JP2007246434A - ピラゾール系化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】反応の選択性が良好で、収率が良好なピラゾール系化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物の製造方法であって、下記一般式（Ｚ）で表される化合物を用いる。

【選択図】なし

Description

本発明は、着色組成物、カラーフィルタ、インクジェット用インク、印刷用インク、塗料や、医薬等に有用なピラゾール系化合物の製造方法に関する。

近年、ヘテロ環基を有するアゾ色素は、色相、堅牢性等の点で優れており、カラーフィルタ用色素、インクジェット用色素、昇華転写用色素等の色素として有用であることが報告されている（例えば、特許文献１〜４参照）。これらの色素のうち、ピラゾール系化合物の製造方法においては、従来、ヘテリル化剤としては、ハロゲン置換のヘテロ環化合物、スルホン酸エステル置換のヘテロ環化合物を用いることが知られている（例えば、特許文献１〜４参照）。

特開２００２−３７１０７９号公報 特開２００５−０９９６７７号公報 特開２００５−２１３３５７号公報 特開２００５−２１５２８６号公報

しかし、上記従来技術では、反応の選択性が不十分であり、収率、及び製造適性が不十分である。

本発明は上記に鑑みなされたものであり、反応の選択性が良好で、収率が良好なピラゾール系化合物の製造方法を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。

本発明は、ヘテリル化剤について、種々検討した結果、ヘテロ環化合物のスルホン置換体又はスルホキシド置換体が、従来のヘテリル化剤に比し、反応の選択性及び収率の向上に効果的であるとの知見を得、該知見に基づいて下記構成のピラゾール系化合物の製造方法が提供され、前記の目的が達成されたものである。

前記の課題を解決するための具体的手段は、以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物の製造方法であって、下記一般式（Ｚ）で表される化合物を用いることを特徴とするピラゾール系化合物の製造方法である。

一般式（Ｘ）中、Ｒ₁、Ｅ、及びＲａは各々独立に水素原子又は置換基を表す。一般式（Ｘ）及び一般式（Ｚ）中、Ｘは、＝Ｃ（Ｒ₂）−、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｒ₂は水素原子又は置換基を表す。一般式（Ｘ）及び一般式（Ｚ）中、Ｇは、一般式（Ｘ）及び一般式（Ｚ）中の窒素原子、炭素原子、及びＸと共に５員、又は６員の環を形成するために必要な原子群を表す。一般式（Ｚ）中、ｎは１又は２を表し、Ｙは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。

＜２＞ 前記一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物が、下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表されることを特徴とする＜１＞に記載のピラゾール系化合物の製造方法である。

一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、Ｒ₁及びＥは各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｘは、＝Ｃ（Ｒ₂）−、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｒ₂は水素原子又は置換基を表す。Ｇは、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中の窒素原子、炭素原子、及びＸと共に５員、又は６員の環を形成するために必要な原子群を表し、Ｃｐはカプラー残基を表す。

＜３＞ 更に、塩基を用いることを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載のピラゾール系化合物の製造方法である。
＜４＞ 前記塩基の少なくとも１種が、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類、及びアルカリ金属炭酸水素塩類の少なくとも１種であることを特徴とする＜３＞に記載のピラゾール系化合物の製造方法である。

＜５＞ 前記塩基の少なくとも１種が、有機塩基類であることを特徴とする＜３＞又は＜４＞に記載のピラゾール系化合物の製造方法である。
＜６＞ 更に、溶媒として、水、アルコール類、アセトニトリル、エステル類、アミド類、及びジメチルスルホキシドの少なくとも１種を用いることを特徴とする＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のピラゾール系化合物の製造方法である。

本発明によれば、反応の選択性が良好で、収率が良好なピラゾール系化合物の製造方法を提供することができる。

本発明のピラゾール系化合物の製造方法は、下記一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物の製造方法であって、下記一般式（Ｚ）で表される化合物を用いる工程を含んで構成されたものである。
以下、まず一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物及び一般式（Ｚ）で表される化合物について説明し、引き続き、本発明のピラゾール系化合物の製造方法について説明する。

＜一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物＞
本発明のピラゾール系化合物の製造方法を用いて合成される、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物は、特に、光や熱に対する堅牢性に優れた化合物であり、例えば、着色組成物、カラーフィルタ、インクジェット用インク、印刷用インク、塗料、及び医薬等の用途に好適に用いられるものである。
以下、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物について詳しく説明する。

