JP2006318747A - Sandblast apparatus and method for sandblasting - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sandblast apparatus which can effectively reuse sandblasted waste which is generated in large quantity when partitions of PDPs are sandblasted. <P>SOLUTION: The apparatus comprises a first storage tank for storing powder abrasives, a feeder which feeds the abrasives, a supply route for carrying the abrasives from the feeder, a processing device equipped with a sandblast gun which jets the abrasives carried by the supply route to a material to be processed, an exhaust passage for transporting abrasives jetted out of the processing device and a material to be ground by using negative pressure, a classifier which classifies the abrasives and the ground material supplied from the supply route, a second storage tank which stores the abrasives caught by the classifier, and a dust collector which collects dust discharged from the classifier. The classifier comprises a first classifier which removes fine power, a second classifier which removes coarse powder, and a third classifier which catches the abrasives and they are arranged in this order. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

発明の分野Field of Invention

本発明は、気相中に粉体を分散させた噴流を被加工物に衝突させることによって研削加工を行うサンドブラスト装置に関し、より詳細には、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略す)におけるリブの形成に好適に用いられるサンドブラスト装置およびサンドブラスト加工方法に関する。   The present invention relates to a sandblasting apparatus that performs grinding by causing a jet of powder dispersed in a gas phase to collide with a workpiece, and more specifically, a rib of a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP). The present invention relates to a sandblasting apparatus and a sandblasting method that are suitably used for forming.

一般に、サンドブラスト加工法は、ガラス、大理石、プラスチック、陶磁器、皮革、木質材等の基材の表面に図柄を形成する加工方法の一つとして利用されてきた技術である。この加工法は、基材の表面にサンドブラスト用レジストを設け、レジストの露出部に研削材等を吹き付けることで選択的に研削して図柄を形成する。そして、サンドブラスト用レジストとして耐サンドブラスト性のある感光性樹脂を使用し、フォトリソグラフィー法によりマスクパターンを形成した後、その露出部分に研削材等を吹き付けて加工する方法は、微細加工ができるところから、最近では、金属パターンと絶縁パターンが混在する回路基板の形成、特にPDPの金属配線パターンやリブ、蛍光体等の絶縁パターンの形成に利用されている。   In general, the sand blasting method is a technique that has been used as one of processing methods for forming a pattern on the surface of a substrate such as glass, marble, plastic, ceramics, leather, and wood. In this processing method, a resist for sandblasting is provided on the surface of a substrate, and a pattern is formed by selectively grinding by spraying an abrasive or the like on the exposed portion of the resist. And, after using a photosensitive resin having sandblast resistance as a resist for sandblasting, forming a mask pattern by photolithography, and then processing by spraying abrasive etc. on the exposed part, it is possible from fine processing Recently, it is used for forming a circuit board in which a metal pattern and an insulating pattern are mixed, particularly for forming a metal wiring pattern of PDP, an insulating pattern such as a rib and a phosphor.

一般にPDPは、2枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、その間にNe、Xe等を主体とするガスを封入した構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に放電発光させる。このPDPには、電極が放電空間に露出している直流型(DC型)と絶縁層で覆われている交流型(AC型)の2タイプがあり、双方とも表示機能や駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式とメモリー駆動方式とに分類される。   In general, a PDP has a structure in which a pair of electrodes regularly arranged on two opposing glass substrates are provided, and a gas mainly composed of Ne, Xe, or the like is enclosed therebetween. Then, a voltage is applied between these electrodes, and discharge is generated in minute cells around the electrodes, thereby causing each cell to emit light for display. In order to display information, cells arranged regularly are selectively discharged. There are two types of PDPs: a DC type (DC type) with electrodes exposed in the discharge space and an AC type (AC type) covered with an insulating layer, both of which vary depending on the display function and driving method. Further, it is classified into a refresh driving method and a memory driving method.

PDPの一方の基板は隔壁を有し背面板を構成する。このような背面板における隔壁の形成方法としては、スクリーン印刷によりガラスペーストを重ね刷りしてパターニングした後で焼成を施すのが一般的であった。しかしながらこの方法は工程が複雑である割には良好な線幅精度が得られないことから、最近では、ガラス基板上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させ、その上に耐サンドブラスト性を有するマスクをパターン状に形成してから、このマスクを介してサンドブラスト加工を施すことによりガラスペースト(隔壁形成材料層)を研削して所望形状の隔壁をパターニングした後で焼成する方法が採られている。そして、そのサンドブラスト加工では、研削材として粒径が2〜50μm程度のガラスビーズ、SiC、SiO、Al、ZrO等の無機微粒子が用いられている。 One substrate of the PDP has a partition wall and constitutes a back plate. As a method for forming a partition wall in such a back plate, it is common to perform baking after overprinting and patterning a glass paste by screen printing. However, since this method cannot provide good line width accuracy for the complicated process, recently, a glass paste is applied on a glass substrate in a predetermined thickness and dried, and then the sandblasting resistance is further improved. After forming a mask having a pattern into a pattern, sandblasting is performed through the mask to grind the glass paste (partition forming material layer) to pattern a partition having a desired shape, followed by baking. It has been. In the sand blasting process, inorganic particles such as glass beads having a particle size of about 2 to 50 μm, SiC, SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 are used as the abrasive.

