JP2007234892A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007234892A JP2007234892A JP2006055254A JP2006055254A JP2007234892A JP 2007234892 A JP2007234892 A JP 2007234892A JP 2006055254 A JP2006055254 A JP 2006055254A JP 2006055254 A JP2006055254 A JP 2006055254A JP 2007234892 A JP2007234892 A JP 2007234892A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- word line
- gate electrodes
- line
- word lines
- drive circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】微細化可能な半導体記憶装置を提供すること。
【解決手段】メモリセルを共通接続するワード線と、前記ワード線を選択するロウデコーダ50と、前記ワード線に駆動電圧を与える第1駆動回路61−0〜61−mを備えるワード線駆動回路60とを具備し、前記第1駆動回路61−0〜61−mは、共通接続された第1乃至第3ゲート電極81、82、92と、前記第1、第2ゲート電極81、82間に形成され、前記ワード線に接続された第1ドレイン領域85と、前記第1、第2ゲート電極81、82を挟むように形成され、駆動電圧線WDRVに接続された第1ソース領域89と、前記第3ゲート電極92に周囲を取り囲まれ、前記ワード線に接続された第2ドレイン領域90と、前記第1ソース領域89に接し、前記第3ゲート電極92の周囲を取り囲み、前記駆動電圧線WDRVに接続された第2ソース領域89とを備える。
【選択図】 図4
【解決手段】メモリセルを共通接続するワード線と、前記ワード線を選択するロウデコーダ50と、前記ワード線に駆動電圧を与える第1駆動回路61−0〜61−mを備えるワード線駆動回路60とを具備し、前記第1駆動回路61−0〜61−mは、共通接続された第1乃至第3ゲート電極81、82、92と、前記第1、第2ゲート電極81、82間に形成され、前記ワード線に接続された第1ドレイン領域85と、前記第1、第2ゲート電極81、82を挟むように形成され、駆動電圧線WDRVに接続された第1ソース領域89と、前記第3ゲート電極92に周囲を取り囲まれ、前記ワード線に接続された第2ドレイン領域90と、前記第1ソース領域89に接し、前記第3ゲート電極92の周囲を取り囲み、前記駆動電圧線WDRVに接続された第2ソース領域89とを備える。
【選択図】 図4
Description
この発明は半導体記憶装置に関する。例えば、ワード線に電圧を与えるワード線駆動回路の構成に関するものである。
近年、半導体記憶装置は、メモリセル構造の改良と微細加工技術の進歩とにより、著しく高集積化が進んでいる。
半導体記憶装置は、ロウアドレス信号に基づいてワード線を駆動するためのワード線駆動回路を備えている。そして、メモリセルだけでなくワード線駆動回路に対しても微細化が求められている。そこで、ワード線駆動回路内においてワード線に電圧を与えるためのMOSトランジスタ間の素子分離領域を無くすことで、ワード線駆動回路の微細化を図る提案がなされている(例えば特許文献1参照)
しかし、メモリセルとワード線駆動回路とではレイアウトの規則性が異なるため、微細化の進行度合いも異なる。従って、メモリセルのレイアウトピッチとワード線駆動回路のレイアウトピッチとは、必ずしも整数倍とはならない。その結果、ワード線駆動回路における面積使用効率が悪化し、微細化が困難になるという問題があった。
特開平4−107966号公報
しかし、メモリセルとワード線駆動回路とではレイアウトの規則性が異なるため、微細化の進行度合いも異なる。従って、メモリセルのレイアウトピッチとワード線駆動回路のレイアウトピッチとは、必ずしも整数倍とはならない。その結果、ワード線駆動回路における面積使用効率が悪化し、微細化が困難になるという問題があった。
この発明は、微細化可能な半導体記憶装置を提供する。
この発明の一態様に係る半導体記憶装置は、複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイにおいて同一行にある前記メモリセルを共通接続するワード線と、前記ワード線のいずれかを選択し、選択信号を出力するロウデコーダと、前記ワード線毎に設けられ且つ前記ロウデコーダによって選択された前記ワード線に駆動電圧を印加する第1駆動回路と、前記ワード線毎に設けられ且つ非選択の前記ワード線を接地する第2駆動回路とを備えるワード線駆動回路とを具備し、前記第1駆動回路は、前記選択信号が与えられ、且つ共通接続された第1乃至第3ゲート電極と、前記第1、第2ゲート電極間に形成され、対応する前記ワード線に接続された第1ドレイン領域と、前記第1、第2ゲート電極を挟むようにして形成され、前記駆動電圧を与える駆動電圧線に接続された第1ソース領域と、前記第3ゲート電極によって周囲を取り囲まれるようにして形成され、対応する前記ワード線に接続された第2ドレイン領域と、前記第1ソース領域に接し、且つ前記第3ゲート電極の周囲を取り囲むようにして形成され、前記駆動電圧線に接続された第2ソース領域とを備える。
本発明によれば、微細化可能な半導体記憶装置を提供出来る。
以下、この発明の実施形態を図面を参照して説明する。この説明に際し、全図にわたり、共通する部分には共通する参照符号を付す。
この発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置について、図1を用いて説明する。図1は本実施形態に係るDRAM(Dynamic Random Access Memory)のブロック図である。図示するようにDRAM1は、メモリセルアレイ10、カラムセレクタ20、カラムデコーダ30、センスアンプ40、ロウデコーダ50、及びワード線ドライバ回路60を備えている。
メモリセルアレイ10は、千鳥状に配置された複数のメモリセルMC、(n+1)個のビット線対BL0、/BL0〜BLn、/BLn、及び(m+1)本のワード線WL0〜WLmを備えている。メモリセルMCの各々は、セルトランジスタCT及びセルキャパシタCCを有している。セルキャパシタCCは、一方電極が接地され、他方電極がセルトランジスタCTのソースに接続されている。同一行にあるセルトランジスタCTのゲートは、ワード線WL0〜WLmのいずれかに共通接続される。また同一行にあるセルトランジスタCTのドレインは、ビット線BL0〜BLnまたは/BL0〜/BLnのいずれかに共通接続されている。
カラムセレクタ20は、(n+1)個のMOSトランジスタ21−0〜21−n、及び(n+1)個のMOSトランジスタ22−0〜22−nを備えている。MOSトランジスタ21−0〜21−nのソースはビット線BL0〜BLnに接続され、ドレインはセンスアンプ40に接続される。MOSトランジスタ22−0〜22−nのソースはビット線/BL0〜/BLnに接続され、ドレインはセンスアンプ40に接続される。そしてMOSトランジスタ21−0〜21−nのゲートは、それぞれMOSトランジスタ22−0〜22−nのゲートに接続され、更にカラム選択線CSL0〜CSLnにそれぞれ接続されている。
カラムデコーダ30は、カラムアドレス信号に基づいてカラム選択線CSL0〜CSLnのいずれかを選択する。
センスアンプ40は、メモリセルMCからビット線対に読み出されたデータを増幅する。
ロウデコーダ50は、ロウアドレス信号に基づいてワード線WL0〜WLmのいずれかを選択する。そして、ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmを出力する。ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmは、それぞれワード線WL0〜WLmに対応づけられている。そして選択されるべきワード線に対応したロウアドレスデコード信号が“L”レベルとされる。