一般式（Ｘ）中、Ｒ₁は水素原子又は置換基を表す。
Ｒ₁で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１８の、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、１−ノルボルニル、１−アダマンチル）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜１８のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、３−ブテン−１−イル）、アリール基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは６〜１２のアリール基である。例えば、フェニル、ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基である。例えば、２−チエニル、４−ピリジル、２−フリル、２−ピリミジニル、１−ピリジル、２−ベンゾチアゾリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−１−イル）、シリル基（好ましくは炭素数３〜３８、より好ましくは３〜１２のシリル基である。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ヘキシルジメチルシリル）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のアルコキシ基である。例えば、メトキシ、エトキシ、１−ブトキシ、２−ブトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは６〜１２のアリールオキシ基である。例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のヘテロ環オキシ基である。例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、

シリルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のシリルオキシ基である。例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜１２のアシルオキシ基である。例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜１２のアルコキシカルボニルオキシ基である。例えば、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは７〜１８のアリールオキシカルボニルオキシ基である。例えば、フェノキシカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のカルバモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、スルファモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のスルファモイルオキシ基である。例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルオキシ、Ｎ−プロピルスルファモイルオキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３８、より好ましくは１〜１２のアルキルスルホニルオキシ基である。例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは６〜１２のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ）、

アシル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のアシル基である。例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜１２のアルコキシカルボニル基である。例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは７〜１２のアリールオキシカルボニル基である。例えば、フェノキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のカルバモイル基である。例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルカルバモイル）、アミノ基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは１２以下のアミノ基である。例えば、アミノ、メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、２−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ）、アニリノ基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは６〜１２のアニリノ基で、例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ）、ヘテロ環アミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のヘテロ環アミノ基である。例えば、４−ピリジルアミノ）、

カルボンアミド基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜１２のカルボンアミド基である。例えば、アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、ピバロイルアミド、シクロヘキサンアミド）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のウレイド基である。例えば、ウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド）、イミド基（好ましくは炭素数２０以下、より好ましくは１２以下のイミド基である。例えば、Ｎ−スクシンイミド，Ｎ−フタルイミド）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４８、より好ましくは２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基である。例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３２、より好ましくは７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基である。例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のスルホンアミド基である。例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ヘキサデカンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のスルファモイルアミノ基である。例えば、Ｎ、Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイルアミノ）、アゾ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜２４のアゾ基である。例えば、フェニルアゾ、３−ピラゾリルアゾ）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のアルキルチオ基である。例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは６〜１２のアリールチオ基である、例えば、フェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のヘテロ環チオ基である。例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオ、１−フェニルテトラゾリルチオ）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のアルキルスルフィニル基である。例えば、ドデカンスルフィニル）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６〜３２、より好ましくは６〜１２のアリールスルフィニル基である。例えば、フェニルスルフィニル）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１〜４８、より好ましくは１〜１２のアルキルスルホニル基である。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、２−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６〜４８、より好ましくは６〜１２のアリールスルホニル基である。例えば、フェニルスルホニル、１−ナフチルスルホニル）、ヘテロ環スルホニル基（好ましくは、ピロール−２−スルホニル、ピラゾール−３−スルホニル、チアゾール−２−スルホニル、ピリジン−３−スルホニル）、スルファモイル基（好ましくは炭素数３２以下、より好ましくは１６以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル）、

スルホ基、ホスホニル基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のホスホニル基である。例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、ホスフィノイルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３２、より好ましくは１〜１２のホスフィノイルアミノ基である。例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ）等が挙げられる。