上記のような無機微粒子の研削材を使用すると、サンドブラスト加工時に、研削材と隔壁形成材料層の研削粉末とが混在した混合粉体が大量に発生する。この混合粉体を廃材としてそのまま廃棄すると環境的にもコスト的にも問題があるため、廃材としての混合粉体を再利用することが希求される。   When the above-described inorganic fine particle abrasive is used, a large amount of mixed powder is produced in which the abrasive and the abrasive powder of the partition wall forming material layer are mixed during sandblasting. If this mixed powder is discarded as a waste material as it is, there is a problem in terms of environment and cost. Therefore, it is desired to reuse the mixed powder as a waste material.

サンドブラスト加工によって排出される混合粉体を再利用するためには、研削材と被研削物とを分離する必要がある。分離工程において、サイクロン等を利用して分級を行うことにより研削材を捕集し、粒度の細かい被研削物や粉砕した研削材等を集塵装置で回収することが行われている。例えば、特開2001−157966号公報(特許文献1)には、サンドブラスト装置にサイクロン式の分級装置を付設し、この分級装置で研削材と隔壁材とを分離して、排出物の再利用を図ることができる装置が提案されている。
特開2001−157966号公報
In order to reuse the mixed powder discharged by the sandblasting process, it is necessary to separate the abrasive from the workpiece. In the separation step, the grinding material is collected by performing classification using a cyclone or the like, and the object to be ground having a fine particle size or the ground grinding material is collected by a dust collector. For example, in JP 2001-157966 A (Patent Document 1), a sandblasting device is provided with a cyclone classifier, and the abrasive and the partition material are separated by this classifier so that the waste can be reused. Devices that can be planned have been proposed.
JP 2001-157966 A

しかしながら、上記のようにサイクロン式分級装置を使用した場合であっても、分級によって研削材と隔壁材とを完全に分離することは困難であった。また、分級装置内で被研削物の凝集物が生成されたり、また、負圧によって排気経路内に混入した粗大異物が分級装置によって捕捉されてしまうため、分級装置によって分離捕集された研削材を再度サンドブラスト加工に利用しようとすると、研削不具合を生じることがあった。   However, even when the cyclone classifier is used as described above, it is difficult to completely separate the abrasive and the partition material by classification. In addition, aggregates of the object to be ground are generated in the classifier, or coarse foreign matter mixed in the exhaust path due to negative pressure is captured by the classifier, so the abrasives separated and collected by the classifier Grinding failure sometimes occurred when trying to use for sandblasting again.

本発明者らは今般、分級装置を多段化することにより、粗大異物や凝集物の含まれない研削材を分離捕集できる、との知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。   The inventors of the present invention have recently obtained the knowledge that, by using a multi-stage classification device, it is possible to separate and collect abrasives that do not contain coarse foreign matter and aggregates. The present invention is based on this finding.

したがって、本発明の目的とするところは、PDPの隔壁をサンドブラスト加工する際に、大量に発生するサンドブラスト廃材の有効な再利用を図ることができるサンドブラスト装置を提供することにある。また、本発明の別の目的は、そのサンドブラスト装置を用いたPDP隔壁のサンドブラスト加工方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a sandblasting apparatus that can effectively reuse a large amount of sandblasting waste generated when sandblasting a PDP partition wall. Another object of the present invention is to provide a method for sandblasting PDP partition walls using the sandblasting apparatus.