センスアンプ40は、メモリセルMCからビット線対に読み出されたデータを増幅する。
ロウデコーダ50は、ロウアドレス信号に基づいてワード線WL0〜WLmのいずれかを選択する。そして、ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmを出力する。ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmは、それぞれワード線WL0〜WLmに対応づけられている。そして選択されるべきワード線に対応したロウアドレスデコード信号が“L”レベルとされる。
ワード線ドライバ回路60は、ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmに基づいて、ワード線WL0〜WLmに電圧を印加する。図2はワード線ドライバ回路60のブロック図である。図示するようにワード線ドライバ回路60は、ワード線WL0〜WLm毎(すなわちロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOm毎)に設けられたWDRV駆動回路61−0〜61−m及びVNN駆動回路62−0〜62−mを備えている。
WDRV駆動回路61−0〜61−mは、ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmに基づいて、ワード線WL0〜WLmをWDRVノード(例えば1.5V)に接続する。またVNN駆動回路62−0〜62−mは、ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDOmに基づいて、ワード線WL0〜WLmをVNNノード(例えば0V)に接続する。なお、隣接する2つのWDRV駆動回路61−i(i=0、2、4…)、61−(i+1)、及び隣接する2つのVNN駆動回路62−i、62−(i+1)を、以下ではそれぞれWDRV駆動回路ユニット63、VNN駆動回路ユニット64と呼ぶ。
次にWDRV駆動回路ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64の構成について図3を用いて説明する。図3は、ワード線WL0、WL1に対応したWDRV駆動ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64の回路図である。
まずWDRV駆動回路ユニット63について説明する。WDRV駆動回路ユニット63は、pチャネルMOSトランジスタ65〜70を備えている。MOSトランジスタ65〜67はWDRV駆動回路61−0を形成し、MOSトランジスタ68〜70はWDRV駆動回路61−1を形成する。MOSトランジスタ65〜67は、ソースがWDRVノードに接続され、ゲートにロウアドレスデコード信号/RDO0が与えられ、ドレインがワード線WL0に接続される。すなわち、MOSトランジスタ65〜67の電流経路は、ワード線WL0とWDRVノードとの間に並列接続されている。MOSトランジスタ68〜70は、ソースがWDRVノードに接続され、ゲートにロウアドレスデコード信号/RDO1が与えられ、ドレインがワード線WL1に接続される。すなわち、MOSトランジスタ68〜70の電流経路は、ワード線WL1とWDRVノードとの間に並列接続されている。上記構成において、MOSトランジスタ65、66はドレイン領域を共有し、MOSトランジスタ68、69はドレイン領域を共有し、更にMOSトランジスタ66、67、69、70はソース領域を共有する。
まずWDRV駆動回路ユニット63について説明する。WDRV駆動回路ユニット63は、pチャネルMOSトランジスタ65〜70を備えている。MOSトランジスタ65〜67はWDRV駆動回路61−0を形成し、MOSトランジスタ68〜70はWDRV駆動回路61−1を形成する。MOSトランジスタ65〜67は、ソースがWDRVノードに接続され、ゲートにロウアドレスデコード信号/RDO0が与えられ、ドレインがワード線WL0に接続される。すなわち、MOSトランジスタ65〜67の電流経路は、ワード線WL0とWDRVノードとの間に並列接続されている。MOSトランジスタ68〜70は、ソースがWDRVノードに接続され、ゲートにロウアドレスデコード信号/RDO1が与えられ、ドレインがワード線WL1に接続される。すなわち、MOSトランジスタ68〜70の電流経路は、ワード線WL1とWDRVノードとの間に並列接続されている。上記構成において、MOSトランジスタ65、66はドレイン領域を共有し、MOSトランジスタ68、69はドレイン領域を共有し、更にMOSトランジスタ66、67、69、70はソース領域を共有する。
次にVNN駆動回路ユニット64について説明する。VNN駆動回路ユニット64は、nチャネルMOSトランジスタ71〜76を備えている。MOSトランジスタ71〜73はVNN駆動回路62−0を形成し、MOSトランジスタ74〜76はVNN駆動回路62−1を形成する。MOSトランジスタ71〜73は、ソースがVNNノードに接続され、ゲートにロウアドレスデコード信号/RDO0が与えられ、ドレインがワード線WL0に接続される。すなわち、MOSトランジスタ71〜73の電流経路は、ワード線WL0とVNNノードとの間に並列接続されている。MOSトランジスタ74〜76は、ソースがVNNノードに接続され、ゲートにロウアドレスデコード信号/RDO1が与えられ、ドレインがワード線WL1に接続される。すなわち、MOSトランジスタ74〜76の電流経路は、ワード線WL1とVNNノードとの間に並列接続されている。上記構成において、MOSトランジスタ71、72はドレイン領域を共有し、MOSトランジスタ74、75はドレイン領域を共有し、更にMOSトランジスタ72、73、75、76はソース領域を共有する。
ワード線ドライバ回路60内においては、上記構成のWDRV駆動回路及びVNN駆動回路が、ビット線方向に沿って(m+1)個ずつ並んでいる。そして、隣接するWDRV駆動回路ユニット63同士では、一方のユニット63におけるMOSトランジスタ65と他方のユニット63におけるMOSトランジスタ68とがソース領域を共有している。更に隣接するVNN駆動回路ユニット64同士では、一方のユニット64におけるMOSトランジスタ71と他方のユニット64におけるMOSトランジスタ74とがソース領域を共有している。
次にWDRV駆動回路ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64の平面構成について図4乃至図7を用いて説明する。図4は、ワード線WL0、WL1に対応したWDRV駆動ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64の平面図である。図5は、図4においてゲート電極及びそれと同一レベルに形成された配線層の平面図である。図6は、図5のパターンと共に、ゲート電極より上に形成された第1層目の金属配線層を示す平面図である。図7は、図5のパターンと共に、第1層目の金属配線層より上に形成された第2層目の金属配線層を示す平面図である。なお図6及び図7においては、斜線を付した領域が、第1、第2層目の金属配線層を示す。
まず図4及び図5に示すように、ワード線WL方向に沿って、半導体基板80中に素子領域AA1、AA2が設けられている。素子領域AA1、AA2の間には素子分離領域STIが設けられ、両者は電気的に分離されている。素子領域AA1、AA2はそれぞれn型領域、p型領域である。素子領域AA1、AA2上には、ワード線方向に沿ったストライプ形状のゲート電極81〜84が形成されている。ゲート電極81〜84は、素子領域AA1、AA2を跨るようにして設けられ、素子領域AA1、AA2間の素子分離領域STI上にも形成されている。ゲート電極81は、MOSトランジスタ65、71のゲートとして機能する。ゲート電極82は、MOSトランジスタ66、72のゲートとして機能する。ゲート電極83は、MOSトランジスタ69、75のゲートとして機能する。ゲート電極84は、MOSトランジスタ68、74のゲートとして機能する。