一般式（Ｘ）中のＲ₁が、更に置換可能な基である場合には、既述のＲ₁で表される置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらは同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｘ）中、Ｅは水素原子又は置換基を表す。Ｅで表される置換基は、既述のＲ₁で説明した置換基と同義である。Ｅが更に置換可能な基である場合には、既述のＲ₁で説明した置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらは、同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｘ）中、Ｒａは、水素原子又は置換基を表す。Ｒａで表される置換基は、既述のＲ₁で説明した置換基と同義である。Ｒａが更に置換可能な基である場合には、既述のＲ₁で説明した置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらは、同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｘ）中、Ｘは、＝Ｃ（Ｒ₂）−、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｒ₂は水素原子又は置換基を表す。
Ｒ₂で表される置換基は、既述のＲ₁で説明した置換基と同義である。Ｒ₂で表される置換基が、更に置換可能な基の場合には、既述のＲ₁で説明した置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｘ）中、Ｇは、一般式（Ｘ）中の窒素原子、炭素原子、及びＸと共に５員又は６員の環を形成するために必要な原子群を表す。形成される５員の環としては、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，４−トリアゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、１，２，４−オキサジアゾール環、及び１，３，４−オキサジアゾール環等が挙げられる。形成される６員の環としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピリダジン環等が挙げられる。前記５員の環又は６員の環は、更に既述のＲ₁で表される置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。また、前述の５員の環、又は６員の環は、更に他の環（既述の５員の環、６員の環、ベンゼン環、ナフタレン環、又はキノリン環等）が縮合していてもよい。
尚、本明細書中では、上述の窒素原子、炭素原子、及びＸで構成される環状の基を、単に「−Ｈｅｔ」と表記することがある。

一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物は、好ましくは下記一般式（Ｉ）、又は一般式（ＩＩ）で表される。

一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、Ｒ₁、Ｅ、Ｘ、及びＧは、前記一般式（Ｘ）における、Ｒ₁、Ｅ、Ｘ、及びＧと各々同義である。Ｃｐはカプラー残基を表す。
一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中のＣｐはカプラー残基を表し、カプラー残基は、ジアゾニウム塩類との反応においてカップリングし得る化合物の残基であればいずれでもよく、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中のＣｐの具体的な化合物例としては、特開２００２−３７１０７９号公報、及び同２００５−９９６７７号公報等に記載のピリジン系のカプラー成分、特開２００５−２１３３５７号公報、同２００５−２１５２８６号公報、特開昭５１−８３６３１号公報、同４９−７４７１８号公報、同５８−１０１１５８号公報、特公５２−４６２３０公報、欧州特許第２３３０９号公報、ドイツ特許第２７１９０７９号公報、同２３０７４４号公報、同２５１３９４９号公報、同２５２５５０５号公報、及び同２８３２０２０号公報等に記載のピリミジン系のカプラー成分、特開２００５−２１３３５７号公報、及び同２００５−２１５２８６号公報等に記載のピリミジン系のカプラー成分、特開昭５５−１６１９５６号公報、同６１−３６３６２号公報、同６１−１５２７６８号公報、特開平６−１４５５４３号公報、同７−２２４２２３０号公報、米国特許第４６５０８６１号公報、同３０１０７０号公報、特表平１１−５０４９５８号公報、及び特開平１０−２０４３５７号公報等に記載のアニリン系のカプラー成分、特開平５−２０４１０６号公報、同９−５９２５０号公報、特公平２−４４０５１号公報、特公昭４７−２７４１１号公報、米国特許第４５４０６６５４号公報、同３７２５０６７号公報、同４９４２１１７号公報、及び同５０２１３２５号公報等に記載のピラゾロアゾール系のカプラー成分、特開平５−１５４０４１８号公報、同５−３３１３８１号公報、特開２００１−２６１９９０号公報、及び同２００１−３４２１８９号公報等に記載のピロロアゾール系のカプラー成分等、公知のピラゾリン−５−オン系のカプラー成分、特開平５−２９５２８４号公報に記載のアミノピラゾール系のカプラー成分等が挙げられる。

次に、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）の好ましい範囲について説明する。
一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、Ｒ₁は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、又はシアノ基であり、Ｅは、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、又はヘテロ環スルホニル基であり、Ｘ及びＧは、５員の環としては、ピラゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、１，３，４−チアジアゾール環、又はオキサゾール環を形成するために必要な原子群であり、６員の環としては、ピリジン環、ピリミジン環、及びピラジン環を形成するために必要な原子群を表す。

更に好ましくは、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、Ｒ₁は水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、Ｅはシアノ基であり、Ｘ及びＧは５員の環で、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、又は１，３，４−チアジアゾール環を形成する原子群を表す。

