JP2007224411A - 微細回路用銅箔 - Google Patents

微細回路用銅箔 Download PDF

Info

Publication number
JP2007224411A
JP2007224411A JP2006212584A JP2006212584A JP2007224411A JP 2007224411 A JP2007224411 A JP 2007224411A JP 2006212584 A JP2006212584 A JP 2006212584A JP 2006212584 A JP2006212584 A JP 2006212584A JP 2007224411 A JP2007224411 A JP 2007224411A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
layer
foil
copper foil
fine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006212584A
Other languages
English (en)
Inventor
Sang Gyum Kim
キム,サンギュン
Sung Jun Choi
チェ,センジュン
Jeong Ik Kim
キム,ジェンンイ
Jin Kyu Yang
ヤン,ジンキュ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LS Cable and Systems Ltd
Original Assignee
LS Cable Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LS Cable Ltd filed Critical LS Cable Ltd
Publication of JP2007224411A publication Critical patent/JP2007224411A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

【課題】 微細印刷回路用銅箔のキャリア箔を用いて製造する方法は、設備が大きくなり、接合界面層の残留物が悪影響を及ぼす可能性があり、ハーフエッチングを用いた製造方法は、エッチング後の銅層が均一な表面粗度を持てないため、微細回路形成に不利である。本発明は微細回路用銅箔に関し、より詳しくは製造が容易でありその厚さが薄く、かつ、均一な表面粗度を有する微細回路用銅箔を提供する。
【解決手段】 本発明の微細回路用銅箔は、純粋な銅よりエッチング速度の早い銅合金層と、純粋な銅でなる銅層と、を備える。
【選択図】 図5