素子領域AA1において、ゲート電極81、82間にはMOSトランジスタ65、66のドレインとして機能するp+型不純物拡散層85が形成され、ゲート電極83、84間にはMOSトランジスタ68、69のドレインとして機能するp+型不純物拡散層86が形成される。また素子領域AA1において、ゲート電極81を挟んで拡散層85と対向する領域には、MOSトランジスタ65のソースとして機能するp+型不純物拡散層87が形成される。更に素子領域AA1において、ゲート電極84を挟んで拡散層86と対向する領域には、MOSトランジスタ68のソースとして機能するp+型不純物拡散層88が形成されている。更に素子領域AA1において、ゲート電極82、83間には、MOSトランジスタ66、67、69、70のソースとして機能するp+型不純物拡散層89が形成されている。ゲート電極82、83間には、拡散層89及びゲート電極82、83と離隔された島状の形状のp+型不純物拡散層90、91が、互いに離隔して更に形成されている。拡散層90、91は、それぞれMOSトランジスタ67、70のドレインとして機能する。そして、拡散層90の周囲を取り囲むようにしてゲート電極92が形成され、拡散層91の周囲を取り囲むようにしてゲート電極93が形成されている。ゲート電極92はMOSトランジスタ67のゲートとして機能し、ゲート電極93はMOSトランジスタ70、76のゲートとして機能する。従って、ビット線に沿った方向において、ゲート電極81、82とゲート電極83、84は、ゲート電極92、93を挟むようにして設けられている。またワード線に沿った方向において、ゲート電極92とゲート電極93は、拡散層89を挟んで対向するようにして設けられている。また、対向するゲート電極92、93間の領域を介して、MOSトランジスタ66のソースとMOSトランジスタ69のソースとが接続される。
ゲート電極81、82の一端とゲート電極92の両端は、素子分離領域STI上に形成された配線層94によって接続される。またゲート電極83、84の一端は、素子分離領域STI上に形成された配線層95によって接続される。
素子領域AA2において、ゲート電極81、82間にはMOSトランジスタ71、72のドレインとして機能するn+型不純物拡散層96が形成され、ゲート電極83、84間にはMOSトランジスタ74、75のドレインとして機能するn+型不純物拡散層97が形成される。また素子領域AA2において、ゲート電極81を挟んで拡散層96と対向する領域には、MOSトランジスタ71のソースとして機能するn+型不純物拡散層98が形成される。更に素子領域AA2において、ゲート電極84を挟んで拡散層97と対向する領域には、MOSトランジスタ74のソースとして機能するn+型不純物拡散層99が形成されている。更に素子領域AA2において、ゲート電極82、83間には、MOSトランジスタ72、73、75、76のソースとして機能するn+型不純物拡散層100が形成されている。ゲート電極82、83間には、拡散層100及びゲート電極82、83と離隔された島状の形状のn+型不純物拡散層101、102が、互いに離隔して更に形成されている。拡散層101、102は、それぞれMOSトランジスタ73、76のドレインとして機能する。そして、拡散層101の周囲を取り囲むようにしてゲート電極103が形成されている。ゲート電極103は、MOSトランジスタ73のゲートとして機能する。また、MOSトランジスタ70のゲートとして機能するゲート電極93が、拡散層102の周囲を取り囲むようにして更に形成されている。従って、ビット線に沿った方向において、ゲート電極81、82とゲート電極83、84は、ゲート電極93、103を挟むようにして設けられている。またワード線に沿った方向において、ゲート電極93とゲート電極103は、拡散層100を挟んで対向するようにして設けられている。また、対向するゲート電極93、103間の領域を介して、MOSトランジスタ72のソースとMOSトランジスタ75のソースとが接続される。
ゲート電極81、82の他端とゲート電極103の両端は、素子分離領域STI上に形成された配線層104によって接続される。またゲート電極83、84の他端は、素子分離領域STI上に形成された配線層105によって接続される。更に、素子領域AA1、AA2間の素子分離領域STI上に配線層106、107が形成され、配線層106、107によってゲート電極83とゲート電極93とが接続されている。
次に図4及び図6を用いて第1層目の金属配線層について説明する。素子領域AA1において、拡散層85、86、87、88、90、91上に、それぞれ金属配線層108、109、110、111、112、113が形成されている。金属配線層108〜113は、コンタクトプラグCP1〜CP6によって拡散層85、86、87、88、90、91にそれぞれ接続されている。またゲート電極82とゲート電極92、93との間に位置する拡散層89上に金属配線層114が形成され、ゲート電極83とゲート電極92、93との間に位置する拡散層89上に金属配線層115が形成されている。金属配線層114、115は、それぞれコンタクトプラグCP7、CP8を介して拡散層89に接続されている。
また、金属配線層111は金属配線層116により金属配線層115に接続され、金属配線層115は金属配線層117により金属配線層114に接続され、金属配線層114は金属配線層118により金属配線層110に接続されている。更に金属配線層108は、金属配線層119により金属配線層112に接続されている。
素子領域AA2においては、拡散層96、98、99、101上に、それぞれ金属配線層120〜123が形成されている。金属配線層120〜123は、コンタクトプラグCP9〜CP12によって拡散層96、98、99、101にそれぞれ接続されている。またゲート電極82とゲート電極93、103との間に位置する拡散層100上に金属配線層124が形成され、ゲート電極83とゲート電極93、103との間に位置する拡散層100上に金属配線層125が形成されている。金属配線層124、125は、それぞれコンタクトプラグCP13、CP14を介して拡散層100に接続されている。
また、素子領域AA1上に形成された金属配線層109、113は、素子領域AA1、AA2間の素子分離領域STIを介して素子領域AA2における拡散層97、102上にわたって設けられている。金属配線層109、113はそれぞれ、コンタクトプラグCP15、CP16を介して拡散層97、102に接続されている。また、金属配線層122は金属配線層126により金属配線層125に接続され、金属配線層125は金属配線層127により金属配線層124に接続され、金属配線層124は金属配線層128により金属配線層121に接続されている。更に金属配線層120は、金属配線層129により金属配線層123に接続されている。
更に素子領域AA1、AA2間の素子分離領域STI上には金属配線層130が形成されている。そして金属配線層130によって金属配線層109、113が接続されている。上記構成において、金属配線層110、111、114、115、116〜118はWDRVノードに接続され、金属配線層121、122、124、125、126〜128はVNNノードに接続される。
更に素子領域AA1、AA2間の素子分離領域STI上には金属配線層130が形成されている。そして金属配線層130によって金属配線層109、113が接続されている。上記構成において、金属配線層110、111、114、115、116〜118はWDRVノードに接続され、金属配線層121、122、124、125、126〜128はVNNノードに接続される。
次に図4及び図7を用いて第2層目の金属配線層について説明する。図示するように、素子領域AA1、AA2を跨ぐようにして、ワード線方向に沿ったストライプ形状の金属配線層131、132が、ゲート電極81、82間の領域及びゲート電極83、84間の領域にそれぞれ設けられている。金属配線層131、132はそれぞれワード線WL0、WL1に接続される。また金属配線層131は、コンタクトプラグCP17を介して第1層目の金属配線層108に接続され、コンタクトプラグCP18を介して拡散層85に接続され、コンタクトプラグCP19を介して拡散層96に接続され、コンタクトプラグCP20を介して第1層目の金属配線層120に接続される。金属配線層132は、コンタクトプラグCP21を介して拡散層86に接続され、コンタクトプラグCP22、CP23を介して第1層目の金属配線層109に接続され、コンタクトプラグCP24を介して拡散層97に接続される。