更に、一般式（Ｉ）で表される化合物の合成においては、Ｒ₁は三級アルキル基が特に好ましく、一般式（ＩＩ）の化合物の合成においては、Ｒ₁は、水素原子が最も好ましい。

次に、一般式（Ｘ）、一般式（Ｉ）、及び一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例（例示化合物Ｉ−１〜Ｉ−２０、ＩＩ−１〜ＩＩ−１３、Ｉａ−１〜Ｉａ−３、ＩＩａ−１〜ＩＩａ−３、Ｉｂ−１〜Ｉｂ−５）を以下に示す。但し、本発明は、これらに限定されるものではない。

＜一般式（Ｚ）で表される化合物＞
次に、一般式（Ｚ）で表される化合物について詳細に説明する。

一般式（Ｚ）中、Ｘ及びＧは、一般式（Ｘ）中のそれと同義である。ｎは１又は２を表す。
一般式（Ｚ）中、Ｙは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。Ｙで表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基は、既述のＲ₁で説明したアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基と同義である。
一般式（Ｚ）中のＹは更に、既述のＲ₁で説明した置換基で置換されていてもよく、複数の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は、同一でも異なっていてもよい。

一般式（Ｚ）は好ましくは、Ｘ及びＧは、前記の一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）のそれと同様であり、ｎは１又は２であり、Ｙは、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基で表される。
更に好ましくは、ｎは１又は２であり、Ｙは、アルキル基、又はアリール基で表される。

上記態様の中でも、一般式（Ｚ）は、Ｘが硫黄原子であって、Ｇが、一般式（Ｚ）中の窒素原子、炭素原子、及び硫黄原子と共に５員の環（好ましくはチアゾール環、ベンゾチアゾール環、１，２，４−チアジアゾール環、又は１，３，４−チアジアゾール環）を形成するために必要な原子群であって、ｎが２であって、Ｙがアルキル基又はアリール基である態様が、特に好ましい。

以下に、本発明の一般式（Ｚ）で表される化合物の具体例（例示化合物IIIａ−１〜IIIａ−１９、IIIｂ−１〜IIIｂ−２４、IIIｃ−１〜IIIｃ−４）を以下に示す。但し、本発明は、これらに限定されるものではない。

＜一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物の製造方法＞
次に、上記で説明した、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物の製造方法について、詳細に説明する。
本発明のピラゾール系化合物の製造方法は、上記一般式（Ｚ）で表される化合物を用いるものであれば特に制限はないが、例えば、以下の反応スキームＡに従って行うことができる。

一般式（Ｚ）で表される化合物は、例えば、化合物１で表されるハロゲン体（クロル体）に、化合物２で表されるスルフィン酸誘導体又はスルフェン酸誘導体を、塩基の存在下で作用させて合成することができる。
または、一般式（Ｚ）で表される化合物は、化合物１で表されるハロゲン体（クロル体）に、化合物３で表されるチオール誘導体を作用させて、化合物４を得た後、該化合物４を酸化して合成することができる。
更に、一般式（Ｚ）で表される化合物は、化合物１ａで表されるチオール体に、化合物Ｙ−Ｈａｌで表されるハロゲン体を反応させて化合物４を得た後、該化合物を酸化して合成することができる。

本発明のピラゾール系化合物の製造方法に用いられる、一般式（Ｚ）で表される化合物の使用量は、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物に対して、０．５倍モル〜５倍モルが好ましく、０．８倍モル〜３倍モルがより好ましく、等モル〜２倍モルが特に好ましい。

本発明の製造方法においては、溶媒を用いても用いなくてもよいが、収率、及び製造適性（操作性、撹拌性）の観点からは、溶媒を用いた方が好ましい。使用できる溶媒としては、水、炭化水素類（例えば、ヘキサン、トルエン、キシレン）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロルベンゼン）、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホキシド、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸エチル）、アミド類（例えば、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ピリジン等を用いることができる。また、前記の溶媒の混合溶媒を用いてもよい。好ましい溶媒としては、スルホラン、ジメチルスルホキシド、もしくはアミド類等の極性溶媒、又は、それらの極性溶媒と他の溶媒との混合溶媒が挙げられる。

また、収率、製造適性（撹拌性、操作性）の観点からは、水、アルコール類、アセトニトリル、エステル類、アミド類、ジメチルスルホキシドの少なくとも１種を用いることも好ましい。

