cutting waste is discharged out of the blast cabinet 230 through a discharge unit (not shown) similar to the discharge unit 223.

材料供給タンク240は、新たな切削材を供給するタンクであり、分離フィルタ250へと連絡されている。
この材料供給タンク240は、内部にヒータ241が設けられ、内部をドライ化する。
The material supply tank 240 is a tank that supplies new cutting material, and is in communication with the separation filter 250.
This material supply tank 240 is provided with a heater 241 inside, and dries the inside.

分離フィルタ250は、加工室220の排出部223やブラストキャビネット230の排出部から排出された切削加工屑を回収し、この回収した切削加工屑に混入した異物を除去するフィルタである。そして、分離フィルタ250によって回収された切削加工屑は、遠心分離機260へと移送され、この遠心分離機260により、重量が小さい切削後の隔壁材料などと重量が大きい切削材とに分離される。
集塵機270は、遠心分離機260で分離された切削後の隔壁材料などを回収する。この集塵機270には、内部に吸気ファン271および図示しない隔壁材料収納部が設けられている。
そして、吸気ファン271は、遠心分離機260で分離された切削後の隔壁材料を吸引して隔壁材料収納部へ移送する。また、吸気ファン271は、吸気によって加工室220の内部圧力を外部圧力に対して低くなるように調整する。なお、隔壁材料収納部に貯蔵された切削後の隔壁材料は、省資源化の観点から、再利用される。
The separation filter 250 is a filter that collects cutting waste discharged from the discharge portion 223 of the processing chamber 220 and the discharge portion of the blast cabinet 230 and removes foreign matters mixed in the recovered cutting waste. Then, the cutting waste collected by the separation filter 250 is transferred to the centrifugal separator 260, and is separated into a partition material after cutting with a small weight and a cutting material with a large weight by the centrifugal separator 260. .
The dust collector 270 collects the partition wall material after cutting separated by the centrifuge 260. The dust collector 270 is provided with an intake fan 271 and a partition material storage (not shown) inside.
Then, the intake fan 271 sucks the cut partition wall material separated by the centrifugal separator 260 and transfers it to the partition wall material storage unit. Further, the intake fan 271 adjusts the internal pressure of the processing chamber 220 to be lower than the external pressure by the intake air. In addition, the partition wall material after cutting stored in the partition wall material storage unit is reused from the viewpoint of resource saving.

切削材タンク280は、遠心分離機260で分離された切削材を回収する。この回収した切削材は、切削材タンク280に接続された定量供給装置290へ移送される。また、切削材タンク280は、内部にヒータ281が設けられ、内部をドライ化している。
定量供給装置290は、切削材タンク280で回収された切削材を定量調整し、ブラストガン210へ加圧供給する。この定量供給装置290には、内部にヒータ291が設けられ、内部をドライ化している。なお、加工室220、材料供給タンク240、切削材タンク280および定量供給装置290の内部に設けられたヒータ224、241、281、291は、これらの各装置の内部をドライ化し、微小粒である切削材同士が湿度によって接着し、均一なサンドブラスト加工が行えなくなることを防ぐために設けられている。
The cutting material tank 280 collects the cutting material separated by the centrifuge 260. The collected cutting material is transferred to a quantitative supply device 290 connected to the cutting material tank 280. Further, the cutting material tank 280 is provided with a heater 281 inside, and the inside thereof is dried.
The quantitative supply device 290 quantitatively adjusts the cutting material collected in the cutting material tank 280 and supplies the blast gun 210 with pressure. This fixed quantity supply device 290 is provided with a heater 291 inside, and the inside is dried. In addition, the heaters 224, 241, 281 and 291 provided inside the processing chamber 220, the material supply tank 240, the cutting material tank 280, and the fixed amount supply device 290 are dried to form fine particles. It is provided in order to prevent cutting materials from adhering to each other due to humidity and preventing uniform sandblasting.

〔サンドブラスト装置の動作〕
次に、上述したサンドブラスト装置200の動作について説明する。サンドブラスト装置200の動作として、上記したサンドブラスト装置200によって、隔壁形成工程でのPDP100の背面基板120の形成のためにワークWに隔壁を形成する動作について説明する。
[Operation of sandblasting device]
Next, the operation of the above-described sandblast apparatus 200 will be described. As an operation of the sandblasting apparatus 200, an operation of forming a partition wall on the workpiece W for forming the rear substrate 120 of the PDP 100 in the partition forming process by the above-described sandblasting apparatus 200 will be described.