そして、本発明によるサンドブラスト装置は、微粉体状の研削材を貯蔵する第一貯蔵タンクと、
前記タンクと連結された、研削材を供給する供給装置と、
前記供給装置から研削材を輸送する供給経路と、
前記供給経路から輸送された研削材を被加工物に噴射する、サンドブラストガンを備えた加工装置と、
前記加工装置から噴射された研削材および被研削材を負圧により移動させる排気経路と、
前記排気経路から供給された研削材と被研削材とを分級する分級装置と、
前記分級装置によって捕集された研削材を貯蔵する第二貯蔵タンクと、
前記分級装置から排出されるダストを回収する集塵装置と、を備え、
前記分級装置が、
微粉を除去する第一分級装置と、
粗粉を除去する第二分級装置と、
研削材を捕集する第三分級装置と、からなり、
前記第一分級装置、第二分級装置、および第三分級装置が、この順で配置されてなる、ことを特徴とするものである。
And the sandblasting device according to the present invention comprises a first storage tank for storing a fine powdery abrasive,
A supply device connected to the tank for supplying an abrasive;
A supply path for transporting the abrasive from the supply device;
A processing apparatus equipped with a sandblast gun for injecting abrasives transported from the supply path onto a workpiece;
An exhaust path for moving the abrasive and the material to be ground injected from the processing device by negative pressure;
A classification device for classifying the abrasive and the material to be ground supplied from the exhaust path;
A second storage tank for storing the abrasives collected by the classifier;
A dust collecting device for collecting dust discharged from the classification device,
The classification device is
A first classifier for removing fine powder,
A second classifier for removing coarse powder;
A third classifier for collecting abrasives,
The first classifier, the second classifier, and the third classifier are arranged in this order.

本発明によれば、第一分級装置によって先ず微粉を除去することにより、凝集物が生成するのを抑制し、次いで第二分級装置により粗粉を除去して、第三分級装置によって研削材を捕集でき、これら第一から第三分級装置をこの順で連続して配置することにより、粗大異物や凝集物を含まない研削材を効率的に捕集することができる。したがって、本発明のサンドブラスト装置によれば、使用済みの研削材を繰り返し利用することができる。   According to the present invention, the fine powder is first removed by the first classifier to suppress the formation of aggregates, and then the coarse powder is removed by the second classifier, and the abrasive is removed by the third classifier. By collecting these first to third classifiers in this order in succession, it is possible to efficiently collect abrasives that do not contain coarse foreign matters and aggregates. Therefore, according to the sandblasting apparatus of the present invention, the used abrasive can be repeatedly used.

本発明のサンドブラスト装置について、図を参照しながら説明する。   The sandblasting apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明の一実施態様であるサンドブラスト装置の概略構成図を図1に示す。   The schematic block diagram of the sandblasting apparatus which is one embodiment of this invention is shown in FIG.

図1に示すように、被加工物である基板1は、搬送ローラー等の基板移送手段(図示せず)により、基板加工室2の中を所定速度で搬送される。基板加工室2内の基板1上部には、加工装置3が配置されており、この加工装置3には、基板1表面に研削材を噴射できるサンドブラストガン4が備えられている。サンドブラストガン4は移動手段(図示せず)を備え、基板搬送方向に対して直行する方向に往復移動できるようになっており、サンドブラストガン4からの研削材の噴射により、基板1表面が所望の形状に加工される。研削材は、供給装置5から気流に乗せて供給経路6を通って基板加工室2に供給される。サンドブラストガン4のノズル形状としては、丸型のノズルよりも、スリット型のノズルの方が好ましい。スリット型ノズルとすることにより、広い範囲を加工することができ、加工均一性が向上する。   As shown in FIG. 1, a substrate 1 that is a workpiece is transported in a substrate processing chamber 2 at a predetermined speed by a substrate transfer means (not shown) such as a transport roller. A processing device 3 is disposed above the substrate 1 in the substrate processing chamber 2, and this processing device 3 is provided with a sandblast gun 4 that can inject an abrasive onto the surface of the substrate 1. The sand blast gun 4 is provided with a moving means (not shown), and can reciprocate in a direction perpendicular to the substrate transport direction. The surface of the substrate 1 is desired by spraying the abrasive from the sand blast gun 4. Processed into shape. The abrasive is supplied from the supply device 5 to the substrate processing chamber 2 through the supply path 6 in an air stream. As the nozzle shape of the sandblast gun 4, a slit type nozzle is preferable to a round type nozzle. By using a slit type nozzle, a wide range can be processed, and processing uniformity is improved.

基板加工室2内で基板1に噴射された研削材は、基板の加工により排出される被研削物(例えば、基板がPDP用基板である場合、被研削物はPDP隔壁形成材料等の研削粉末である)とともに、基板加工室内に設けられたホッパー7の下部に集められ、ホッパー7下端から排気経路8へ排出される。   The grinding material sprayed onto the substrate 1 in the substrate processing chamber 2 is an object to be ground discharged by processing the substrate (for example, when the substrate is a PDP substrate, the object to be ground is a grinding powder such as a PDP partition wall forming material) And collected at the lower part of the hopper 7 provided in the substrate processing chamber, and discharged from the lower end of the hopper 7 to the exhaust path 8.