Description

本発明は微細回路用銅箔に関し、さらに詳しくは製造が容易でありその厚さが薄く、均一な表面粗度を有する微細回路用銅箔に関する。
一般に、PCB(Printed Circuit Board)とは多種多数の部品をフェノール樹脂またはエポキシ樹脂でなる平板上に密集させ載置し、各部品間を連結する回路を樹脂平板の表面に密集短縮して固定させた印刷回路基板を言う。PCBはフェノール樹脂絶縁板またはエポキシ樹脂絶縁板などのようなプリプレグの一側面に銅などの銅箔を付着させた後、回路の配線パターンに従ってエッチング(線状の回路だけ残して腐食させ除去する)し、必要な回路を構成して部品を付着載置させるための孔を開けて製造する。
一方、微細印刷回路用銅箔はキャリア箔を用いて製造する方法とハーフエッチングを用いて製造する方法がある。
前記キャリア箔を用いて製造する方法は、図1及び図2に示されたように、キャリア箔11を酸洗処理する工程S1と、キャリア箔11に接合界面12を形成する工程S2と、接合界面12に銅層13を形成する工程S3と、銅層13に微細銅粒子14を形成する工程S4と、微細銅粒子14の脱落を防止するために被覆メッキする工程S5と、防錆処理工程S6と、乾燥処理工程S7とを含む。前記製造方法は特許文献1などに開示されている。
前記工法はキャリア箔11を酸洗処理する工程S1と、キャリア箔11に接合界面12を形成する工程S2とを含み、このために別途の設備が必要であるという短所がある。また、キャリア箔11の剥離後に接合界面12層が残留する場合には、微細回路パターン製造の際にパターン形成に悪い影響を及ぼすという問題点がある。
一方、ハーフエッチングを用いた製造方法は、図3に示されたように、エッチング後の銅層16が均一な表面粗度を持てないため、微細回路形成に不利であるという問題点を有する。
韓国特開第2003−0077028号
本発明は、前記問題点を解決するために案出されたものであり、製造が容易でありその厚さが薄く、均一な表面粗度を有するため、微細回路形成に好適な銅箔を提供することにその目的がある。
前記の目的を果たすため、本発明による微細回路用銅箔は、純粋な銅よりエッチング速度の早い銅合金層と、純粋な銅でなる銅層と、を備える。
望ましくは、前記微細回路用銅箔は銅層の上部に形成されたノジュール処理層を備える。
前記銅合金層は鉄、モリブデン、錫、亜鉛のうちの少なくともいずれか1つの元素を含むことが望ましい。
前記銅合金層と銅層の厚さの和が10μm以上であることが望ましい。
前記銅層の厚さは1μmないし9μmであることが望ましい。
このような本発明による微細回路用銅箔は、製造が容易でありその厚さが薄く、均一な表面粗度を有するため微細回路形成に好適である。
以下、本発明による微細回路用銅箔を添付された図面を参照にして詳しく説明する。これに先立ち、本明細書及び請求範囲に使われた用語や単語は通常的または辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者は自らの発明を最良の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に則して本発明の技術的な思想に応ずる意味及び概念で解釈されねばならない。したがって、本明細書に記載された実施例及び図面に示された構成は、本発明の最も望ましい一実施例に過ぎず、本発明の技術的な思想をすべて代弁するものではないため、本出願時点においてこれらを取り替えられる多様な均等物及び変形例があり得ることを理解せねばならない。
図4は本発明の望ましい実施例によって微細回路用銅箔を製造するための工法を示したフローチャートであり、図5は前記工法によって製造された微細回路用銅箔を示した断面図である。
図面を参照すれば、前記微細回路用銅箔100は銅合金層20と、銅合金層20の上部に設けられた銅層30とを備える。前記銅箔100を製造するための工法は、銅合金箔20を製造するステップS10と、銅合金箔20に銅層30をメッキするステップS20とを含む。本明細書においては、銅合金箔でなる層が銅合金箔層であるので、銅合金箔と銅合金箔層に同じ部材番号を付すことにする。
望ましくは、前記微細回路用銅箔は銅層30の上部に設けられたノジュール処理層(図示せず)を備えることができる。
前記銅合金箔20は一般的な電解銅箔設備により製造される。前記電解銅箔設備は韓国特開第2001−0075616号、第2005−0090145号、韓国登録特許第0435298号、第0298012号などにその構成及び原理が開示されている。
前記電解銅箔設備はドラム状の回転自在な陰極と、前記陰極と対向配置される鉛系陽極との間に硫酸銅溶液などを流し、電解反応を用いて陰極であるドラム表面に銅を析出させる。析出された銅は箔状態になり、ドラム表面から連続的に剥離されてワインダに巻き取られる。
前記銅合金箔20に含まれる合金のための元素はいずれを使ってもよいが、銅と合金メッキが容易であって安価な元素、例えば鉄、モリブデン、錫または亜鉛のうちの少なくともいずれか1つを合金のための元素として用いることが望ましい。
前記銅合金箔20は純粋な銅よりエッチング速度が早い。
銅合金箔20の製造が完了すると、図6に示されたように、銅合金層20に銅メッキして銅層30を形成する。前記銅メッキも、一般的な電解銅箔の表面処理設備を利用して行われるものであり、銅合金箔20を硫酸銅溶液などが収容された容器60を経由させることで銅合金箔20に銅層30を形成する。
望ましくは、前記銅合金層20と銅層30の厚さの和は10μm以上になるようにする。
前記銅合金層20と銅層30の厚さの和が10μm以上になると、十分な剛性を持ち製造された銅箔の移送、加工時の銅箔の変形を防止できる。一方、前記銅合金層20と銅層30の厚さの和が10μm未満である場合、十分な剛性を持たないため銅層が塑性変形されて使用できなくなる可能性が高い。
また、前記銅層30の厚さは1μmないし9μmの厚さであることが望ましい。もし9μmより厚ければ微細回路の形成が不可能であり、もし1μmより薄ければ銅合金層をエッチング除去するときに銅層30にピンホールなどが形成される可能性が高い。
本発明の微細回路用銅箔100は、プリプレグとの結合力を向上させるために銅層30の上部にノジュール層(図示せず)を設けるか、銅層30の銅元子がプリプレグに浸透することを防止するためにバリアー層(図示せず)を設けるか、運送及び保管工程中に大気中の水気と酸素によって酸化されることを防止するための防錆処理などが行える。前記ノジュール層の形成と、バリアー層の形成、及び防錆処理は、公知の方法によって行われ得る。
前記のような工程で製造された微細回路用銅箔100は、この後、印刷回路製造装置に移送され微細回路用基板に加工される。このとき、本発明の微細回路用銅箔100は銅合金層20と銅層30の厚さの和が10μm以上であるため、移送時銅層30に塑性変形が起きることを防止できる。
微細回路用基板を製造するためにはまず、前記銅箔を熱圧着してプリプレグの表面に銅層30を接着させた後、公知のエッチング液及び方法で銅合金層20をエッチング除去して銅層30だけを残す。
このとき、本発明の微細回路用銅箔100は、エッチングによって銅合金層20だけが選択的にエッチングされるため、図7に示されたように残留した銅層30は均一な表面粗度及び薄さを有する。
この後、公知のエッチング工程を経て微細回路を形成する。
従来技術によるキャリア箔が付着した電解銅箔を製造するための工法を示したフローチャートである。 図1の工法によって製造されたキャリア箔が付着した電解銅箔を示した断面図である。 従来技術であるハーフエッチング工法によって製造された銅箔を示した断面図である。 本発明の望ましい実施例によって微細回路用銅箔を製造するための工法を示したフローチャートである。 図4の工法によって製造された微細回路用銅箔を示した断面図である。 図4の工法で銅合金層に銅層を形成するための工程を示した構成図である。 図5の微細回路用銅箔からハーフエッチングで銅合金層を除去したものを示した断面図である。
符号の説明
20 銅合金層
30 銅層
100 微細回路用銅箔