次にWDRV駆動回路ユニット63の断面構成について図8乃至図10を用いて説明する。図8、図9は図4におけるY1−Y1’線、Y2−Y2’線に沿った断面図であり、図10は図4におけるX1−X1’線に沿った断面図である。なお、以下ではWDRV駆動回路ユニット63についてのみ説明するが、pチャネルMOSトランジスタをnチャネルMOSトランジスタに置き換えればVNN駆動回路ユニット64も同様の構成である。
まず図8を用いてY1−Y1’線に沿った断面構成について説明する。図示するように、p型半導体基板80の表面領域内にはn型ウェル領域140が形成されている。更にウェル領域140の表面領域内には、p+型不純物拡散層85、86、87、88、89、89、91が互いに離隔して形成されている。なお、拡散層85〜89、91について付した「S」、「D」なる記号は、当該拡散層がそれぞれソース及びドレインとして機能することを示している。拡散層88、86間のウェル領域140上、拡散層86、89間のウェル領域140上、拡散層89、91間のウェル領域140上、拡散層91、89間のウェル領域140上、拡散層89、85間のウェル領域140上、及び拡散層85、87間のウェル領域140上には、それぞれゲート絶縁膜141を介在してゲート電極84、83、93、93、82、81が形成されている。
そして、上記ゲート電極を被覆するようにして、ウェル領域140上に層間絶縁膜142が形成されている。層間絶縁膜142中には、拡散層85、86、87、88、89、89、91にそれぞれ達するコンタクトプラグ143、CP2、CP3、CP4、CP7、CP8、CP6が形成されている。層間絶縁膜142上には、上記コンタクトプラグ143、CP2、CP3、CP4、CP7、CP8、CP6に接し且つ互いに離隔された金属配線層144、109、110、111、114、115、113が形成されている。
そして、上記金属配線層を被覆するようにして、層間絶縁膜145上に層間絶縁膜145が形成されている。層間絶縁膜145中には、金属配線層144、109にそれぞれ達するコンタクトプラグ146、CP22が形成されている。更に層間絶縁膜145上には、コンタクトプラグ146、CP22に接し且つ互いに離隔された金属配線層131、132が形成されている。そして層間絶縁膜145上には前記金属配線層131、132を被覆する層間絶縁膜147が形成されている。なお上記構成において、コンタクトプラグ143、146及び金属配線層144が、図4及び図7で説明したコンタクトプラグCP18に相当する。
次に図9を用いてY2−Y2’線に沿った断面構成について説明する。図示するようにY2−Y2’線に沿った構成は、図8に示す構成において以下の変形を行ったものである。すなわち、ゲート電極93、コンタクトプラグ143、146、CP2、CP6、CP22金属配線層109、113、144、及び拡散層91が除去される。そして、ゲート電極82、83間のウェル領域140に拡散層89が形成される。更に、層間絶縁膜142上に金属配線層116、117、118が形成される。金属配線層116は金属配線層111、115に接し、金属配線層117は金属配線層115、114に接し、金属配線層118は金属配線層114、110に接する。
なお上記構成において拡散層87、88はそれぞれ、隣接するWDRV駆動回路ユニット63におけるMOSトランジスタ65、68のソースとしても機能する。そしてコンタクトプラグCP3、CP4及び金属配線層110、111も隣接するWDRV駆動回路ユニット63同士で共用する。従って、隣接するWDRV駆動回路ユニット63間に素子分離領域STIは形成されない。このことはVNN駆動回路ユニット64でも同様である。
次に図10を用いてX1−X1’線に沿った断面構成について説明する。図示するように、p型半導体基板80の表面領域内にはn型ウェル領域140が形成されている。ウェル領域140の周囲は素子分離領域STIに取り囲まれている。ウェル領域140の表面領域内には、p+型不純物拡散層89、90、91が互いに離隔して形成されている。拡散層90、89間のウェル領域140上、及び拡散層89、91間のウェル領域140上には、それぞれゲート電極92、93がゲート絶縁膜141を介在して形成されている。また、素子分離領域STI上には、例えばゲート電極と同一の材料(多結晶シリコン等)により形成される配線層94、107が形成されている。配線層94、107は、図示せぬ領域でゲート電極92、93と接続されている。
そして、上記ゲート電極92、93及び配線層94、107を被覆するようにして、ウェル領域140及び素子分離領域STI上に層間絶縁膜142が形成されている。層間絶縁膜142中には、拡散層90、91に達するコンタクトプラグCP5、CP6が形成されている。また層間絶縁膜142上には、金属配線層112、113、117が、互いに離隔するようにして形成されている。金属配線層112、113は、それぞれコンタクトプラグCP5、CP6に接している。そして、層間絶縁膜142上に、金属配線層112、113、117を被覆するようにして層間絶縁膜145、147が形成されている。
次に上記構成のワード線ドライバ回路60の動作について図11を用いて説明する。図11は、データの読み出し時または書き込み時におけるワード線ドライバ回路60の回路図である。以下では、説明の簡単化のためにワード線が4本(WL0〜WL3)であり、そのうちのワード線WL0が選択される場合を例に挙げて説明する。
図示するように、ロウデコーダ50はロウアドレス信号に従ってワード線WL0を選択し、ロウアドレスデコード信号/RDO0を“L”レベル、/RDO1〜/RDO3を“H”レベルとする。ロウアドレスデコード信号/RDO0が“L”レベルとされたことで、VNN駆動回路62−0におけるMOSトランジスタ71〜73がオフ状態、WDRV駆動回路61−0におけるMOSトランジスタ65〜67がオン状態とされる。その結果、MOSトランジスタ65〜67の電流経路を介してワード線WL0はWDRVノードに接続される。
またロウアドレスデコード信号/RDO1〜/RDO3が“H”レベルとされたことで、WDRV駆動回路61−1〜61−3におけるMOSトランジスタ65〜70がオフ状態、VNN駆動回路62−1〜62−3におけるMOSトランジスタ71〜76がオン状態とされる。その結果、ワード線WL1、WL3はMOSトランジスタ74〜76の電流経路を介してVNNノードに接続され、ワード線WL2はMOSトランジスタ71〜73を介してVNNノードに接続される。
以上により、選択ワード線WL0にはWDRVノードから例えば1.5Vが与えられ、非選択ワード線WL1〜WL3にはVNNノードから0Vが与えられる。読み出し時にはワード線WL0に接続されたメモリセルMCのセルキャパシタCTに保持されるデータがビット線に読み出される。そして読み出されたデータはセンスアンプ40で増幅される。また書き込み時には、ワード線WL0に接続されたメモリセルMCのセルキャパシタCTに、ビット線に与えられたデータが書き込まれる。
上記のように、この発明の第1の実施形態に係るDRAMであると、下記(1)、(2)の効果が得られる。
(1)ワード線ドライバ回路60の面積使用効率を向上しつつ微細化出来る。
本実施形態に係るワード線ドライバ回路60は、1つのWDRV駆動回路61−0〜61−m及びVNN駆動回路62−0〜62−m(以下、これらを駆動回路61と呼ぶことがある)を3つのMOSトランジスタで構成している。従って、ワード線ドライバ回路60の面積使用効率を向上出来る。この点につき以下詳細に説明する。
(1)ワード線ドライバ回路60の面積使用効率を向上しつつ微細化出来る。
本実施形態に係るワード線ドライバ回路60は、1つのWDRV駆動回路61−0〜61−m及びVNN駆動回路62−0〜62−m(以下、これらを駆動回路61と呼ぶことがある)を3つのMOSトランジスタで構成している。従って、ワード線ドライバ回路60の面積使用効率を向上出来る。この点につき以下詳細に説明する。