使用する溶媒の量は、特に制限はないが、収率、撹拌性の観点からは、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物に対して質量比で、０．１〜５０倍量、好ましくは０．１〜２０倍量、より好ましくは０．３〜１０倍量を用いることが好ましい。

本発明の製造方法においては、塩基を用いても用いなくてもよいが、反応時間、収率の観点からは、塩基を用いた方が好ましい。使用する塩基としては、炭酸水素塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カルシウム）、炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム）、水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化セシウム）、水素化金属類（例えば、水素化ナトリウム）、アルコラート類（例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔ−ブトキシカリウム）、有機塩基類（例えば、ピリジン、キノリン、ルチジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン）等が使用できる。

上記の中でも、製造適性（コスト、反応時間）、収率の観点からは、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類、又はアルカリ金属炭酸水素塩類の少なくとも１種であることが好ましい。また、反応位置の選択性、収率の観点からは、有機塩基類であることが好ましい。

使用する塩基の量は、特に制限はないが、コスト、収率の観点からは、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物に対してモル比で、０．５〜２０倍モル、好ましくは、０．８〜５倍モル、より好ましくは０．８倍〜３倍モルである。

更に、相間移動触媒等も好適に用いることができる。使用できる相間移動触媒としては、テトラアルキルアンモニウム塩類（例えば、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド）が挙げられる。相間移動触媒の使用量は、一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物に対して、０．０５倍モル〜２モル、好ましくは０．０５倍モル〜０．５倍モルである。

本発明のピラゾール系化合物の製造方法において、反応温度は、通常は−１０〜２００℃で可能であるが、製造適性（反応時間）、収率の観点からは、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは２０〜１２０℃で行う。
反応時間は、反応温度によって異なるが、２０〜１２０℃では、３０分間〜３日で終了する。

以下、本発明を実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものものではない。
〔実施例１〕
＜例示化合物Ｉ−１（一般式（Ｉ）で表される化合物）の合成＞
以下の反応スキームＢに従って、例示化合物Ｉ−１（一般式（Ｉ）で表される化合物）を合成した。

（例示化合物IIIａ−１（一般式（Ｚ）で表される化合物）の合成）
ベンゼンスルフィン酸ナトリウム２水和物２００ｇ（１．０モル）にジメチルアセトアミド６００ｍｌを加えて、５５℃〜６０℃に加熱して室温で撹拌した。この溶液に２−クロルベンゾチアゾール１２０ｇ（０．７１モル）を滴下した。滴下終了後、反応液を８０℃〜８５℃に加熱して反応を完結させた。反応終了後、反応液を室温に冷却してから、水３０００ｍｌ中に撹拌しながら注いで結晶を析出させた。この結晶をろ過して、水で洗浄した後、乾燥した。例示化合物IIIａ−１（一般式（Ｚ）で表される化合物）を１８６ｇ得た（収率９５．１％）。融点は１５０〜１５２℃であった。

（例示化合物Ｉ−１（一般式（Ｉ）で表される化合物）の合成）
特開２００２−３７１０７９に記載の方法に従って合成した化合物Ｂ５３．５ｇ（０．１モル）、炭酸カリウム２７．６ｇにジメチルスルホキシド２００ｍｌを加えて室温で、撹拌した。この溶液に、前記方法で得た例示化合物IIIａ−１を３０．３ｇ（０．１１モル）添加した。添加終了後、反応液を５５〜６０℃に加熱して、５時間撹拌して反応を完結させた（この反応液を、高速液体クロマトグラフィーを用いて生成率を測定した結果、９７．２％であった）。反応終了後、反応液を室温まで冷却してから、水１０００ｍｌ中に注ぎ、結晶を析出させた。この結晶をろ過して、水で洗浄した後、乾燥した。
以上により、例示化合物Ｉ−１（一般式（Ｉ）で表される化合物）を６５．６ｇ得た（収率９８．２％、純度９９．５％）。純度換算の収率は９７．７％であった。また、融点は、２８８〜２９１℃であった。