排気経路8に排出された研削物と被研削物との混合物は、気流に乗せて分級装置9へ移送される。本発明においては、図1に示すように、分級装置9は、第一分級装置10と第二分級装置11と第三分級装置12とから構成されている。排気経路8から移送された研削物および被研削物の混合粉体は、まず第一分級装置10に供給される。第一分級装置10により、混合粉体に含まれる微粉が分離される。この微粉は、被研削物を主体とするものである。第一分級装置における分級手段は、サイクロン等の風力であることが好ましい。   The mixture of the grinding object and the object to be ground discharged to the exhaust path 8 is transported to the classifying device 9 in an air stream. In the present invention, as shown in FIG. 1, the classification device 9 includes a first classification device 10, a second classification device 11, and a third classification device 12. The mixed powder of the grinding object and the object to be ground transferred from the exhaust path 8 is first supplied to the first classifier 10. The fine powder contained in the mixed powder is separated by the first classifier 10. This fine powder is mainly composed of an object to be ground. The classifying means in the first classifying device is preferably wind power such as a cyclone.

このようにして、第一分級装置10により分級された微粉は集塵装置13へ排出される。一方、微粉が除去された混合粉体は、一旦、捕集タンク14に集められ、捕集タンク14から移送経路を通じて第二分級装置11へ移送される。この移送経路には、混合粉体を気流に乗せて移送するような移送手段(図示せず)が設けられていることが好ましい。   In this way, the fine powder classified by the first classifier 10 is discharged to the dust collector 13. On the other hand, the mixed powder from which the fine powder has been removed is once collected in the collection tank 14 and transferred from the collection tank 14 to the second classifier 11 through the transfer path. This transfer path is preferably provided with transfer means (not shown) for transferring the mixed powder in an air stream.

第二分級装置11に移送された混合粉体に含まれる粗大異物や被研削物の凝集体が、ここで分級される。分級された粗大異物や凝集体は、異物回収タンク15に移送されて除去される。第二分級装置11は、このように比較的粗大な粉体を分級することを目的とするため、櫛または、櫛と風力とを組み合わせた分級手段を有していることが好ましい。   Coarse foreign substances and aggregates of the object to be ground contained in the mixed powder transferred to the second classifier 11 are classified here. The classified coarse foreign matters and aggregates are transferred to the foreign matter recovery tank 15 and removed. In order to classify the relatively coarse powder in this way, the second classifier 11 preferably has a comb or a classifying means that combines a comb and wind power.

次いで、粗大異物や凝集体が除去された混合粉体は、移送経路を通じて第三分級装置12へと移送される。ここでは、第一および第二分級装置で除去しきれなかった、研削材以外の残存粉体が除去される。この段階では、混合粉体中には比較的大きな粉体は残存していないため、サイクロン等の風力を利用する分級手段を利用することが好ましい。   Next, the mixed powder from which coarse foreign matters and aggregates have been removed is transferred to the third classifier 12 through a transfer path. Here, residual powder other than the abrasive that could not be removed by the first and second classifiers is removed. At this stage, since a relatively large powder does not remain in the mixed powder, it is preferable to use a classification means using wind power such as a cyclone.

分級された残存粉体は、移送経路を通じて集塵装置13へ移送される。集塵装置は、一実施態様として、図1に示すように、第一分級装置10と第三分級装置12との両方から移送される微粉を一台の装置13によって捕集してもよく、また、各分級装置ごとに別個に集塵装置を設けてもよい。   The classified residual powder is transferred to the dust collector 13 through the transfer path. As shown in FIG. 1, the dust collector may collect fine powder transferred from both the first classifier 10 and the third classifier 12 by one apparatus 13 as shown in FIG. Moreover, you may provide a dust collector separately for every classifier.

一方、残存粉体が除去された混合粉体、すなわち研削材は、貯蔵タンク16へ移送される。貯蔵タンク16内の研削材は、供給装置5により、供給経路6を通じて、再び基板加工室2へと供給される。   On the other hand, the mixed powder from which the residual powder has been removed, that is, the abrasive, is transferred to the storage tank 16. The abrasive in the storage tank 16 is supplied again to the substrate processing chamber 2 by the supply device 5 through the supply path 6.

本発明においては、上記のように分級装置として、第一ないし第三の分級装置をこの順で連続して設けることにより、粗大異物や凝集体の含まれない研削材を分級することができるため、効率的に研削材の再利用を図ることができる。   In the present invention, as described above, the first to third classifiers are continuously provided in this order as the classifier, so that abrasives that do not contain coarse foreign matters and aggregates can be classified. Thus, the abrasive can be reused efficiently.