従来のワード線ドライバ回路60であると、例えば特許文献1に記載されているように駆動回路61は2つのMOSトランジスタで構成されている。ワード線ドライバ回路60において、面積使用効率が最も優れているのは、図12に示すようにメモリセルMCのピッチL1と駆動回路61のピッチM1とが1:1である場合である。しかしながら、駆動回路61はメモリセルMCよりもサイズが大きくなることが通常であり、両者を1:1で配置することは現実的でない。従って駆動回路61は、j×L1=k×M1(j、kは整数)となるように設計されることが一般的である。例えばj=2、k=1とした場合、2つのメモリセルMCに対して1つの駆動回路61が対応するように設計される。
しかし、メモリセル構造の改良や設計ルールの進展による半導体素子の微細化に伴い、上式を満たすことは困難となってくる。例えば、メモリセルアレイは同一パターンが規則的に配置されているため、メモリセルMCの方が駆動回路61よりも微細化しやすい。また、駆動回路61内のMOSトランジスタのゲート長は、信頼性の観点から一定以上の値を維持する必要がある。そのため駆動回路ピッチM1に微細加工技術進捗の成果を十分に反映させることが出来ず、駆動回路ピッチM1とメモリセルピッチL1とを一様に縮小させることは困難である。その結果、上記のj×L1=k×M1の式が成立しなくなる。そして成立しない場合には、ワード線ドライバ回路60に無駄な領域が発生する。この様子を図13に示す。図13の例であると、メモリセルピッチL2及び駆動回路ピッチM2が、2×L2<2×M2<3×L2なる関係にある場合について示している。図示するように、この場合には差分Dp1が無駄な領域として発生し、駆動回路61のレイアウト効率が低下する。
しかしながら本実施形態に係る駆動回路61であると、図14に示すように1つの駆動回路あたり3個のMOSトランジスタを含んでいる。つまり、図13において差分Dp1として発生した領域に新たにMOSトランジスタを設けて、これを駆動回路61の一部として用いている。従って、従来の無駄な空き領域を有効に活用することが出来、ワード線ドライバ回路60の面積使用効率を向上出来る。
更に、1つの駆動回路61に含まれるMOSトランジスタ数を従来に比べて増やしているため、駆動回路61の駆動能力が向上する。従って、駆動回路61の素子領域幅W3、すなわち駆動回路61に含まれるMOSトランジスタ65〜70のゲート幅を、従来(W2)に比べて小さく出来る。その結果、トランジスタ数を増やしつつもワード線ドライバ回路60を縮小化出来る。
(2)ワード線ドライバ回路60を微細化出来る(その1)。
上記のように、本実施形態では駆動回路61に含まれるMOSトランジスタの数を従来構成より増やしている。すると、駆動回路61に含まれるMOSトランジスタ数が奇数個の場合、駆動回路61間でドレイン同士が隣接する箇所が存在する。図15はワード線ドライバ回路60の平面図であり、駆動回路61が3個のMOSトランジスタを含む場合について示している。図示するように、3個のMOSトランジスタを単純に縦に並べて、且つ隣接するもの同士がソースまたはドレインを共有する場合、駆動回路61の一端にはソース(S)が位置し、他端にはドレイン(D)が位置する。隣接する駆動回路61間でソースは共有出来るが、ドレインは共有出来ない。なぜなら、ドレインは各ワード線に接続されるからである。従って、端部にドレインが位置する領域では、隣接する駆動回路61間を電気的に分離するための素子分離領域STIが必要となる。
上記のように、本実施形態では駆動回路61に含まれるMOSトランジスタの数を従来構成より増やしている。すると、駆動回路61に含まれるMOSトランジスタ数が奇数個の場合、駆動回路61間でドレイン同士が隣接する箇所が存在する。図15はワード線ドライバ回路60の平面図であり、駆動回路61が3個のMOSトランジスタを含む場合について示している。図示するように、3個のMOSトランジスタを単純に縦に並べて、且つ隣接するもの同士がソースまたはドレインを共有する場合、駆動回路61の一端にはソース(S)が位置し、他端にはドレイン(D)が位置する。隣接する駆動回路61間でソースは共有出来るが、ドレインは共有出来ない。なぜなら、ドレインは各ワード線に接続されるからである。従って、端部にドレインが位置する領域では、隣接する駆動回路61間を電気的に分離するための素子分離領域STIが必要となる。
これに対して本実施形態に係る構成であると、図16のワード線ドライバ回路60の平面図に示すように、MOSトランジスタ67、70(VNN駆動回路の場合はMOSトランジスタ73、76)のドレインを島状に形成し、これを取り囲むようにしてゲート92、93を形成している。従って、駆動回路61の両端にはソースが位置する。そして、隣接する駆動回路61のMOSトランジスタ67、70は、互いのゲート同士がワード線方向で対向するように配置される。従って、隣接する駆動回路61のMOSトランジスタ67、70はソースを共有することが出来、素子分離領域STIが不要となる。素子分離領域STIが不要となる結果、ワード線ドライバ回路60の面積を小さく出来る。また素子分離領域STIを設ける場合にはフィールド耐圧やパンチスルー耐圧の問題が発生するが、このような点に考慮する必要が無い。
次にこの発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。本実施形態は、上記第1の実施形態においてWDRV駆動回路及びVNN駆動回路を、ワード線方向に複数段に並べたものである。なお以下では第1の実施形態と異なる点のみ説明する。図17は、本実施形態に係るワード線ドライバ回路60のブロック図である。
ロウデコーダ50は、ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDO((m−1)/2)を出力する。各ロウアドレスデコード信号/RDO0〜/RDO((m−1)/2)は、それぞれ2本のワード線毎に与えられる。そして、ワード線WLh、WL(h+1)のいずれか(h=0、2、4、…(m−1))が選択される際に、ロウアドレスデコード信号/RDO(h/2)が“L”レベルとされる。すなわち、ワード線WL0、WL1のいずれかが選択される際にはロウアドレスデコード信号/RDO0が“L”レベルとされ、ワード線WL2、WL3のいずれかが選択される際にはロウアドレスデコード信号/RDO1が“L”レベルとされる。
ワード線ドライバ回路60は、図17に示すように、ワード線WL0〜WLm毎に設けられたWDRV駆動回路61−0〜61−m及びVNN駆動回路62−0〜62−mを備えている。WDRV駆動回路61−0〜61−m及びVNN駆動回路62−0〜62−mはワード線方向にそれぞれ2段に設けられている。すなわち、WDRV駆動回路61−hがビット線方向に1列に配置され、WDRV駆動回路61−(h+1)がWDRV駆動回路61−hにワード線方向で隣接してビット線方向に1列に配置されている。またVNN駆動回路62−(h+1)がビット線方向に1列に配置され、VNN駆動回路62−(h+1)がVNN駆動回路62−hにワード線方向で隣接してビット線方向に1列に配置されている。
WDRV駆動回路61−h、61−(h+1)及びVNN駆動回路61−h、61−(h+1)には、ロウアドレスデコード信号/RDO((h−1)/2)が入力される。すなわち、WDRV駆動回路61−0、61−1及びVNN駆動回路62−0、62−1にはロウアドレスデコード信号/RDO0が入力され、WDRV駆動回路61−2、61−3及びVNN駆動回路62−2、62−3にはロウアドレスデコード信号/RDO1が入力され、WDRV駆動回路61−(m−1)、61−m及びVNN駆動回路62−(m−1)、62−mにはロウアドレスデコード信号/RDO((m−1)/2)が入力される。
更に、VNN駆動回路62−0〜62−mはVNNノードに接続される。また偶数ワード線WL0、WL2、WL4、…に接続されるWDRV駆動回路61−0、61−2、61−4、…はWDRV0ノードに接続され、奇数ワード線WL1、WL3、WL5、…に接続されるVNN駆動回路62−1、62−3、62−5、…はWDRV1ノードに接続される。WDRV0ノード及びWDRV1ノードはロウデコーダ50により選択される。すなわち、偶数ワード線が選択される際には、ロウデコーダ50はWDRV0ノードに例えば1.5Vを与え、WDRV1ノードに0Vを与える。逆に奇数ワード線が選択される際には、ロウデコーダ50はWDRV0ノードに0Vを与え、WDRV1ノードに1.5Vが与えられる。