Claims (5)

  1. 純粋な銅よりエッチング速度の早い銅合金層と、
    純粋な銅でなる銅層と、を備えることを特徴とする微細回路用銅箔。
  2. 前記銅層の上部にノジュール層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の微細回路用銅箔。
  3. 前記銅合金層には鉄、モリブデン、錫、亜鉛のうちの少なくともいずれか1つの元素を含むことを特徴とする請求項1に記載の微細回路用銅箔。
  4. 前記銅合金層と銅層の厚さの和が10μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の微細回路用銅箔。
  5. 前記銅層の厚さは1μmないし9μmであることを特徴とする請求項1に記載の微細回路用銅箔。

JP2006212584A 2006-02-21 2006-08-03 微細回路用銅箔 Pending JP2007224411A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060016814A KR100756751B1 (ko) 2006-02-21 2006-02-21 미세회로용 동박

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007224411A true JP2007224411A (ja) 2007-09-06

Family

ID=38546484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006212584A Pending JP2007224411A (ja) 2006-02-21 2006-08-03 微細回路用銅箔

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2007224411A (ja)
KR (1) KR100756751B1 (ja)
CN (1) CN101026928A (ja)
TW (1) TW200733825A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100857946B1 (ko) * 2007-01-31 2008-09-09 엘에스엠트론 주식회사 미세회로용 이층동박
JP6836580B2 (ja) * 2016-02-18 2021-03-03 三井金属鉱業株式会社 プリント配線板製造用銅箔、キャリア付銅箔及び銅張積層板、並びにそれらを用いたプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120631A (ja) * 1992-10-07 1994-04-28 Mitsubishi Materials Corp 回路基板の積層構造および回路パターンの形成方法
KR19980081867A (ko) * 1997-04-30 1998-11-25 버프어니스트디 미세회로선 형성방법
KR100495184B1 (ko) * 2002-12-02 2005-06-14 엘지마이크론 주식회사 테이프기판 및 그의 주석도금방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070084702A (ko) 2007-08-27
TW200733825A (en) 2007-09-01
CN101026928A (zh) 2007-08-29
KR100756751B1 (ko) 2007-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101067031B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR101803390B1 (ko) 캐리어 부착 극박 동박, 그리고 이것을 이용하여 제작된 구리 클래드 적층판, 프린트 배선 기판 및 코어리스 기판
KR101077380B1 (ko) 인쇄회로기판 및 그 제조방법
KR20060105412A (ko) 양면 배선 보드 제조 방법, 양면 배선 보드 및 그 기재
JP2010118662A (ja) 印刷回路基板及びその製造方法
JP2009021581A (ja) プリント配線板製造用の埋設銅めっき方法及びその埋設銅めっき方法を用いて得られるプリント配線板
JP2009260216A (ja) 配線基板の製造方法
JP2010062517A (ja) ニッケル−金メッキ方法及び印刷回路基板
CN108353510B (zh) 多层印刷配线基板及其制造方法
JP2007224411A (ja) 微細回路用銅箔
JP2009094403A (ja) 配線基板及びその製造方法
JP2009188324A (ja) 配線基板及びその製造方法
JP2009021435A (ja) 配線基板の製造方法
JP2009283501A (ja) プリント配線板の製造方法およびその方法により製造されたプリント配線板
KR100857946B1 (ko) 미세회로용 이층동박
JP2015090980A (ja) 複合金属フィルムおよびこれを用いるプリント回路基板の回路パターン形成方法
JP4900353B2 (ja) プリント配線板の製造方法
JP4894835B2 (ja) プリント配線板の製造方法
JP3543348B2 (ja) 多層配線板の製造法
WO2016194241A1 (ja) 配線用基板の製造方法
JP2012186211A (ja) プリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層板
WO2010021278A1 (ja) 熱膨張係数の異なる樹脂フィルムを積層させた多層積層回路基板
JP2004228108A (ja) 積層箔
KR20150018022A (ko) 인쇄회로기판용 적층재, 이를 이용한 인쇄회로기판 및 그 제조 방법
US20160372409A1 (en) Circuit board structure

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090721

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091020

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091026

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100302