また、各排気経路および供給経路には、必要に応じて金属メッシュ等の異物分離手段(図示せず)を設けてもよく、このような異物分離手段により、より純度の高い研削物を得ることができる。   In addition, each exhaust path and supply path may be provided with a foreign matter separating means (not shown) such as a metal mesh, if necessary, and a higher-purity ground material can be obtained by such a foreign matter separating means. Can do.

次に、上記のサンドブラスト装置を用いたPDPの隔壁を形成する方法について説明する。   Next, a method for forming a PDP partition using the sandblasting apparatus will be described.

先ず、ガラス等の基板上に隔壁形成用ペーストを塗布して乾燥させることにより、基板上に隔壁形成材料層を形成する。その隔壁形成材料層上に、耐サンドブラスト性を有する感光性樹脂を設けた後、フォトマスクを介して活性光線を照射して露光し、所望のパターンに現像する。このようにしてマスクパターンが形成された基板を、サンドブラスト装置に移送してサンドブラスト加工を行う。サンドブラストガンから噴射されたサンドブラスト研削材によって、マスクパターン以外の隔壁形成材料層が研削され、所望のパターンを有する隔壁が形成される。   First, a partition wall forming paste is applied to a substrate such as glass and dried to form a partition wall forming material layer on the substrate. A photosensitive resin having sandblast resistance is provided on the partition wall forming material layer, and then exposed to an actinic ray through a photomask for exposure to develop into a desired pattern. The substrate on which the mask pattern is formed in this way is transferred to a sand blasting apparatus and subjected to sand blasting. A partition forming material layer other than the mask pattern is ground by the sand blasting abrasive sprayed from the sand blast gun, and a partition having a desired pattern is formed.

サンドブラスト加工条件は、通常のサンドブラスト法と同様であるが、好ましくは、噴出圧力0.001〜3kg/cm、噴射量100〜5000g/minである。 Sandblasting conditions is similar to the conventional sandblast method, preferably, the ejection pressure 0.001~3kg / cm 2, an injection amount 100~5000g / min.

隔壁形成用ペーストは、低融点ガラス粉末、耐火性フィラー等の無機粉末を主成分とし、これに適当なバインダー樹脂および溶剤を加えた組成のペースト組成物である。バインダー樹脂としてはセルロース系樹脂またはアクリル系樹脂が好適に使用できる。このような樹脂を用いることにより、サンドブラスト加工による研削性が極めて良好となる。   The partition wall forming paste is a paste composition having a composition in which an inorganic powder such as a low melting glass powder and a refractory filler is a main component and an appropriate binder resin and solvent are added thereto. As the binder resin, a cellulose resin or an acrylic resin can be preferably used. By using such a resin, the grindability by sandblasting becomes extremely good.

このペースト組成物は、先ず低融点ガラス粉末、耐火性フィラー、および顔料等を混合した無機粉体をボールミル等によって粉砕し、各成分の粒度を調整する。次いで、粉砕した無機粉体を櫛分けして粗大異物を除去し、乾燥させることにより、フリットを調製する。得られたフリットにバインダー樹脂と溶剤とを加えて、インキ化することによりペースト組成物とする。   In this paste composition, first, an inorganic powder in which a low-melting glass powder, a refractory filler, a pigment and the like are mixed is pulverized by a ball mill or the like to adjust the particle size of each component. Next, the crushed inorganic powder is combed to remove coarse foreign matters and dried to prepare a frit. A binder resin and a solvent are added to the resulting frit to form an ink, thereby obtaining a paste composition.

次に、上記のサンドブラスト装置を用いて製造されたPDPについて、AC型のPDPを一例に説明する。   Next, an AC type PDP will be described as an example of a PDP manufactured using the above sand blasting apparatus.