次に、上記ワード線ドライバ回路60の内部構成について図18及び図19を用いて説明する。図18はワード線WL0〜WL3に対応したWDRV駆動回路ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64の回路図である。また図19は図18に対応する領域の平面図である。以下ではWDRV駆動回路61−0〜61−3及びVNN駆動回路62−0〜62−3についてのみ説明するが、その他のWDRV駆動回路61−4〜61−m及びVNN駆動回路62−4〜62−mも同様の構成である。
図示するように、素子分離領域STI1を挟んで隣接するWDRV駆動回路61−1、61−3とVNN駆動回路62−1、62−3は、第1の実施形態で説明した図3及び図4と同一の構成である。すなわち図3及び図4においてWDRV駆動回路61−0、61−1及びVNN駆動回路62−0、62−1を、それぞれWDRV駆動回路61−1、61−3及びVNN駆動回路62−1、62−3に置き換えた構成を有している。そして金属配線層131、132はそれぞれワード線WL1、WL3に接続される。また金属配線層110、111、114、115、116〜118はWDRV1ノードに接続され、金属配線層121、122、124、125、126〜128はVNNノードに接続される。
素子分離領域STI2を挟んでWDRV駆動回路61−1、61−3に隣接するWDRV駆動回路61−0、61−2は、WDRV駆動回路61−1、61−3に対して左右対称の平面パターンを有している。換言すれば、WDRV駆動回路61−1、61−3とWDRV駆動回路61−0、61−2とは、素子分離領域STI2上においてビット線方向に沿った軸を中心に線対称となる平面パターンを有している。そして両者は素子分離領域STI2上に形成された配線層94、95を共有する。従って、両者が有するゲート電極81同士、82同士、92同士は配線層94によって接続され、ゲート電極83同士、84同士は配線層95によって接続される。そしてWDRV駆動回路61−0、61−2においては、金属配線層131、132はそれぞれワード線WL0、WL2に接続され、金属配線層110、111、114、115、116〜118はWDRV0ノードに接続される。なお、ゲート電極81、82は、素子分離領域STI3上に形成された配線層150によっても共通接続される。更にゲート電極83、84、93は、素子分離領域STI4上に形成された配線層151によって共通接続される。
素子分離領域STI4を挟んでVNN駆動回路62−1、62−3に隣接するVNN駆動回路62−0、62−2は、VNN駆動回路62−1、62−3に対して左右対称の平面パターンを有している。換言すれば、VNN駆動回路62−1、62−3とVNN駆動回路62−0、62−2とは、素子分離領域STI4上においてビット線方向に沿った軸を中心に線対称となる平面パターンを有している。そして両者は素子分離領域STI4上に形成された配線層104、105を共有する。従って、両者が有するゲート電極81同士、82同士、103同士は配線層104によって接続され、ゲート電極83同士、84同士は配線層105によって接続される。そしてVNN駆動回路62−0、62−2においては、金属配線層131、132はそれぞれワード線WL0、WL2に接続され、金属配線層121、122、124、125、126〜128はVNNノードに接続される。なお、ゲート電極81、82は、素子分離領域STI5上に形成された配線層160によっても共通接続される。更にゲート電極83、84、93は、素子分離領域STI5上に形成された配線層161によって共通接続される。
従って、WDRV駆動回路61−0〜61−3とVNN駆動回路62−0〜62−3とは、素子分離領域STI1上においてビット線方向に沿った軸を中心に線対称となる平面パターンを有している。
従って、WDRV駆動回路61−0〜61−3とVNN駆動回路62−0〜62−3とは、素子分離領域STI1上においてビット線方向に沿った軸を中心に線対称となる平面パターンを有している。
次に上記構成のワード線ドライバ回路60の動作について図20を用いて説明する。図20は、データの読み出し時または書き込み時におけるワード線ドライバ回路60の回路図である。以下では、説明の簡単化のためにワード線が4本(WL0〜WL3)であり、そのうちのワード線WL0が選択される場合を例に挙げて説明する。
図示するように、ロウデコーダ50はロウアドレス信号に従ってワード線WL0を選択し、ロウアドレスデコード信号/RDO0を“L”レベル、/RDO1を“H”レベルとする。更にロウデコーダ50はロウアドレス信号に従ってWDRV0ノードを“H”レベル(1.5V)とし、WDRV1ノードを“L”レベル(0V)とする。ロウアドレスデコード信号/RDO0が“L”レベルとされたことで、VNN駆動回路62−0、62−1におけるMOSトランジスタ71〜73がオフ状態、WDRV駆動回路61−0、61−1におけるMOSトランジスタ65〜67がオン状態とされる。その結果ワード線WL0には、WDRV駆動回路61−0のMOSトランジスタ65〜67の電流経路を介してWDRV0ノードから1.5Vが与えられる。またワード線WL1には、WDRV駆動回路61−1のMOSトランジスタ65〜67の電流経路を介してWDRV1ノードから0Vが与えられる。
またロウアドレスデコード信号/RDO1が“H”レベルとされたことで、VNN駆動回路62−2、62−3におけるMOSトランジスタ74〜76がオン状態、WDRV駆動回路61−2、61−3におけるMOSトランジスタ68〜70がオフ状態とされる。その結果ワード線WL2には、VNN駆動回路61−2のMOSトランジスタ74〜76の電流経路を介してVNNノードから0Vが与えられる。またワード線WL3には、VNN駆動回路62−3のMOSトランジスタ74〜76の電流経路を介してVNNノードから0Vが与えられる。
上記のように、この発明の第2の実施形態に係るメモリであると、第1の実施形態で説明した(1)、(2)の効果に加えて、下記(3)、(4)の効果が得られる。
(3)ワード線ドライバ回路60を微細化出来る(その2)。
本実施形態に係るワード線ドライバ回路60であると、WDRV駆動回路ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64(以下、これらを駆動回路ユニット63と呼ぶことがある)を、ワード線方向に沿って複数段に配置している。従って、ワード線ドライバ回路60を微細化出来る。本効果につき以下詳細に説明する。
(3)ワード線ドライバ回路60を微細化出来る(その2)。
本実施形態に係るワード線ドライバ回路60であると、WDRV駆動回路ユニット63及びVNN駆動回路ユニット64(以下、これらを駆動回路ユニット63と呼ぶことがある)を、ワード線方向に沿って複数段に配置している。従って、ワード線ドライバ回路60を微細化出来る。本効果につき以下詳細に説明する。
前述の通り、WDRV駆動回路及びVNN駆動回路のピッチはメモリセルのピッチより大きいことが一般的である。すると、これらをビット線方向に一列に配置した場合、ワード線ドライバ回路60のビット線方向のサイズは、メモリセルアレイ10のビット線方向のサイズよりも大きくなる。図21はこのような場合の様子を示しており、メモリセルMCと駆動回路ユニット63のブロック図である。図21では駆動回路ユニット63のピッチMが、メモリセルMCのピッチLの4倍である例を示している。このような場合に駆動回路ユニット63をビット線方向に一列に配置すると、ワード線ドライバ回路60のビット線方向のサイズは、メモリセルアレイ10のビット線方向のサイズの約2倍にもなる。
しかし本実施形態であると、駆動回路ユニット63はワード線方向に複数段に配置される。図22はこのような場合のメモリセルMCと駆動回路ユニット63のブロック図である。図示するように、駆動回路ユニット63のピッチMがメモリセルMCのピッチLの4倍であるとき、駆動回路ユニット63をワード線方向に沿って2段に配置することで、ワード線ドライバ回路60のビット線方向のサイズは、メモリセルアレイ10のビット線方向のサイズとほぼ等しくなる。その結果、ワード線ドライバ回路60を微細化出来る。