〔実施例２〜９〕
実施例１において、一般式（Ｚ）で表される化合物を表１の化合物に等モル置き換え、かつ、中間体である化合物Ｂを、所定の中間体に等モル置き換えた以外は、実施例１と同様にして、表１に示す一般式（Ｉ）で表される化合物を合成した。さらに、実施例１と同様にして、純度換算の収率を算出し、融点を測定した。結果を表１に示す。
なお、所定の中間体とは、実施例２〜９における一般式（Ｉ）で表される化合物の各例示化合物のうち、−Ｈｅｔで表される基を、水素原子に置き換えたものを示す。

〔比較例１〕
前記実施例１において、例示化合物IIIａ−１の合成を行わず、かつ、（例示化合物Ｉ−１の合成）で用いた例示化合物IIIａ−１を、２−クロルベンゾチアゾールに変更した以外は実施例１と同様にして、例示化合物Ｉ−１を合成した。
ここで、実施例１と同様の方法により、反応液の生成率を測定した結果、７８．３％であった。また、実施例１と同様にして、反応液から例示化合物Ｉ−１を得たところ、収率は９５．８％であったが、純度は７９．０％であり、純度換算の収率は７５．６％であった。

〔実施例１０〕
＜例示化合物Ｉ−１４（一般式（Ｉ）で表される化合物）の合成＞
以下の反応スキームＣに従って、一般式（Ｉ）で表される化合物である、例示化合物Ｉ−１４を合成した。

（化合物Ｄの合成）
アセトアミジン２８０ｇ（２．９６モル）にジクロロメタン１４００ｍｌを加えて−１０〜−５℃に冷却し攪拌した。この溶液に、パークロロメチルメルカプタン５００ｇ（２．６７モル）を添加した。次いで、この溶液に、水酸化ナトリウム５３４ｇ（１３．３５モル）を水２１５０ｍｌに溶解した溶液を、滴下した。反応温度は−１０〜−５℃に保ち、２時間攪拌した。次いで、反応液に、３６％塩酸水２０７ｍｌを滴下した。この溶液を静置し水を除去した。このジクロロメタン溶液を飽和食塩水で、洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。このジクロロメタン溶液を、常圧下でジクロロメタンを留去し、次いで、減圧下で、蒸留して精製した。沸点６０〜６５℃／５０ｍｍＨｇであった。中間体である化合物Ｄを２０２ｇ（収率５５．８％）得た。

（例示化合物IIIｂ−１３（一般式（Ｚ）で表される化合物）の合成）
ベンゼンスルフィン酸ナトリウム２水和物２０．０ｇ（０．１モル）に、トルエン５０ｍｌと、水１０ｍｌとを加えて室温で撹拌した、この溶液に、テトラブチルアンモニウムブロマイド４．０ｇを添加した。次いで、前記の方法で得た中間体である化合物Ｄを６．７３ｇ（０．０５モル）滴下した。この反応液を５５℃〜６０℃に加熱して、１２時間攪拌して反応を完結させた。この反応液に水２００ｍｌと酢酸エチル１００ｍｌとを加えて抽出した。酢酸エチル溶液を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この酢酸エチル溶液を減圧下で濃縮、乾固した。例示化合物IIIｂ−１３（一般式（Ｚ）で表される化合物）を１１．４ｇ得た（収率９５．０％）。融点は４８〜５０℃であった。

（例示化合物Ｉ−１４（一般式（Ｉ）で表される化合物）の合成）
化合物Ｂ５３．５ｇ（０．１モル）、及び炭酸ナトリウム２０．７ｇ（０．１５モル）にＮ−メチルピロリドン１２０ｍｌを加えて室温で攪拌した。この溶液に前記の方法で得た例示化合物IIIｂ−１３を２６．４ｇ（０．１１モル）添加した。この反応液を、室温で６時間攪拌し、次いで、４０〜４５℃に加熱して反応を完結させた（反応液を高速液体クロマトグラフィーを用いて例示化合物Ｉ−１４の生成率を測定した結果、９８．３％であった）。反応終了後、この反応液を水１０００ｍｌ中に攪拌しながら注いで結晶を析出させた。この結晶をろ過して、水洗し、乾燥して例示化合物Ｉ−１４（一般式（Ｉ）で表される化合物）を６１．９ｇ得た（収率：９７．８％、純度９８．８％）。融点は２７７〜２８５℃であった。

〔実施例１１〕
＜例示化合物Ｉ−１９（一般式（Ｉ）で表される化合物）の合成＞
以下の反応スキームＣ２に従って、一般式（Ｉ）で表される化合物である、例示化合物Ｉ−１９を合成した。