図2において、PDPを構成する2枚のガラス基板21,22が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基板22上に互いに平行に設けられた隔壁23により一定の間隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス基板21の背面側には透明電極である維持電極24と金属電極であるバス電極25とで構成される複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層26が形成されている。誘電体層26上には保護層27(MgO層)が形成されている。また、背面板となるガラス基板22の前面側には前記複合電極と直交するように隔壁23の間に位置するアドレス電極28が互いに平行に形成されている。このアドレス電極28を覆って誘電体層29が形成され、さらに隔壁23の壁面とセル底面を覆うようにして蛍光体20が設けられている。このAC型PDPは面放電型であって、前面板上の複合電極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そしてこの放電により生じる紫外線により蛍光体20を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようになっている。   In FIG. 2, two glass substrates 21 and 22 constituting the PDP are arranged in parallel and facing each other, and both are provided by a partition wall 23 provided in parallel with each other on a glass substrate 22 serving as a back plate. It is held at regular intervals. On the back side of the glass substrate 21 serving as the front plate, a composite electrode composed of the sustain electrode 24 that is a transparent electrode and the bus electrode 25 that is a metal electrode is formed in parallel to each other, and a dielectric layer 26 covers the same. Is formed. A protective layer 27 (MgO layer) is formed on the dielectric layer 26. Further, address electrodes 28 located between the partition walls 23 are formed in parallel to each other on the front side of the glass substrate 22 serving as a back plate so as to be orthogonal to the composite electrode. A dielectric layer 29 is formed to cover the address electrodes 28, and a phosphor 20 is provided so as to cover the wall surface of the partition wall 23 and the cell bottom surface. The AC type PDP is a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between the composite electrodes on the front plate to discharge. The phosphor 20 emits light by the ultraviolet rays generated by this discharge, and the observer visually recognizes the light transmitted through the front plate.

以下、実施例により本発明のサンドブラスト装置を説明するが、これら実施例により、本発明の範囲が限定されるものではない。   Hereinafter, although the sandblasting apparatus of the present invention will be described by way of examples, the scope of the present invention is not limited by these examples.

1.基板の準備
平面の大きさが1460×1050mmで厚さ2.8mmのガラス基板を用意し、その片面の表面に300μmピッチで平行なストライプ上の多数の電極をスクリーン印刷した。
1. Preparation of substrate A glass substrate having a plane size of 1460 × 1050 mm and a thickness of 2.8 mm was prepared, and a large number of electrodes on stripes parallel to each other at 300 μm pitch were screen-printed on the surface of one side.

次に、形成した電極層を含めてガラス基板上の所定の位置を覆うように、低融点ガラスペーストをスクリーン印刷により塗布し、170℃×30分間乾燥を行い、ペーストを固化させた。続いて、ピーク温度585℃、昇温から除冷まで合計90分の焼成条件にてバインダー成分を焼成し、ガラス成分を焼結させて誘電体層を基板上に形成した。   Next, a low melting point glass paste was applied by screen printing so as to cover a predetermined position on the glass substrate including the formed electrode layer, and dried at 170 ° C. for 30 minutes to solidify the paste. Subsequently, the binder component was fired under a firing temperature of 90 minutes in total from peak temperature 585 ° C. to temperature rise to cooling, and the glass component was sintered to form a dielectric layer on the substrate.

誘電体層を形成した側の基板面上の所定位置に、セルロース系樹脂をバインダーとする低融点ガラスペーストをダイコーターにて一括コーティングし、昇温から除冷まで70分間、ピーク温度200℃を15分間保持した条件にて、ペーストを乾燥固化させて隔壁形成材料層を形成した。   A low melting point glass paste using a cellulose-based resin as a binder is collectively coated with a die coater at a predetermined position on the substrate surface on the side where the dielectric layer is formed, and a peak temperature of 200 ° C. is applied for 70 minutes from temperature rise to cooling. Under the condition of holding for 15 minutes, the paste was dried and solidified to form a partition wall forming material layer.

次いで、得られた隔壁形成材料層を覆うようにして、ドライフィルム(AX166FF、旭化成株式会社製)をラミネートして、フォトマスクを介して露光現像を行った。このようにして、幅90μm、間隔210μmの平行ストライプ状のパターンを有するサンドブラスト用レジストマスクを形成した。レジストマスクは、基盤上に設けた電極がレジストマスクパターンの間隔210μmのちょうど中央に配置されるように形成されたものである。なお、現像液は、濃度5g/lの炭酸ナトリウム水溶液を使用した。   Next, a dry film (AX166FF, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) was laminated so as to cover the obtained partition wall forming material layer, and exposure development was performed through a photomask. In this manner, a resist mask for sandblasting having a parallel stripe pattern with a width of 90 μm and an interval of 210 μm was formed. The resist mask is formed such that the electrodes provided on the substrate are arranged at the exact center of the resist mask pattern interval of 210 μm. The developer used was an aqueous sodium carbonate solution having a concentration of 5 g / l.

2.サンドブラスト加工
次いで、図1に示すようなサンドブラスト装置を使用して、サンドブラスト加工を行うことにより隔壁を形成した。先ず、サンドブラスト用マスクを設けた基板を、多数の搬送ローラーからなる移送手段によって、基板加工室に移送し、基板のマスク面側の表面に向けてサンドブラストガンから研削材を噴射した。研削材とて、平均粒径15μmのステンレス研削材を使用した。
2. Sandblasting Next, a sandblasting apparatus as shown in FIG. 1 was used to carry out sandblasting to form partition walls. First, a substrate provided with a sandblast mask was transferred to a substrate processing chamber by transfer means comprising a number of transfer rollers, and an abrasive was sprayed from the sandblast gun toward the surface of the substrate on the mask surface side. A stainless abrasive with an average particle size of 15 μm was used as the abrasive.