まず、サンドブラスト加工を実施する隔壁形成工程の前工程、すなわち、上述したように、電極形成工程、絶縁体層形成工程、隔壁材料層形成工程およびマスク形成工程を実施してワークWを形成しておく。
また、サンドブラスト室201の内部の湿度を加湿調整手段202によって適度に加湿調整するとともに、サンドブラスト装置200の各構成装置を作動させておく。この作動の際、集塵機270の吸気ファン271の回転により、加工室220の内部圧力が外部圧力に比して低く調整される。このことにより、加工室220の搬入窓221および搬出窓222や、ブラストキャビネット230の搬入窓231および搬出窓232などから、加湿された空気が内部へ導入される。
First, a work W is formed by performing a pre-process of a partition forming process for performing sandblasting, that is, as described above, an electrode forming process, an insulator layer forming process, a partition material layer forming process, and a mask forming process. deep.
Further, the humidity inside the sandblast chamber 201 is appropriately adjusted by the humidification adjusting means 202, and each component device of the sandblasting apparatus 200 is operated. During this operation, the internal pressure of the processing chamber 220 is adjusted to be lower than the external pressure by the rotation of the intake fan 271 of the dust collector 270. Thus, humidified air is introduced into the interior from the carry-in window 221 and the carry-out window 222 of the processing chamber 220, the carry-in window 231 and the carry-out window 232 of the blast cabinet 230, and the like.

このような状態でワークWを搬送ローラ203上に載置させ、ワークWをブラストキャビネット230の搬入窓231、および加工室220の搬入窓221を経由させ加工室220の内部へと搬入する。
加工室220の内部圧力が外部圧力に対して負圧の状態となっているので、搬入されたワークWの表面は、加工室220の搬入窓221および搬出窓222や、ブラストキャビネット230の搬入窓231および搬出窓232などから流入した加湿された空気が接触する状態となっている。
In this state, the work W is placed on the transport roller 203, and the work W is carried into the processing chamber 220 through the loading window 231 of the blast cabinet 230 and the loading window 221 of the processing chamber 220.
Since the internal pressure of the processing chamber 220 is negative with respect to the external pressure, the surface of the work W that is carried in is the carry-in window 221 and the carry-out window 222 of the machining chamber 220 or the carry-in window of the blast cabinet 230. 231 and the humidified air flowing in from the carry-out window 232 are in contact with each other.

そして、サンドブラスト装置200は、加工室220内に搬入されたワークWの被処理面、すなわちレジストマスクが設けられた面へブラストガン210から切削材を噴射する。
この切削材の噴射の際、ワークWを接地電位に接続させる。すなわち、非表示領域132に位置して、引出部320における各外部接続端子部311に、例えば導電性ブラシなどの除電手段をそれぞれ接触させて接地させる。そして、ブラストガン210は、ワークWの移動に連動してワークWの幅方向に往復する状態に揺動し、ワークWの被処理面の一端から他端へかけて漏れなく切削材を噴射し、ワークWのレジストマスクにより被覆されていない隔壁材料層123Aを切削・除去する。
なお、このサンドブラスト加工時に発生した切削加工屑は、ヒータ224によって瞬間的に乾燥され、加工室220の排出部223へ吸気ファン271の回転により吸引される。
Then, the sand blasting apparatus 200 injects a cutting material from the blast gun 210 onto a surface to be processed of the workpiece W carried into the processing chamber 220, that is, a surface provided with a resist mask.
During the injection of the cutting material, the workpiece W is connected to the ground potential. That is, in the non-display area 132, each external connection terminal portion 311 in the lead-out portion 320 is brought into contact with, for example, a discharging means such as a conductive brush and grounded. The blast gun 210 swings so as to reciprocate in the width direction of the workpiece W in conjunction with the movement of the workpiece W, and injects the cutting material from one end to the other end of the surface to be processed of the workpiece W without leakage. Then, the partition wall material layer 123A not covered with the resist mask of the workpiece W is cut and removed.
Note that cutting waste generated during the sandblasting process is instantaneously dried by the heater 224 and sucked into the discharge unit 223 of the processing chamber 220 by the rotation of the intake fan 271.