なお、図22の場合には、図21の場合に比べてワード線ドライバ回路60のワード線方向のサイズが大きくなる。しかし第1の実施形態で説明したように、駆動回路61の幅Wを従来よりも小さく出来るため、その影響は小さくて済む。
(4)ワード線ドライバ回路60を微細化出来る(その3)。
本実施形態に係るワード線ドライバ回路60であると、隣接するWDRV駆動回路ユニット63同士、及び隣接するVNN駆動回路ユニット64同士が左右対称のパターンを有している。従ってワード線ドライバ回路60を微細化出来る。本効果について図23を用いて説明する。図23はワード線ドライバ回路60の平面図であり、特にゲート電極とそれと同層にある配線層の平面パターンを示している。
本実施形態に係るワード線ドライバ回路60であると、隣接するWDRV駆動回路ユニット63同士、及び隣接するVNN駆動回路ユニット64同士が左右対称のパターンを有している。従ってワード線ドライバ回路60を微細化出来る。本効果について図23を用いて説明する。図23はワード線ドライバ回路60の平面図であり、特にゲート電極とそれと同層にある配線層の平面パターンを示している。
図示するように、隣接する素子領域AA1、AA2間の素子分離領域STI1上においてビット線に沿った方向をY1軸、隣接する素子領域AA1、AA1間の素子分離領域STI2上においてビット線に沿った方向をY2軸、隣接する素子領域AA2、AA2間の素子分離領域STI4上においてビット線に沿った方向をY3軸と呼ぶことにする。すると、隣接する素子領域AA1、AA2上のゲート電極、すなわち奇数ワード線に接続されるWDRV駆動回路ユニット63とVNN駆動回路ユニット64に含まれるMOSトランジスタのゲート、の平面パターンは、Y1軸に対して対称である。従って、両者に含まれるゲート電極81〜83、93を共用出来る。
また、隣接する素子領域AA1、AA1上のゲート電極、すなわち奇数ワード線に接続されるWDRV駆動回路ユニット63と偶数ワード線に接続されるWDRV駆動回路ユニット63に含まれるMOSトランジスタのゲート、の平面パターンは、Y2軸に対して対称である。従って、両者に含まれるゲート電極81〜84、92を共用出来る。つまり両者は素子分離領域STI2上の配線層94、95によりそれぞれ共通接続される。
更に、隣接する素子領域AA2、AA2上のゲート電極、すなわち奇数ワード線に接続されるVNN駆動回路ユニット64と偶数ワード線に接続されるVNN駆動回路ユニット64に含まれるMOSトランジスタのゲート、の平面パターンは、Y3軸に対して対称である。従って、両者に含まれるゲート電極81〜84、103を共用出来る。つまり両者は素子分離領域STI4上の配線層104、105によりそれぞれ共通接続される。
このように、ワード線方向で隣接するゲート電極を共用することが出来るため、素子分離領域STI1、STI2、STI3の幅を小さくすることが出来る。その結果、ワード線ドライバ回路60を微細化出来る。
このように、ワード線方向で隣接するゲート電極を共用することが出来るため、素子分離領域STI1、STI2、STI3の幅を小さくすることが出来る。その結果、ワード線ドライバ回路60を微細化出来る。
以上のように、この発明の第1、第2の実施形態に係る半導体記憶装置であると、ワード線を駆動するWDRV駆動回路及びVNN駆動回路の各々は、電流経路が並列接続され、且つゲートが共通接続された奇数個のMOSトランジスタを備えている。奇数個のMOSトランジスタの配列のうち、端部に位置し、且つ隣接するMOSトランジスタとソースを共用するMOSトランジスタにつき、ドレインを素子領域内において島状に形成している。そして、島状のドレインの周囲を取り囲むようにしてゲートが形成され、更にその外側を取り囲むようにしてソースが形成されている。その結果、奇数個のMOSトランジスタの配列の両端部にはソースが位置する。そのため、隣接するWDRV駆動回路間及び隣接するVNN駆動回路間に素子分離領域を形成する必要が無く、半導体記憶装置を微細化出来る。
なお上記実施形態では、WDRV駆動回路及びVNN駆動回路が3個のMOSトランジスタを含む場合を例に説明した。しかし3個に限られず、例えば図24及び図25に示すように5個でも良いしそれ以上でも良い。図24及び図25はWDRV駆動回路の回路図及び平面図である。また上記実施形態ではDRAMを例に挙げて説明したが、例えば強誘電体メモリやMRAMなど、その他の半導体メモリに広く適用出来る。
なお、本願発明は上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。更に、上記実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出されうる。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出されうる。
1…半導体メモリ、10…メモリセルアレイ、20…カラムセレクタ、30…カラムデコーダ、40…センスアンプ、50…ロウデコーダ、60…ワード線ドライバ回路、61−0〜61−m…WDRV駆動回路、62−0〜62−m…VNN駆動回路、63…WDRV駆動回路ユニット、64…VNN駆動回路ユニット、65〜70…pチャネルMOSトランジスタ、71〜76…nチャネルMOSトランジスタ、80…半導体基板、81〜84、92、103…ゲート電極、85、86、90、93、96、97、101、102…ドレイン領域、87〜89、98〜100…ソース領域、94、95、104〜107…配線層、108、110〜115、119〜122、126〜132…金属配線層
Claims (5)
- 複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイにおいて同一行にある前記メモリセルを共通接続するワード線と、
前記ワード線のいずれかを選択し、選択信号を出力するロウデコーダと、
前記ワード線毎に設けられ且つ前記ロウデコーダによって選択された前記ワード線に駆動電圧を印加する第1駆動回路と、前記ワード線毎に設けられ且つ非選択の前記ワード線を接地する第2駆動回路とを備えるワード線駆動回路と
を具備し、前記第1駆動回路は、前記選択信号が与えられ、且つ共通接続された第1乃至第3ゲート電極と、
前記第1、第2ゲート電極間に形成され、対応する前記ワード線に接続された第1ドレイン領域と、
前記第1、第2ゲート電極を挟むようにして形成され、前記駆動電圧を与える駆動電圧線に接続された第1ソース領域と、
前記第3ゲート電極によって周囲を取り囲まれるようにして形成され、対応する前記ワード線に接続された第2ドレイン領域と、
前記第1ソース領域に接し、且つ前記第3ゲート電極の周囲を取り囲むようにして形成され、前記駆動電圧線に接続された第2ソース領域と
を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイにおいて同一行にある前記メモリセルを共通接続するワード線と、
前記ワード線のいずれかを選択し、選択信号を出力するロウデコーダと、
2本のワード線毎に設けられ且つ前記ロウデコーダによって選択された前記ワード線に駆動電圧を印加する第1駆動回路と、2本のワード線毎に設けられ且つ非選択の前記ワード線を接地する第2駆動回路とを備えるワード線駆動回路と
を具備し、前記第1駆動回路は、
前記選択信号が与えられ、且つ共通接続された第1乃至第3ゲート電極と、
前記第1、第2ゲート電極間に形成され、対応する2本の前記ワード線の一方に接続された第1ドレイン領域と、
前記第1、第2ゲート電極を挟むようにして形成され、前記駆動電圧を与える駆動電圧線に接続された第1ソース領域と、
前記第3ゲート電極によって周囲を取り囲まれるようにして形成され、対応する2本の前記ワード線の一方に接続された第2ドレイン領域と、
前記第1ソース領域に接し、且つ前記第3ゲート電極の周囲を取り囲むようにして形成され、前記駆動電圧線に接続された第2ソース領域と、
前記選択信号が与えられ、互いに共通接続され、前記第1乃至第3ゲート電極と電気的に分離され、且つ前記第1乃至第3ゲート電極と並行に設けられた第4乃至第6ゲート電極と、