（化合物Ｇの合成）
２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾールジカリウム塩１００ｇ（０．４４２モル）にＮ−メチルピロリドン２００ｍｌと、水１００ｍｌとを加えて５℃に冷却して撹拌した。この溶液にヨウ化メチル１５０．５ｇ（１．０６モル）を滴下した、反応液の温度は１５℃以下に保った。滴下終了後、この反応液を室温に戻して３時間撹拌して、反応を完結させた。反応終了後、反応液に酢酸エチル５００ｍＬと水７００ｍｌとを加えて抽出した。この酢酸エチル溶液を食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥してから、減圧下で濃縮した。油状の化合物Ｇを７２．０ｇ（収率：９１．５％）得た。

（例示化合物IIIｃ−１（一般式（Ｚ）で表される化合物）の合成）
前記の方法で得た化合物Ｇ７２．０ｇ（０．４０４モル）、タングステン酸ナトリウム２水和物２ｇにエタノール３５０ｍｌを加えて加熱還流撹拌した。この溶液に過酸化水素水（３０％）１２０ｇを滴下した。滴下終了後、加熱還流撹拌を３時間行い反応を完結させた。反応終了後、室温に冷却してから水７００ｍｌを滴下して結晶を析出させた。この結晶をろ過して、水洗してから乾燥した。例示化合物IIIｃ−１（一般式（Ｚ）で表される化合物）を６８．５ｇ（収率：８０．７％）得た。

（例示化合物Ｉ−１９（一般式（Ｉ）で表される化合物）の合成）
化合物Ｂ２６．７ｇ（０．０５モル）、前記の方法で得た例示化合物IIIｃ−１（一般式（Ｚ）で表される化合物）２１．０ｇ（１．０モル）にジメチルスルホキシド１２０ｍｌを加えて室温で撹拌した。この溶液にトリエチルアミン２１．０ｍｌを滴下した。滴下終了後、室温で１２時間撹拌した後、３５〜４０℃に加熱して反応を完結させた（反応液を高速液体クロマトグラフィーを用いて例示化合物Ｉ−１９の生成率を測定した結果、９８．１％であった）。反応終了後、反応液を水１５００ｍｌ中に撹拌しながら滴下して結晶を析出させた。この結晶をろ過して、水洗し、乾燥して例示化合物Ｉ−１９を３４．２ｇ（収率９８．２％、純度：９８．１％）得た。融点は１７８〜１８１℃であった。

〔比較例２〕
実施例１０において、例示化合物IIIｂ−１３の合成を行わず、かつ、（例示化合物Ｉ−１４）の合成で用いた例示化合物IIIｂ−１３を、化合物Ｄに等モル置き換えた以外は実施例１０と同様にして、例示化合物Ｉ−１４を合成した。
ここで、実施例１０と同様の方法により、反応液の生成率を測定した結果、７５．８％であった。また、実施例１０と同様の方法により、反応液から例示化合物Ｉ−１４の粗結晶を得たところ、該粗結晶の収量は６０．９ｇであった（収率９６．２％、純度７３．１％）。純度換算した収率は、７０．３％であった。

表１に示すように、本発明のピラゾール系化合物の製造方法により、一般式（Ｉ）で表される化合物を合成した場合（実施例１〜１１）は、反応の選択性が高く、高い収率にて一般式（Ｉ）で表される化合物を得ることができた。一方、一般式（Ｚ）で表される化合物を用いなかった場合（比較例１、２）は、反応の選択性が低く、収率が低かった。

〔実施例１２〕
＜一般式（ＩＩ）で表される化合物（例示化合物ＩＩ−１）の合成＞
以下の反応スキームＤに従って、一般式（ＩＩ）で表される化合物である、例示化合物ＩＩ−１を合成した。