また、ワークWが搬送され搬出窓222に到達するまでに、ワークWの被処理面の略全面に対してサンドブラスト加工が行われ、加工後、ワークWは搬出窓222からブラストキャビネット230内のバッファー室に搬送される。このバッファー室において、サンドブラスト加工後のワークWは図示しないエア洗浄手段によって洗浄され、ワークWに付着した切削加工屑が除去される。ワークWのエア洗浄後、ワークWは搬出窓232からブラストキャビネット230の外側に搬出され、一連のサンドブラスト加工が完了する。
この後、ワークWからレジストマスクを剥離する工程へ移送される。
Also, by the time the workpiece W is transported and reaches the carry-out window 222, sandblasting is performed on substantially the entire surface to be processed of the workpiece W. After machining, the workpiece W is transferred from the carry-out window 222 to the buffer in the blast cabinet 230. Conveyed to the room. In this buffer chamber, the workpiece W after sandblasting is cleaned by an air cleaning means (not shown), and the cutting waste adhering to the workpiece W is removed. After air cleaning of the workpiece W, the workpiece W is unloaded from the unloading window 232 to the outside of the blast cabinet 230, and a series of sandblasting processes is completed.
Thereafter, the resist mask is transferred from the workpiece W to the step of peeling.

〔実施の形態の作用効果〕
上述したように、上記実施の形態では、背面基板120を構成するワークW上に複数のアドレス電極121や引出電極310を形成する電極形成工程で、アドレス電極121や引出電極310が形成されるワークWの面における表示領域131の外となる非表示領域132に位置して、引出電極310を表示領域131における隣接するアドレス電極121間の幅寸法より幅広な領域140の間隔を設けて、ブロック状の引出部320にまとめて形成するとともに、隣接する引出部320の領域140に位置する引出部320の最端の引出電極310同士を表示領域131内でアドレス電極121に接続する状態で形成している。
すなわち、1つのアドレス電極121に対して表示領域131から対をなして分岐し領域140を介して対向する状態に引出電極310を形成している。
このことにより、サンドブラスト時に引出部320と引出部320間の領域140との帯電状態の差による静電気の帯電が生じ易い引出部320の領域140に臨む位置でアドレス電極121に接続する引出電極310により、引出部320間で電位差が0Vとなる。
したがって、サンドブラスト時の静電気の帯電による不都合を、簡単な構成で防止でき、安定した良好な品質のPDP100を提供できる。
なお、1つのアドレス電極121に対して対をなす引出電極310が分岐する状態となっているので、例えば外部接続する駆動回路であるアドレスパルス駆動手段の前段部分で、これら対をなす引出電極310に跨って繋がる1つの導電体を設ければよい。このような構成とすることで、引出電極310が2つに分岐していても、1つの駆動パルス供給部でアドレス電極121に対してアドレスパルスを供給できる。なお、このような構成に限らず、いずれの方法や構成でアドレスパルスを供給できる。
[Effects of Embodiment]
As described above, in the above-described embodiment, the work in which the address electrodes 121 and the extraction electrodes 310 are formed in the electrode forming step of forming the plurality of address electrodes 121 and the extraction electrodes 310 on the work W constituting the back substrate 120. Located in the non-display area 132 outside the display area 131 on the surface of W, the extraction electrode 310 is provided in a block shape with an interval of the area 140 wider than the width dimension between the adjacent address electrodes 121 in the display area 131. The lead electrodes 320 of the lead parts 320 located in the region 140 of the lead parts 320 adjacent to each other are formed so as to be connected to the address electrodes 121 in the display region 131. Yes.
That is, the extraction electrode 310 is formed in a state where it branches from the display area 131 in a pair with respect to one address electrode 121 and faces through the area 140.
As a result, the lead electrode 310 connected to the address electrode 121 at a position facing the region 140 of the lead portion 320 where the electrostatic charge easily occurs due to the difference in charge state between the lead portion 320 and the region 140 between the lead portion 320 during sandblasting. The potential difference between the extraction units 320 becomes 0V.
Therefore, inconvenience due to electrostatic charging during sandblasting can be prevented with a simple configuration, and a stable and good quality PDP 100 can be provided.
Since the extraction electrode 310 that makes a pair with respect to one address electrode 121 is in a branched state, for example, the extraction electrode 310 that makes a pair in the front stage portion of the address pulse driving means that is an externally connected drive circuit. It is only necessary to provide one conductor connected across the two. With this configuration, even when the extraction electrode 310 is branched into two, an address pulse can be supplied to the address electrode 121 by one drive pulse supply unit. The address pulse can be supplied by any method or configuration, not limited to such a configuration.