基板加工室には、基板の搬送方向に直交する方向に往復移動し得る4基のサンドブラストガンが備えてあり、各サンドブラストガンは、200mm×2.8mmのスリットから、基板に対してほぼ垂直に研削材を噴射するスリットノズルを有するものであった。   The substrate processing chamber includes four sandblast guns that can reciprocate in a direction perpendicular to the substrate transport direction. Each sandblast gun is approximately perpendicular to the substrate from a 200 mm × 2.8 mm slit. It had a slit nozzle which injects an abrasive.

サンドブラスト加工後、濃度10g/lの水酸化ナトリウム水溶液にて隔壁上に設けたレジストマスクを剥離し除去した。さらに、純水にて洗浄を行い、ピーク温度100℃で乾燥させて水分を除去した。   After sandblasting, the resist mask provided on the partition wall was peeled off and removed with an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 10 g / l. Furthermore, it was washed with pure water and dried at a peak temperature of 100 ° C. to remove moisture.

上記のようにしてサンドブラスト加工された隔壁は、幅80μm、高さ185μmで各隔壁間の間隔が220μmであった。サンドブラスト加工後の基板を観察したところ、レジストマスクが設けられている部分以外の部分の隔壁形成材料層は全て研削除去されており、また、除去された隔壁形成材料層下の誘電体層、電極層、およびガラス基板には、何らの損傷も生じていなかった。   The partition walls sandblasted as described above had a width of 80 μm, a height of 185 μm, and an interval between the partition walls of 220 μm. When the substrate after sandblasting was observed, all the partition wall forming material layers other than the portion where the resist mask was provided were ground and removed, and the dielectric layer and electrodes under the removed partition wall forming material layer No damage was caused to the layer and the glass substrate.

3.PDP背面板の作製
所定パターンの隔壁が形成されたガラス基板を焼成することにより、低融点ガラス成分である鉛ガラスが完全に溶融させてガラスを焼成するとともに、バインダー樹脂の焼却を行い、PDP背面板1を得た。
3. Preparation of PDP back plate By firing a glass substrate on which partition walls having a predetermined pattern are formed, lead glass, which is a low melting point glass component, is completely melted and the glass is fired, and the binder resin is incinerated. A face plate 1 was obtained.

4.研削材の再利用
上記サンドブラスト加工によって排出された混合粉体を、図1に示すサンドブラスト装置を用いて分級しながらPDP背面板2を作製した。具体的には、第一分級装置10によって微粉を取り除いた混合粉体を捕集タンク14に集め、次いで第二分級装置11および第三分級装置12によって、粗大異物や被研削物の凝集体等を除去して、分級された研削材を再度、供給装置15に供給することにより研削材を再利用した。この研削材の再利用工程は、サンドブラスト加工中に、逐次、連続的に行われた。
4). Reuse of Abrasive Material A PDP back plate 2 was produced while classifying the mixed powder discharged by the sandblasting process using a sandblasting apparatus shown in FIG. Specifically, the mixed powder from which the fine powder has been removed by the first classifier 10 is collected in the collection tank 14, and then the coarse particles and the aggregate of the object to be ground are collected by the second classifier 11 and the third classifier 12. Then, the classified abrasives were supplied again to the supply device 15 to reuse the abrasives. The recycling process of the abrasive was sequentially and continuously performed during sandblasting.

本発明のサンドブラスト装置を用いて研削材を再利用しながらサンドブラスト加工を行ったPDP背面板2の隔壁は、再利用せずに新しい研削材を使用して加工したPDP背面板1の隔壁と比較して、同等の品質であった。   The partition wall of the PDP back plate 2 that was sandblasted while reusing the abrasive using the sandblasting apparatus of the present invention was compared with the partition wall of the PDP back plate 1 that was processed using a new abrasive material without being reused. And the quality was equivalent.