特開２００５−２１３３５７号公報の実施例６と同様の方法によって合成した化合物Ｅ２２．４ｇ（０．０５モル）、炭酸水素ナトリウム１２．６ｇ（０．１５モル）にＮ−メチルピロリドン１００ｍｌを加えて、室温で撹拌した。この溶液に、例示化合物IIIａ−１（一般式（Ｚ）で表される化合物）を１６．５ｇ（０．０６モル）添加した。添加終了後、８５℃〜９０℃に加熱して、８時間撹拌し、反応を完結させた（高速液体クロマトグラフィーで例示化合物ＩＩ−１の生成率を測定した結果、９４．８％であった）。この反応液を水１０００ｍｌ中に撹拌しながら注いで、結晶を析出させた。この結晶をろ過して、乾燥した。この結晶にアセトニトリル２５０ｍｌを加えて１時間、加熱還流した後、室温に冷却してからろ過して、乾燥した。例示化合物ＩＩ−１を２６．７ｇ得た（収率９１．７％、純度９８．３％）。融点は、１３２〜１３５℃であった。

〔実施例１３〜１６〕
実施例１２において、一般式（Ｚ）で表される化合物を表２の化合物に等モル置き換え、かつ、中間体である化合物Ｅを所定の中間体に等モル置き換えた以外は、実施例１２と同様の方法により、表２に列挙した一般式（ＩＩ）で表される化合物を合成した。さらに、実施例１と同様にして、純度換算の収率を算出し、融点を測定した。結果を表２に示す。
なお、所定の中間体とは、実施例１３〜１６における一般式（ＩＩ）で表される化合物の各例示化合物のうち、−Ｈｅｔで表される基を、水素原子に置き換えたものを示す。

〔比較例３〕
実施例１２において、例示化合物IIIａ−１を等モル量の２−クロルベンゾチアゾールに変更した以外は実施例１２と同様にして、例示化合物ＩＩ−１を合成した。
ここで、実施例１２と同様の方法により、反応液の生成率を測定した結果、８３．６％であった。また、実施例１２と同様の方法により単離、精製した結果、収量は２２．８ｇであった（収率７８．４％、純度９８．１％）。

表２に示すように、本発明のピラゾール系化合物の製造方法により、一般式（ＩＩ）で表される化合物を合成した場合（実施例１２〜１６）は、反応の選択性が高く、高い収率にて一般式（ＩＩ）で表される化合物を得ることができた。一方、一般式（Ｚ）で表される化合物を用いなかった場合（比較例３）は、反応の選択性が低く、収率が低かった。

Claims (6)

1. 下記一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物の製造方法であって、下記一般式（Ｚ）で表される化合物を用いることを特徴とするピラゾール系化合物の製造方法。
   

   

   

   〔一般式（Ｘ）中、Ｒ₁、Ｅ、及びＲａは、各々独立に、水素原子又は置換基を表す。一般式（Ｘ）及び一般式（Ｚ）中、Ｘは、＝Ｃ（Ｒ₂）−、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｒ₂は水素原子又は置換基を表す。一般式（Ｘ）及び一般式（Ｚ）中、Ｇは、一般式（Ｘ）及び一般式（Ｚ）中の窒素原子、炭素原子、及びＸと共に５員、又は６員の環を形成するために必要な原子群を表す。一般式（Ｚ）中、ｎは１又は２を表し、Ｙは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。〕
2. 前記一般式（Ｘ）で表されるピラゾール系化合物が、下記一般式（Ｉ）又は一般式（ＩＩ）で表されることを特徴とする請求項１に記載のピラゾール系化合物の製造方法。
   

   

   

   〔一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中、Ｒ₁及びＥは各々独立に水素原子又は置換基を表し、Ｘは、＝Ｃ（Ｒ₂）−、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を表し、Ｒ₂は水素原子又は置換基を表す。Ｇは、一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）中の窒素原子、炭素原子、及びＸと共に５員、又は６員の環を形成するために必要な原子群を表し、Ｃｐはカプラー残基を表す。〕
3. 更に、塩基を用いることを特徴とする請求項１又は２に記載のピラゾール系化合物の製造方法。
4. 前記塩基の少なくとも１種が、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類、及びアルカリ金属炭酸水素塩類の少なくとも１種であることを特徴とする請求項３に記載のピラゾール系化合物の製造方法。
5. 前記塩基の少なくとも１種が、有機塩基類であることを特徴とする請求項３又は４に記載のピラゾール系化合物の製造方法。
6. 更に、溶媒として、水、アルコール類、アセトニトリル、エステル類、アミド類、及びジメチルスルホキシドの少なくとも１種を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のピラゾール系化合物の製造方法。