仮に、切削加工屑が非表示領域132に付着する状態でも、ワークWを接地電位に接続、すなわち引出部320を除電手段により接地させて除電している。
このことから、静電気による切削加工屑の吸着力はないあるいは強くない。
このため、ブラストキャビネット230内のバッファー室におけるエア洗浄手段により十分に除去され、エア洗浄などの簡単な構成で、上述した接続不良などの不都合を確実に防止できる。
Even if the cutting scraps adhere to the non-display area 132, the work W is connected to the ground potential, that is, the lead-out portion 320 is grounded by the charge removing means to remove electricity.
For this reason, there is no or no strong adsorption force of cutting waste due to static electricity.
For this reason, it is sufficiently removed by the air cleaning means in the buffer chamber in the blast cabinet 230, and the above-described inconveniences such as poor connection can be reliably prevented with a simple configuration such as air cleaning.

そして、加湿調整手段202を備えたサンドブラスト室201内にサンドブラスト装置200を配設している。
このため、加湿された空気がサンドブラスト加工を実施する加工室220内に流入してワークWに接触するので、さらにワークWに静電気が帯電しにくくなり、より良好に切削加工屑の非表示領域132における付着を防止できる。
A sandblasting device 200 is disposed in a sandblasting chamber 201 provided with a humidification adjusting means 202.
For this reason, since the humidified air flows into the processing chamber 220 where the sandblasting is performed and comes into contact with the workpiece W, the workpiece W is less likely to be charged with static electricity, and the non-display area 132 of the cutting waste is better. Can be prevented.

〔実施の形態の変形〕
なお、本発明は、上述した実施の一形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲で以下に示される変形をも含むものである。
[Modification of Embodiment]
In addition, this invention is not limited to one Embodiment mentioned above, The deformation | transformation shown below is included in the range which can achieve the objective of this invention.

すなわち、サンドブラスト工程として上述したサンドブラスト装置200の構成に限らず、切削材を噴射して隔壁を形成可能ないずれの装置を利用できる。
例えば、加湿調整手段202を備えたサンドブラスト室201内にサンドブラスト装置200を配設した構成に限らず、加湿調整手段202を加工室220内に設けるなど、加湿した空気をワークWに吹き付ける構成などとしてもよく、さらには加湿する構成を設けないものでも可能である。
さらに、切削加工屑を回収して切削材を回収し、再利用する構成を設けない、あるいは他のいずれの再利用可能な構成を利用したり、ヒータ224などを設けない構成としたりするなどしてもよい。
That is, the sandblasting process is not limited to the configuration of the sandblasting apparatus 200 described above, and any apparatus that can form a partition wall by spraying a cutting material can be used.
For example, the configuration is not limited to the configuration in which the sandblasting device 200 is disposed in the sandblasting chamber 201 provided with the humidification adjusting means 202, and the humidified air is blown to the workpiece W, such as the humidification adjusting means 202 being provided in the processing chamber 220. It is also possible to use a configuration that does not provide a humidifying configuration.
Further, the cutting waste is recovered and the cutting material is recovered and no reusable configuration is provided, or any other reusable configuration is used, or the heater 224 is not provided. May be.

また、駆動回路接続のための領域140における引出電極310を表示領域131内で1つのアドレス電極121に接続して説明したが、例えばアドレス電極121を介して接続する場合に限らず、例えばアドレス電極121に接続することなく単に表示領域131内で互いに接続する状態とするなどしてもよい。
また、駆動回路接続のための領域140に臨む引出電極310に限らず、例えば引出電極310の形成上の理由などにより、引出電極310間がアドレス電極121の間隔より幅広となる間隙が形成されるような構成では、この間隙に臨む引出電極310を表示領域131内で接続する状態とすればよい。
Further, the extraction electrode 310 in the drive circuit connection region 140 has been described as being connected to one address electrode 121 in the display region 131. However, for example, the connection is not limited to the address electrode 121. Instead of being connected to 121, the display area 131 may be simply connected to each other.
Further, not only the extraction electrode 310 facing the region 140 for connecting the drive circuit, but a gap is formed in which the space between the extraction electrodes 310 is wider than the interval between the address electrodes 121 for reasons of formation of the extraction electrode 310, for example. In such a configuration, the extraction electrode 310 facing the gap may be connected in the display region 131.