本発明のサンドブラスト装置の一例を示した構成概略図である。It is the structure schematic which showed an example of the sandblasting apparatus of this invention. プラズマディスプレイパネルの概略図である。It is the schematic of a plasma display panel.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 基板加工室
3 加工装置
4 サンドブラストガン
5 供給装置
6 供給経路
7 ホッパー
8 排気経路
9 分級装置
10 第一分級装置
11 第二分級装置
12 第三分級装置
13 集塵装置
14 捕集タンク
15 異物回収タンク
16 貯蔵タンク
20 蛍光体
21、22 基板
23 隔壁
24 維持電極
25 バス電極
26 誘電体層
27 保護層
28 アドレス電極
29 誘電体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Substrate processing chamber 3 Processing apparatus 4 Sandblast gun 5 Supply apparatus 6 Supply path 7 Hopper 8 Exhaust path 9 Classifier 10 First classifier 11 Second classifier 12 Third classifier 13 Dust collector 14 Collection tank 15 Foreign material recovery tank 16 Storage tank 20 Phosphor 21, 22 Substrate 23 Bulkhead 24 Sustain electrode 25 Bus electrode 26 Dielectric layer 27 Protective layer 28 Address electrode 29 Dielectric layer

Claims (11)

微粉体状の研削材を貯蔵する第一貯蔵タンクと、
前記タンクと連結された、研削材を供給する供給装置と、
前記供給装置から研削材を輸送する供給経路と、
前記供給経路から輸送された研削材を被加工物に噴射する、サンドブラストガンを備えた加工装置と、
前記加工装置から噴射された研削材および被研削材を負圧により移動させる排気経路と、
前記排気経路から供給された研削材と被研削材とを分級する分級装置と、
前記分級装置によって捕集された研削材を貯蔵する第二貯蔵タンクと、
前記分級装置から排出されるダストを回収する集塵装置と、を備え、
前記分級装置が、
微粉を除去する第一分級装置と、
粗粉を除去する第二分級装置と、
研削材を捕集する第三分級装置と、からなり、
前記第一分級装置、第二分級装置、および第三分級装置が、この順で配置されてなる、ことを特徴とする、サンドブラスト装置。
A first storage tank for storing finely divided abrasives;
A supply device connected to the tank for supplying an abrasive;
A supply path for transporting the abrasive from the supply device;
A processing apparatus equipped with a sandblast gun for injecting abrasives transported from the supply path onto a workpiece;
An exhaust path for moving the abrasive and the material to be ground injected from the processing device by negative pressure;
A classification device for classifying the abrasive and the material to be ground supplied from the exhaust path;
A second storage tank for storing the abrasives collected by the classifier;
A dust collecting device for collecting dust discharged from the classification device,
The classification device is
A first classifier for removing fine powder,
A second classifier for removing coarse powder;
A third classifier for collecting abrasives,
The sand blasting device, wherein the first classifying device, the second classifying device, and the third classifying device are arranged in this order.
前記第一分級装置と第二分級装置との間に、捕集タンクおよび移送装置が配置されてなる、請求項1に記載のサンドブラスト装置。   The sandblasting device according to claim 1, wherein a collection tank and a transfer device are arranged between the first classifying device and the second classifying device. 前記被加工物が、プラズマディスプレイ部材である、請求項1または2に記載のサンドブラスト装置。   The sandblasting apparatus according to claim 1 or 2, wherein the workpiece is a plasma display member. 前記第二分級装置が、櫛または風力により分級を行うものである、請求項1〜3のいずれか一項に記載のサンドブラスト装置。   The sand blasting device according to any one of claims 1 to 3, wherein the second classifying device performs classification by a comb or wind power. 前記供給経路および/または前記排気経路が、異物分離手段を備えてなる、請求項1〜4のいずれか一項に記載のサンドブラスト装置。   The sandblasting apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the supply path and / or the exhaust path includes a foreign matter separating means. 前記異物分離手段が、金属メッシュである、請求項5に記載のサンドブラスト装置。   The sandblasting apparatus according to claim 5, wherein the foreign matter separating means is a metal mesh. 前記第一分級装置および第三分級装置が、風力によって分級を行うものである、請求項1〜6のいずれか一項に記載のサンドブラスト装置。   The sandblasting device according to any one of claims 1 to 6, wherein the first classifying device and the third classifying device classify by wind power. 前記集塵装置が、前記第一分級装置および第三分級装置に設けられてなる、請求項1〜7のいずれか一項に記載のサンドブラスト装置。   The sand blasting device according to any one of claims 1 to 7, wherein the dust collecting device is provided in the first classifying device and the third classifying device. 請求項1〜8のいずれか一項に記載のサンドブラスト装置を用いた、サンドブラスト加工方法。   The sandblasting method using the sandblasting apparatus as described in any one of Claims 1-8. 請求項9に記載の方法を含んでなる、プラズマディスプレイパネルの製造方法。   A method for manufacturing a plasma display panel, comprising the method according to claim 9. 請求項10に記載の方法により得られるプラズマディスプレイパネル。   A plasma display panel obtained by the method according to claim 10.
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