前記第4、第5ゲート電極間に形成され、対応する2本の前記ワード線の他方に接続された第3ドレイン領域と、
前記第4、第5ゲート電極を挟むようにして形成され、前記駆動電圧を与える駆動電圧線に接続された第3ソース領域と、
前記第6ゲート電極によって周囲を取り囲まれるようにして形成され、対応する2本の前記ワード線の他方に接続された第4ドレイン領域と、
前記第2、第3ソース領域に接し、且つ前記第4ゲート電極の周囲を取り囲むようにして形成され、前記駆動電圧線に接続された第4ソース領域と
を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記メモリセルアレイにおいて同一列にある前記メモリセルを共通接続するビット線を更に備え、
前記第1駆動回路における前記第1乃至第3ゲート電極は、前記ビット線に沿った方向に順次設けられ、
前記第1駆動回路は、前記ワード線に沿った方向に配列される
ことを特徴とする請求項1または2記載の半導体記憶装置。 - 前記ワード線に沿って隣接する2つの前記第1駆動回路の備える前記第1乃至第3ゲート電極は、該2つの第1駆動回路間における前記ビット線に沿った軸について線対称に配置される
ことを特徴とする請求項3記載の半導体記憶装置。 - 複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイにおいて同一行にある前記メモリセルを共通接続するワード線と、
前記メモリセルアレイにおいて同一列にある前記メモリセルを共通接続するビット線と、
前記ワード線のいずれかを選択し、選択信号を出力するロウデコーダと、
前記ワード線毎に設けられ、且つ前記ロウデコーダによって選択された前記ワード線に駆動電圧を印加し、前記ビット線方向に沿って配置された駆動回路と
を具備し、前記駆動回路は、前記ビット線方向に沿って配置された複数の奇数個のMOSトランジスタを含むトランジスタ群を備え、
前記トランジスタ群に含まれる前記MOSトランジスタは、隣接するもの同士でソースまたはドレインを共有し、ゲートが共通接続されて前記選択信号が与えられ、ドレインが対応する前記ワード線に接続され、ソースが前記駆動電圧を与える駆動電圧線に接続され、
前記トランジスタ群のうち、前記ビット線方向における端部に配置され、且つ隣接するものとソースを共有するいずれかのMOSトランジスタのドレインは、該MOSトランジスタのゲートに周囲を取り囲まれ、且つ該ゲートの周囲を該MOSトランジスタのソースが取り囲み、
前記ビット線方向で隣接する駆動回路は、前記トランジスタ群のうち前記ビット線方向における端部に配置された前記MOSトランジスタのソースを共有する
ことを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006055254A JP2007234892A (ja) | 2006-03-01 | 2006-03-01 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006055254A JP2007234892A (ja) | 2006-03-01 | 2006-03-01 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007234892A true JP2007234892A (ja) | 2007-09-13 |
Family
ID=38555164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006055254A Pending JP2007234892A (ja) | 2006-03-01 | 2006-03-01 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007234892A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013539917A (ja) * | 2010-10-08 | 2013-10-28 | クアルコム,インコーポレイテッド | 均一なパターンを有する磁気ランダムアクセスメモリ(mram)の配置 |
-
2006
- 2006-03-01 JP JP2006055254A patent/JP2007234892A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013539917A (ja) * | 2010-10-08 | 2013-10-28 | クアルコム,インコーポレイテッド | 均一なパターンを有する磁気ランダムアクセスメモリ(mram)の配置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4398195B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP4632287B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP4149170B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP4660564B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7259977B2 (en) | Semiconductor device having hierarchized bit lines | |
EP0712132A2 (en) | Semiconductor memory | |
TWI783687B (zh) | 記憶體子字驅動器電路及佈局 | |
JP2005293759A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2004158802A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US10121531B2 (en) | Semiconductor memory | |
JP4575118B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 | |
US7804700B2 (en) | Semiconductor memory device with reduced coupling noise | |
CN108431894B (zh) | 半导体存储装置 | |
JP2009033029A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7031179B2 (en) | Bit cell array for preventing coupling effect in read only memory | |
US20110220968A1 (en) | Device | |
JP2007234892A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP3557051B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR20210091479A (ko) | 페이지 버퍼를 구비하는 반도체 메모리 장치 | |
JP4874627B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2007250128A (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR20210028886A (ko) | 캐시 래치 회로를 구비하는 반도체 메모리 장치 | |
JP2003007852A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2008084439A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP3073511B2 (ja) | ダイナミック型半導体記憶装置 |