そして、除電する構成としては、導電性ブラシなどを接触させる構成の他、軟質部材の表面に導電部材を被覆した柱状部材を用いるなど、いずれの方法でワークWを接地電位に接続させる構成が適用できる。   In addition to the configuration in which a conductive brush or the like is brought into contact as a configuration for eliminating static electricity, a configuration in which the work W is connected to the ground potential by any method such as using a columnar member with a conductive member coated on the surface of a soft member is applied. it can.

その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。   In addition, the specific structure and procedure for carrying out the present invention can be appropriately changed to other structures and the like within a range in which the object of the present invention can be achieved.

〔実施の形態の効果〕
上述したように、背面基板120を構成するワークW上に複数のアドレス電極121や引出電極310を形成する電極形成工程で、アドレス電極121や引出電極310が形成されるワークWの面における表示領域131の外となる非表示領域132に位置して、引出電極310を表示領域131における隣接するアドレス電極121間の幅寸法より幅広な領域140の間隔を設けて、ブロック状の引出部320にまとめて形成するとともに、隣接する引出部320の領域140に位置する引出部320の最端の引出電極310同士を表示領域131内で接続する状態で形成している。
このため、サンドブラスト時に引出部320と引出部320間の領域140との帯電状態の差による静電気の帯電が生じ易い引出部320の領域140に臨む位置の引出電極310が表示領域131で接続することにより、引出部320間で電位差が0Vとなり、例えば残渣や引出電極310をアドレス電極121に接続する構成における不都合などのサンドブラスト時の静電気の帯電による不都合を、簡単な構成で防止でき、安定した良好な品質のPDP100を提供できる。
[Effect of the embodiment]
As described above, the display area on the surface of the work W on which the address electrodes 121 and the extraction electrodes 310 are formed in the electrode forming step of forming the plurality of address electrodes 121 and the extraction electrodes 310 on the work W constituting the back substrate 120. Positioned in the non-display area 132 outside the area 131, the extraction electrodes 310 are grouped into a block-shaped extraction section 320 with an interval of the area 140 wider than the width dimension between adjacent address electrodes 121 in the display area 131. In addition, the lead electrodes 310 at the extreme ends of the lead portions 320 located in the region 140 of the lead portions 320 adjacent to each other are formed so as to be connected in the display region 131.
For this reason, the extraction electrode 310 at a position facing the area 140 of the extraction section 320 that is likely to be charged with static electricity due to a difference in charging state between the extraction section 320 and the area 140 between the extraction sections 320 during sandblasting is connected to the display area 131. Therefore, the potential difference between the extraction parts 320 becomes 0 V, and inconveniences due to electrostatic charging during sandblasting, such as inconveniences in the configuration in which the residue and the extraction electrode 310 are connected to the address electrodes 121, for example, can be prevented with a simple configuration, and stable and good Can provide a high quality PDP 100.

また、背面基板120を構成するワークW上に複数のアドレス電極121や引出電極310を形成する電極形成工程で、アドレス電極121や引出電極310が形成されるワークWの面における表示領域131の外となる非表示領域132に位置して、引出電極310を表示領域131における隣接するアドレス電極121間の幅寸法より幅広な領域140の間隔で、表示領域131の位置から対をなして分岐する状態に形成している。
このため、サンドブラスト時に引出電極310と領域140との帯電状態の差による静電気の帯電が生じ易い領域140に臨む引出電極310により、引出電極310間で電位差が0Vとなり、例えば残渣や引出電極310をアドレス電極121に接続する構成における不都合などのサンドブラスト時の静電気の帯電による不都合を、簡単な構成で防止でき、安定した良好な品質のPDP100を提供できる。
Further, in the electrode forming step of forming the plurality of address electrodes 121 and the extraction electrodes 310 on the work W constituting the back substrate 120, the display area 131 outside the display area 131 on the surface of the work W on which the address electrodes 121 and the extraction electrodes 310 are formed. In the non-display area 132, the extraction electrode 310 is branched in pairs from the position of the display area 131 at intervals of the area 140 wider than the width dimension between the adjacent address electrodes 121 in the display area 131. Is formed.
For this reason, the potential difference between the extraction electrodes 310 becomes 0 V due to the extraction electrode 310 facing the region 140 where electrostatic charging is likely to occur due to the difference in charge state between the extraction electrode 310 and the region 140 during sandblasting. Inconvenience due to electrostatic charging during sandblasting, such as inconvenience in the configuration connected to the address electrode 121, can be prevented with a simple configuration, and a stable and good quality PDP 100 can be provided.

従来の一般的なプラズマディスプレイパネルを構成するワークの非表示領域における引出電極近傍のパターンを概念的に示す一部を切り欠いた平面図である。It is the top view which notched a part which shows notionally the pattern of the extraction electrode vicinity in the non-display area | region of the workpiece | work which comprises the conventional general plasma display panel. 本発明における実施の一形態に係るプラズマディスプレイパネルの内部構造を示す一部を切り欠いた分解斜視図である。It is the disassembled perspective view which notched the part which shows the internal structure of the plasma display panel which concerns on one Embodiment in this invention. 前記実施の一形態におけるサンドブラスト工程で利用するサンドブラスト装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the sandblasting apparatus utilized at the sandblasting process in the said embodiment. 前記実施の一形態におけるサンドブラスト加工する背面基板となるワークを示す一部を省略した平面図である。It is the top view which abbreviate | omitted one part which shows the workpiece | work used as the back substrate which carries out the sandblasting in the said embodiment. 前記実施の一形態におけるワークの非表示領域近傍の電極パターンを概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the electrode pattern of the non-display area | region vicinity of the workpiece | work in the said embodiment. 前記実施の一形態におけるサンドブラスト加工するワークを示す一部を切り欠いた斜視図である。It is the perspective view which notched a part which shows the workpiece | work which carries out the sandblasting process in the said embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

100……プラズマディスプレイパネル
200……サンドブラスト装置
131……表示領域
132……非表示領域
120……基板である背面基板
121……電極であるアドレス電極
123A…隔壁材料層
140……間隙である領域
310……電極である引出電極
320……引出電極群である引出部
W……基板であるワーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Plasma display panel 200 ... Sand blast apparatus 131 ... Display area 132 ... Non-display area 120 ... Back substrate which is a substrate 121 ... Address electrode which is an electrode 123A ... Partition material layer 140 ... Area which is a gap 310... Extraction electrode that is an electrode 320... Extraction part that is a group of extraction electrodes
W: Workpiece that is a substrate

Claims (7)

基板上に複数の電極を形成する電極形成工程と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に絶縁体層を形成する絶縁体層形成工程と、前記基板の絶縁体層上に隔壁材料層を形成するとともに、この隔壁材料層上に隔壁パターンに対応した開口を有するマスクを順次形成し、切削材の噴射により前記マスクの開口を介して前記隔壁材料層を切削加工して隔壁を形成する隔壁形成工程と、を実施するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極形成工程では、前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で前記電極の外部接続される引出電極を複数形成して引出電極群の集合体に構成するとともに、隣接する前記引出電極群間の間隙側に位置する前記引出電極同士を前記表示領域内で接続する状態に前記電極を形成する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
An electrode forming step of forming a plurality of electrodes on the substrate; an insulator layer forming step of forming an insulator layer in a region corresponding to a display region on the surface of the substrate on which the electrodes are formed; and an insulator of the substrate A partition wall material layer is formed on the layer, and a mask having openings corresponding to the partition wall pattern is sequentially formed on the partition wall material layer, and the partition wall material layer is cut through the opening of the mask by spraying a cutting material. And a partition wall forming step of forming a partition wall, and a method of manufacturing a plasma display panel,
In the electrode formation step, the electrodes are externally connected to a non-display area outside the display area on the surface of the substrate on which the electrode is formed, with an interval wider than the distance between the electrodes in the display area. A plurality of extraction electrodes are formed to form an assembly of extraction electrode groups, and the electrodes are formed in a state in which the extraction electrodes positioned on the gap side between the adjacent extraction electrode groups are connected in the display area. A method of manufacturing a plasma display panel.
基板上に複数の電極を形成する電極形成工程と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に絶縁体層を形成する絶縁体層形成工程と、前記基板の絶縁体層上に隔壁材料層を形成するとともに、この隔壁材料層上に隔壁パターンに対応した開口を有するマスクを順次形成し、切削材の噴射により前記マスクの開口を介して前記隔壁材料層を切削加工して隔壁を形成する隔壁形成工程と、を実施するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極形成工程では、前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に形成され前記電極の外部接続される引出電極のうちのいずれかを、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で前記表示領域の位置から対をなして分岐して形成する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
An electrode forming step of forming a plurality of electrodes on the substrate; an insulator layer forming step of forming an insulator layer in a region corresponding to a display region on the surface of the substrate on which the electrodes are formed; and an insulator of the substrate A partition wall material layer is formed on the layer, and a mask having openings corresponding to the partition wall pattern is sequentially formed on the partition wall material layer, and the partition wall material layer is cut through the opening of the mask by spraying a cutting material. And a partition wall forming step of forming a partition wall, and a method of manufacturing a plasma display panel,
In the electrode formation step, any one of the extraction electrodes formed in a non-display area outside the display area on the surface of the substrate on which the electrode is formed and externally connected to the electrode is connected to the display area. A method of manufacturing a plasma display panel, wherein the plasma display panel is formed by branching from the position of the display region at intervals wider than the distance between the electrodes.
請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記電極形成工程では、前記分岐して形成する引出電極間の間隔で前記引出電極が複数のブロック状の引出電極群に集合させて形成する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A method of manufacturing a plasma display panel according to claim 2,
The method of manufacturing a plasma display panel, wherein in the electrode forming step, the extraction electrodes are formed by gathering into a plurality of block-shaped extraction electrode groups at intervals between the extraction electrodes formed by branching.
請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記隔壁形成工程では、前記切削材の噴射による切削加工の際に前記基板を接地電位に接続する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A method for manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 1 to 3,
In the partition forming step, the substrate is connected to a ground potential during cutting by spraying the cutting material. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising:
請求項4に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記隔壁形成工程における前記基板の接地電位への接続として、前記引出電極を接地電位に接続する
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
It is a manufacturing method of the plasma display panel of Claim 4, Comprising:
The method for manufacturing a plasma display panel, wherein the extraction electrode is connected to a ground potential as a connection to the ground potential of the substrate in the partition forming step.
基板上に形成される複数の電極と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に形成される絶縁体層と、前記基板の前記絶縁体層上に形成され前記表示領域内に複数の放電セルを区画形成する隔壁と、を備えたプラズマディスプレイパネルであって、
前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に形成され前記電極の外部接続される引出電極が、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で複数のブロック状の引出電極群に集合する状態で、かつ、複数の前記電極のうち隣接する前記引出電極群間の間隙側に位置する前記引出電極同士が前記表示領域内で接続する状態に形成された
ことを特徴としたプラズマディスプレイパネル。
A plurality of electrodes formed on a substrate; an insulator layer formed in a region corresponding to a display region on a surface of the substrate on which the electrode is formed; and the display formed on the insulator layer of the substrate A plasma display panel comprising a partition wall that partitions and forms a plurality of discharge cells in a region,
A plurality of extraction electrodes formed on a non-display area outside the display area on the surface of the substrate on which the electrodes are formed and connected to the outside of the electrodes are wider than the distance between the electrodes in the display area. In a state of being assembled into a block-shaped extraction electrode group, and the extraction electrodes located on the gap side between adjacent extraction electrode groups among the plurality of electrodes are connected to each other in the display region. A plasma display panel characterized by this.
基板上に形成される複数の電極と、前記基板の電極が形成された面上で表示領域に対応する領域に形成される絶縁体層と、前記基板の前記絶縁体層上に形成され前記表示領域内に複数の放電セルを区画形成する隔壁と、を備えたプラズマディスプレイパネルであって、
前記基板の前記電極が形成される面における前記表示領域の外となる非表示領域に形成され前記電極の外部接続される引出電極のうちのいずれかが、前記表示領域における前記電極間の距離より幅広な間隔で前記表示領域の位置から対をなして分岐する状態に形成された
ことを特徴としたプラズマディスプレイパネル。
A plurality of electrodes formed on a substrate; an insulator layer formed in a region corresponding to a display region on a surface of the substrate on which the electrode is formed; and the display formed on the insulator layer of the substrate A plasma display panel comprising a partition wall that partitions and forms a plurality of discharge cells in a region,
Any one of lead electrodes formed in a non-display area outside the display area on the surface of the substrate on which the electrode is formed and externally connected to the electrode is based on a distance between the electrodes in the display area. A plasma display panel, wherein the plasma display panel is formed in a state of being branched from the position of the display region in pairs at a wide interval.
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